CN105093384A - 光导板以及用于形成光导板的方法 - Google Patents
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Abstract
本发明为光导板以及用于形成光导板的方法。所提供的是一种方法,其包括向光导板传送电磁波。光导板包括正面硬涂敷层、基板和背面硬涂敷层。电磁波首先经过正面硬涂敷层、然后经过基板并且然后经过背面硬涂敷层来传送。
Description
技术领域
一般来说,本技术领域涉及光导板。
背景技术
通过当前过程所形成的光导板能够具有不一致和不均匀涂敷,其影响光导板的防划伤能力、耐磨性、光分布和效能。例如,当前涂敷过程将硬涂敷直接施加到光导板的扩散图案上。必须精确地控制这类涂敷过程,以便使涂敷层的质量保持一致。
发明内容
本公开的各个实施例配置成通过提供允许硬涂敷层到光导板上的一步转印(one-steptransfer)的方法,来改进光导板的涂敷的一致性和均匀性。一步转印使硬涂敷的厚度的不均匀性为最小。
示范方法组合涂敷材料的固化性质和光导基板的滤光效应。光导板的一侧上的硬涂敷能够被完全聚合,以及另一侧上的硬涂敷能够因从光导基板的吸收而部分固化或者非固化。压纹过程能够应用于部分固化和软态涂敷,以便将微米/纳米扩散点转印到其上。对于非固化涂敷,扩散点图案能够经过光刻过程来转印。
某些光导板基板材料具有使硬涂敷材料固化所要求的波长的强吸收。由于这个过滤效应,直接面向固化源的硬涂敷层被完全聚合,但是对面的硬涂敷层被部分聚合并且处于软态。处于软态中,压纹模塑过程能够用来将微米/纳米结构转印到硬涂敷层上。对面的硬涂敷层能够通过由光导基板透射的波长或者通过热进一步聚合。
该方法包括一次性涂敷过程、例如浸涂和流涂,以在一步中涂敷光导基板的两个层。另外,微米/纳米扩散点能够通过仅一步来转印到硬涂敷层。这避免采用其中扩散点通过附加硬涂敷层来涂敷的方法来形成的光导板上的不一致性和不均匀涂敷。
按照一个示范实施例,一种方法包括将电磁波向光导板传送第一时间期间。光导板包括正面硬涂敷层、基板和背面硬涂敷层。电磁波首先经过正面硬涂敷层、然后经过基板并且然后经过背面硬涂敷层来传送。
基板包括其特征在于透射光谱的基板材料。透射光谱包括吸收带和透射带。正面硬涂敷层和背面硬涂敷层的各个包括硬涂敷材料。硬涂敷材料的特征在于聚合光谱(polymerizationspectrum)。聚合光谱包括吸收带中的第一固化波长区以及透射带中的第二固化波长区。电磁波的特征在于辐射输出光谱。辐射输出光谱包括与第一固化波长区至少部分重叠的第一激发波长区以及与第二固化波长区至少部分重叠的第二激发波长区。
前面所述广义地概述了各个实施例的方面和特征的一部分,其应当被理解为只是说明本公开的各种潜在应用。其它有益结果能够通过按照不同方式应用所公开信息或者通过组合所公开实施例的各个方面来得到。相应地,除了通过权利要求书所限定的范围之外,其它方面和更全面了解还可通过参照结合附图对示范实施例的详细描述来得到。
按照本公开的一个方面,提供一种方法,包括:
向光导板传送电磁波第一时间期间,所述光导板包括:
正面硬涂敷层;
基板;以及
背面硬涂敷层,其中所述电磁波首先经过所述正面硬涂敷层、然后经过所述基板、并且然后经过所述背面硬涂敷层来传送;
其中所述基板包括特征在于透射光谱的基板材料,所述透射光谱包括吸收带和透射带;
所述正面硬涂敷层和所述背面硬涂敷层的各个包括硬涂敷材料,所述硬涂敷材料的特征在于聚合光谱,所述聚合光谱包括所述吸收带中的第一固化波长区和所述透射带中的第二固化波长区;以及
所述电磁波的特征在于辐射输出光谱,所述辐射输出光谱包括与所述第一固化波长区至少部分重叠的第一激发波长区和与所述第二固化波长区至少部分重叠的第二激发波长区。
按照一个方面的方法,其中,所述电磁波由定位成面向所述正面硬涂敷层的电磁固化装置来传送。
按照一个方面的方法,其中,所述电磁波包括紫外光谱中的波长。
按照一个方面的方法,其中,所述电磁波包括红外光谱中的波长。
按照一个方面的方法,其中,所述电磁波在所述第一固化波长区和所述第二固化波长区来引发所述正面硬涂敷层中的聚合。
按照一个方面的方法,其中,所述基板吸收所述电磁波的所述第一激发波长区,并且透射所述电磁波的所述第二激发波长区。
按照一个方面的方法,其中,所述电磁波在所述第二固化波长区来引发所述背面硬涂敷层中的聚合。
按照一个方面的方法,其中,所述正面硬涂敷层在所述第一时间期间结束时被完全聚合。
按照一个方面的方法,其中,所述背面硬涂敷层在所述第一时间期间结束时被部分聚合。
按照一个方面的方法,包括在所述第一时间期间结束之后将模具压入所述背面硬涂敷层。
按照一个方面的方法,其中,所述模具具有微米结构或纳米结构。
按照一个方面的方法,包括向所述光导板传送电磁波第二时间期间,其中所述第二时间期间是在所述第一时间期间之后。
按照一个方面的方法,其中,所述背面硬涂敷层在所述第二时间期间结束时被完全聚合。
按照一个方面的方法,包括施加一次性涂敷,以便将所述正面硬涂敷层和所述背面硬涂敷层施加到所述基板。
按照一个方面的方法,其中,施加所述一次性涂敷是喷涂、流涂和浸涂其中之一。
按照一个方面的方法,其中,所述基板材料从由UVA透明聚(甲基丙烯酸甲酯)(PMMA)和标准PMMA所组成的组中来选取。
按照一个方面的方法,其中,所述基板材料是透明热塑材料。
按照一个方面的方法,其中,所述基板材料基本上吸收所述吸收带中的波长,并且基本上透射所述透射带中的波长。
按照本公开的另一个方面,提供一种从一种方法所形成的光导板,所述方法包括:
向所述光导板传送电磁波第一时间期间,所述光导板包括:
正面硬涂敷层;
基板;以及
背面硬涂敷层,其中所述电磁波首先经过所述正面硬涂敷层、然后经过所述基板、并且然后经过所述背面硬涂敷层来传送;
其中所述基板包括特征在于透射光谱的基板材料,所述透射光谱包括吸收带和透射带;
所述正面硬涂敷层和所述背面硬涂敷层的各个包括硬涂敷材料,所述硬涂敷材料的特征在于聚合光谱,所述聚合光谱包括所述吸收带中的第一固化波长区和所述透射带中的第二固化波长区;以及
所述电磁波的特征在于辐射输出光谱,所述辐射输出光谱包括与所述第一固化波长区至少部分重叠的第一激发波长区和与所述第二固化波长区至少部分重叠的第二激发波长区。
按照另一个方面的从所述方法所形成的光导板,所述方法包括施加一次性涂敷,以便将所述正面硬涂敷层和所述背面硬涂敷层施加到所述基板。
附图说明
图1是光导板、固化装置和压纹装置的示意图;
图2是图1的光导板的基板的材料的透射光谱的图;
图3是图1的光导板的硬涂敷材料的聚合光谱的图;
图4是图1的固化装置的辐射输出光谱的图;
图5是通过图2的基板来过滤的、图4的辐射输出光谱的图;
图6是按照一种示范方法、图1的光导板的正面硬涂敷层和背面硬涂敷层的聚合的图;
图7是形成图1的光导板的示范方法的流程图。
附图仅为了便于示出优选实施例,而并不是要被理解为限制本公开。给定附图的以下实现性描述,本公开的新方面对本领域的技术人员应当变得显而易见。本详细描述使用数字和字母名称来表示附图中的特征。附图和描述中的相同或相似名称已经用来表示本发明的实施例的相同或相似部件。
具体实施方式
本文根据需要公开详细实施例。必须理解,所公开实施例只是示范各种和备选形式。如本文所使用的词语“示范”广泛地用来表示用作说明、范例、模型或模式的实施例。附图不一定按比例,以及一些特征可经过放大或最小化,以示出特定组件的细节。在其它情况下,没有详细描述本领域的技术人员已知的众所周知组件、系统、材料或方法,以免影响对本公开的理解。因此,本文所公开的具体结构和功能细节不是要被理解为进行限制,而是只是作为权利要求的基础以及向本领域的技术人员进行讲授的代表性基础。
图1示出按照一个示范实施例的光导板10。一般来说,光导板10配置成通过光导板10的正面均匀地从光源来分布光。光能够通过蚀刻线、印刷点或者微粒来分布,如下面更详细描述。光源能够安装在光导板10的边缘。示范光源包括荧光灯和发光二极管(LED)。
光导板10包括基板20、正面硬涂敷层30和背面硬涂敷层40。固化装置50定位成与正面硬涂敷层30相邻并且指向其。压纹装置60定位成与背面硬涂敷层40相邻。固化装置50配置成生成和传送电磁波100。
参照图1和图2,基板20包括透明热塑材料(例如丙烯板),其基本上吸收吸收带Δλa中的波长以及基本上透射透射带Δλt中的波长。
例如,基板20包括下列一个或多个:UVA透明聚(甲基丙烯酸甲酯)(PMMA)(UVAtransparentPoly(methylmethacrylate))、标准PMMA(StandardPMMA)、乙酰苯(Acetophenone)、茴香偶姻(Anisoin)、蒽醌(Anthraquinone)、蒽醌-2-磺酸钠/银盐(Anthraquinone-2-sulfonicacidsodiumsaltmonohydrate)、(苯)三羰基铬((Benzene)tricarbonylchromium)、苯偶酰(Benzil)、升华安息香(Benzoinsublimed)、苯偶姻乙醚(Benzoinethylether)、安息香异丁基乙醚(Benzoinisobutylether)、安息香甲醚(Benzoinmethylether)、苯甲酮(Benzophenone)、苯甲酮/1-羟基环己基苯基丙酮(Benzophenone/1-Hydroxycyclohexylphenylketone)、3,3’,4,4’-二苯甲酮四甲二酐(3,3’,4,4’-Benzophenonetetracarboxylicdianhydride)、4-苯基二苯甲酮(4-Benzoylbiphenyl)、2-芐基-2-(二甲氨基)-4’-吗啉苯基(2-Benzyl-2-(dimethylamino)-4’-morpholinobutyrophenone)、4,4’-二(二乙氨基)苯四酮(4,4’-Bis(diethylamino)benzophenone)、4,4’-二(二甲氨基)苯甲酮(4,4’-Bis(dimethylamino)benzophenone)、莰醌(Camphorquinone)、2-氯噻吨-9-酮(2-Chlorothioxanthen-9-one)、(异丙基苯)环戊二烯基(II)六氟磷酸银((Cumene)cyclopentadienyliron(II)hexafluorophosphate)、二苯并环庚烯酮(Dibenzosuberenone)、2,2-二乙氧基苯己酮(2,2-Diethoxyacetophenone)、4.4’-二羟基二苯甲酮(4.4’-Dihydroxybenzophenone)、2,2-二甲氧基-2-苯基乙酰苯(2,2-Dimethoxy-2-phenylacetophenone)、4-(二甲基氨基)苯甲酮(4-(Dimethylamino)benzophenone)、4,4’-二甲基苯偶酰(4,4’-Dimethylbenzil)、2,5-二甲基苯甲酮(2,5-Dimethylbenzophenone)、3,4-二甲基二苯甲酮(3,4-Dimethylbenzophenone)、联苯(2,4,6-三甲基苯甲酰)氧化膦/2-羟基-2-甲基苯丙酮(Diphenyl(2,4,6-trimethylbenzoyl)phosphineoxide/2-Hydroxy-2-methylpropiophenone)、4’-乙氧基苯乙酮(4’-Ethoxyacetophenone)、二茂铁(Ferrocene)、3’-羟苯乙酮(3’-Hydroxyacetophenone)、4’-.羟苯乙酮(4’-Hydroxyacetophenone)、3-羟基二苯甲酮(3-Hydroxybenzophenone)、4-羟基二苯甲酮(4-Hydroxybenzophenone)、1-羟环己基苯酮(1-Hydroxycyclohexylphenylketone)、2-羟基-2-甲基苯丙酮(2-Hydroxy-2-methylpropiophenone)、2-甲基二苯四酮(2-Methylbenzophenone)、3-甲基二苯甲酮(3-Methylbenzophenone)、苯甲酰甲酸甲酯(Methybenzoylformate)、2-甲基-4’-(甲硫基)-2-吗啉基苯丙酮(2-Methyl-4’-(methylthio)-2-morpholinopropio-phenone)、菲醌(Phenanthrenequinone)、4’-苯氧基苯乙酮(4’-Phenoxyacetophenone)、噻吨-9-酮(Thioxanthen-9-one)、碳酸丙烯中的三芳基硫化盐(Triarylsulfoniumhexafluoroantimonatesaltsinpropylenecarbonate)、碳酸丙烯中的三芳基六氟磷酸硫鎓盐(Triarylsulfoniumhexafluorophosphatesaltesispropylenecarbonate)等。
基板20能够包括层。作为一个示例,基板20包括第一材料的第一层以及第二材料的第二层。第二材料基本上吸收吸收带Δλa中的波长以及基本上透射透射带Δλt中的波长。
基板20能够包括材料的组合。作为一个示例,基板20包括第一材料和第二材料的组合。第一材料基本上吸收吸收带Δλa中的波长以及基本上透射透射带Δλt中的波长。
基板20能够包括涂敷有另一种材料的材料。作为一个示例,基板20包括涂敷有第二材料的第一材料。第一材料基本上吸收吸收带Δλa中的波长以及基本上透射透射带Δλt中的波长。
如本文所述,术语“基本上”用来表示对于基板的材料,波长的吸收的百分比和透射的百分比中的哪一个更大。一般来说,透射或吸收量越极端(例如接近0%或100%),则控制正面硬涂敷层30和背面硬涂敷层40的聚合方法的能力越大,下面更详细描述。
图2示出250纳米到850纳米的范围中的UVA透明PMMA的透射光谱T(在波长λ的透射百分率(%)。一般来说,UVA透明PMMA基本上吸收340纳米以下的波长(例如0-10%透射率)以及基本上透射370纳米以上的波长(例如85-90%透射率)。相应地,对于UVA透明PMMA,吸收带Δλa包括340纳米以下的波长,以及透射带Δλt包括370纳米以上的波长。
标准PMMA基本上吸收360纳米以下的波长(例如0-10%透射率)以及基本上透射390纳米以上的波长(例如85-92%透射率)。相应地,对于标准PMMA,吸收带Δλa包括360纳米以下的波长,以及透射带Δλt包括390纳米以上的波长。
透明或吸收光谱(在波长的%吸收率)能够用来确定材料对波长的透射和/或吸收。为了清楚起见,上述材料的各个的透射和/或吸收光谱不作详细描述。但是,用于包含在基板20中的这类材料的选择如以下更详细所述来执行。
正面硬涂敷层30和背面硬涂敷层40的涂敷材料的一个功能是防止划伤基板20。另外,背面硬涂敷层40配置成通过光导板10的正面来分布来自光源的光,如下面更详细描述。
术语“正面”和“背面”不是被理解为进行限制,而是用来区分涂敷层,并且指示哪一个涂敷层与固化装置50和压纹装置60的各个相邻。
正面硬涂敷层30和背面硬涂敷层40的各个包括硬涂敷材料。图3示出硬涂敷材料的聚合光谱。一般来说,硬涂敷材料的聚合光谱包括在固化波长区的峰值。在将一个或多个固化波长(例如固化波长区中的波长)传送到硬涂敷材料时,硬涂敷材料开始聚合并且至少部分聚合(例如软化)。如果传输继续进行足够长的时间期间,则硬涂敷材料完全聚合(例如硬化或固化)。
硬涂敷材料的固化波长区一般在包括紫外UV)光谱(即,10-380纳米的波长)、可见光谱(即,380-780纳米的波长)以及红外(IR)光谱(即,700纳米到1毫米的波长)的电磁谱的一部分中。
具体来说,继续进行图2和图3,聚合光谱200包括在由260纳米的第一波长λ1、320纳米的第二波长λ2和370纳米的第三波长λ3所表示的区域的峰值(例如相对强度)。聚合光谱200的峰值表示关联硬涂敷材料的固化波长区。例如,硬涂敷材料在峰值具有聚合的更高强度。
在将波长λ1、λ2、λ3的一个或多个传送到具有聚合光谱200的硬涂敷材料时,硬涂敷材料开始聚合并且至少部分聚合(例如软化)。如果传输继续进行足够长的时间期间,则硬涂敷材料完全聚合(例如硬化或固化)。
参照图1和图4,电磁波100具有辐射输出光谱(又称作放射光谱)。辐射输出光谱的峰值存在于由称作激发波长的波长所表示的区域中。在电磁波100的激发波长区与硬涂敷材料的固化波长区相同或接近相同(例如重叠区域)的情况下,电磁波100聚合硬涂敷材料。
在某些实施例中,辐射输出光谱是固化装置50的UV灯的光谱。示范UV灯包括H灯、BT9H灯、BT9H+灯、D灯、V灯、Q灯、中压水银弧光灯等。备选地,固化装置50包括UVLED,其生成具有辐射输出光谱的电磁波100。
参照图4,作为一个示例,固化装置50包括H灯,以及辐射输出光谱300是H灯的光谱。H灯的辐射输出光谱300在260纳米的第一波长λ1、320纳米的第二波长λ2、370纳米的第三波长λ3和440纳米的第四波长λ4具有峰值。
由H灯所传送的电磁波100的辐射输出光谱300的激发波长λ1、λ2、λ3(例如关联区域)与硬涂敷材料的聚合光谱200的固化波长λ1、λ2、λ3(例如区域)相同或者接近覆盖它们。因此,电磁波100配置成聚合正面硬涂敷层30和背面硬涂敷层40的硬涂敷材料。
传送到正面硬涂敷层30的电磁波100包括辐射输出光谱300。基板20过滤传送到背面硬涂敷层40的电磁波100的辐射输出光谱300。图5示出经过滤的辐射输出光谱400,其是辐射输出光谱300乘以各波长的透射光谱T的透射百分率。传送到背面硬涂敷层40的电磁波100包括经过滤的辐射输出光谱400。
经过滤的辐射输出光谱400包括在波长λ3处的峰值,因为波长λ3落入透射带Δλt之内(即,基本上被基板20透射)。经过滤的辐射输出光谱400没有包括在波长λ1、λ2处的峰值,因为波长λ1、λ2落入吸收带Δλa之内(即,基本上被基板20吸收和过滤)。
暂时参照图2,UVA透明PMMA基本上吸收(例如,大约10%透射率或者大约80%吸收率)260纳米的波长λ1,基本上吸收(例如大约70%吸收率或者大约20%透射率)320纳米的波长λ2,以及基本上透射(例如大约75%透射率或者大约15%吸收率)370纳米的波长λ3。
正面硬涂敷层30通过在波长λ1、λ2、λ3的各个处的电磁波100来聚合。背面硬涂敷层40通过在波长λ3处的经过滤的电磁波100来聚合。
一般来说,电磁波100包括至少一个激发波长区,其与吸收带Δλa中的固化波长区至少部分重叠,以及还包括至少一个激发波长区,其与透射带Δλt中的固化波长区至少部分重叠。
相比背面硬涂敷层40的聚合,正面硬涂敷层30的聚合在更多的固化波长(例如更多固化波长区)发生。因此,参照图6,正面硬涂敷层30比背面硬涂敷层40更快地聚合。图6中,P30表示正面硬涂敷层30的聚合百分比,以及P40表示背面硬涂敷层40的聚合百分比。
参照图1,压纹装置60配置成将点或线的图案压印到背面硬涂敷层40中。例如,压纹装置60包括模具,其配置成压入背面硬涂敷层40中。压纹包括压印和丝网印刷。
现在描述用于形成光导板10的示范方法500。按照一次性涂敷步骤510,基板20涂敷有硬涂敷材料,以便同时将正面硬涂敷层30添加到基板20的一侧,并且将背面硬涂敷层40添加到基板20的另一侧。示范一次性涂敷方法包括喷涂、流涂和浸涂。
按照第一聚合步骤520,固化装置50向光导板10传送电磁波100时间期间522。固化装置50定位成与正面硬涂敷层30相邻或面向其,以及基板20处于固化装置50与背面硬涂敷层40之间,使得电磁波100首先穿过正面硬涂敷层30,然后穿过基板20,并且然后穿过背面硬涂敷层40。
电磁波100引发正面硬涂敷层30中的聚合,穿过其中对它进行过滤的基板20,并且引发背面硬涂敷层40中的聚合。电磁波100在波长λ1、λ2、λ3引发正面硬涂敷层30中的聚合,基板过滤电磁波100的波长λ1、λ2,以及经过滤的电磁波100在波长λ3引发背面硬涂敷层40中的聚合。
硬涂敷材料的聚合速度是时间期间522、固化波长区的频率以及固化波长区的数量和大小的函数。参照图6,电磁波100的波长λ1、λ2、λ3聚合正面硬涂敷层30比经过滤的电磁波的波长λ3聚合背面硬涂敷层40更快。换言之,正面硬涂敷层30以比背面硬涂敷层要快的速率进行聚合,因为施加到正面硬涂敷层30的辐射输出光谱300在聚合光谱200的固化波长区比到达背面硬涂敷层40的经过滤的辐射输出光谱400具有更多峰值。
在时间期间522结束时,正面硬涂敷层30被完全聚合(即,固化或硬化),以及背面硬涂敷层40被部分聚合(即,软化)。
按照压纹步骤530,压纹装置60将具有微米结构或纳米结构的模具压入软化的背面硬涂敷层40。
按照第二聚合步骤540,固化装置50向光导板10传送电磁波100时间期间542。正面硬涂敷层30已经聚合。电磁波100穿过正面硬涂敷层30,穿过其中对它进行过滤的基板20,并且继续进行背面硬涂敷层40的聚合。基板20过滤波长λ1、λ2,以及辐射输出波长λ3继续进行背面硬涂敷层40中的聚合。
涂敷材料的聚合速度是时间期间542和波长λ3的频率的函数。参照图6,在时间期间542结束时,背面硬涂敷层40被完全聚合(即,固化或硬化)。
在一些实施例中,硬涂敷材料包括热固化引发端基,以及热装置配置成施加热。按照备选第二聚合步骤540,热装置将热施加到背面硬涂敷层40(热固化),以聚合背面硬涂敷层40。
本书面描述使用示例来公开本发明,其中包括最佳模式,以及还使本领域的技术人员能够实施本发明,包括制作和使用任何装置或系统并且执行任何结合的方法。本发明的专利范围由权利要求书来定义,并且可包括本领域的技术人员想到的其它示例。如果这类其它示例具有与权利要求书的文字语言完全相同的结构要素,或者如果它们包括具有与权利要求书的文字语言的非实质差异的等效结构要素,则它们意在落入权利要求书的范围之内。
附图标记说明
10光导板
20基板
30硬涂敷层
40背面硬涂敷层
50固化装置
60压纹装置
100电磁波
250250纳米波长
340340纳米波长
370370纳米第三波长λ3
850850纳米波长
200光谱
300输出光谱
400输出光谱
522时间期间
542时间期间
500方法
510步骤
520步骤
530步骤
540步骤。
Claims (10)
1.一种方法,包括:
向光导板传送电磁波第一时间期间,所述光导板包括:
正面硬涂敷层;
基板;以及
背面硬涂敷层,其中所述电磁波首先经过所述正面硬涂敷层、然后经过所述基板、并且然后经过所述背面硬涂敷层来传送;
其中所述基板包括特征在于透射光谱的基板材料,所述透射光谱包括吸收带和透射带;
所述正面硬涂敷层和所述背面硬涂敷层的各个包括硬涂敷材料,所述硬涂敷材料的特征在于聚合光谱,所述聚合光谱包括所述吸收带中的第一固化波长区和所述透射带中的第二固化波长区;以及
所述电磁波的特征在于辐射输出光谱,所述辐射输出光谱包括与所述第一固化波长区至少部分重叠的第一激发波长区和与所述第二固化波长区至少部分重叠的第二激发波长区。
2.如权利要求1所述的方法,其中,所述电磁波由定位成面向所述正面硬涂敷层的电磁固化装置来传送。
3.如权利要求2所述的方法,其中,所述电磁波包括紫外光谱中的波长。
4.如权利要求2所述的方法,其中,所述电磁波包括红外光谱中的波长。
5.如权利要求1所述的方法,其中,所述电磁波在所述第一固化波长区和所述第二固化波长区来引发所述正面硬涂敷层中的聚合。
6.如权利要求5所述的方法,其中,所述基板吸收所述电磁波的所述第一激发波长区,并且透射所述电磁波的所述第二激发波长区。
7.如权利要求6所述的方法,其中,所述电磁波在所述第二固化波长区来引发所述背面硬涂敷层中的聚合。
8.如权利要求7所述的方法,其中,所述正面硬涂敷层在所述第一时间期间结束时被完全聚合。
9.如权利要求7所述的方法,其中,所述背面硬涂敷层在所述第一时间期间结束时被部分聚合。
10.如权利要求9所述的方法,包括在所述第一时间期间结束之后将模具压入所述背面硬涂敷层。
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Citations (4)
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---|---|---|---|---|
US20020068168A1 (en) * | 2000-12-04 | 2002-06-06 | Hisashi Kugimoto | Protection film for base sheet |
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Patent Citations (5)
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---|---|---|---|---|
US20020068168A1 (en) * | 2000-12-04 | 2002-06-06 | Hisashi Kugimoto | Protection film for base sheet |
CN1540411A (zh) * | 2003-04-23 | 2004-10-27 | 力特光电科技股份有限公司 | 增光膜的制法及其结构 |
WO2013095015A1 (ko) * | 2011-12-20 | 2013-06-27 | 제일모직 주식회사 | 필름 적층체의 제조 방법 및 이로부터 형성된 필름 적층체 |
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CN104508020A (zh) * | 2012-05-31 | 2015-04-08 | 株式会社Lg化学 | 制备硬涂膜的方法 |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN110578913A (zh) * | 2018-06-11 | 2019-12-17 | 通用电气照明解决方案有限公司 | 一种安装组件、照明系统和固定安装带的方法 |
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