CN105068321A - 光照射装置以及光照射方法 - Google Patents

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Abstract

提供一种光照射装置以及光照射方法,在双工作台方式中使工作台彼此不会干涉而能够高效地进行光照射处理。光照射装置具备:载置第一工件,且能够在第一待机位置与照射区域之间进行往复移动的第一工作台;载置第二工件,且能够在第二待机位置与照射区域之间进行往复移动的第二工作台;以及对第一工作台以及第二工作台的移动独立地进行控制以便第一工件和第二工件交替地通过照射区域的控制部。此处,控制部以下述方式进行控制:各工作台在照射区域内以比最大移动速度慢的移动速度移动,在照射区域外的归路以最大移动速度移动,在照射区域外的去路以使得工作台间距离不会低于预先设定的最接近距离的移动速度移动。

Description

光照射装置以及光照射方法
技术领域
本发明涉及光照射装置以及光照射方法,尤其涉及具备能够在相同轴上往复移动的两个工件工作台,并对该工件工作台上的工件交替地照射光的光照射装置以及光照射方法。
背景技术
近年来,关于以液晶面板为首的液晶显示元件的取向膜、视场角补偿薄膜的取向层等的取向处理,采用通过照射规定的波长的偏振光来进行取向的、被称为光取向的技术。
在光取向中使用的光照射装置具备:具有与光照射区域的宽度相当的长度的棒状的光源;以及使来自该光源的光偏振的偏振元件,对沿与光源的长边方向正交的方向被搬运的工件照射偏振光。
作为这样的光照射装置,例如存在专利文献1所记载的技术。该技术采用双工作台方式,具备:能够在设定于照射区域的一侧的第一工件搭载位置与照射区域之间往复移动的第一工作台;以及能够在设定于照射区域的另一侧的第二工件搭载位置与照射区域之间往复移动的第二工作台。而且,通过使第一工作台和第二工作台交替地朝照射区域移动,并对工作台上的工件照射光,由此,与仅具备一方的工作台的情况相比较生产间隔时间减少。
专利文献1:日本特开2014-174352号公报
在上述专利文献1所记载的技术中,为了实现进一步的生产间隔时间的缩短的目的,也可以形成为:与一方的工作台的归路移动(从照射区域朝工件搭载位置返回的移动)相连续,开始另一方的工作台的去路移动(从工件搭载位置朝向照射区域的移动)。
然而,各工作台在照射区域内移动的期间(照射偏振光的期间)、和在照射区域外移动的期间工作台的移动速度不同。具体而言,各工作台当在照射区域外移动而仅进行工件的搬运的情况下,能够高速移动,但当在照射区域内移动的期间,存在为了获得规定的曝光量而低速移动的情况。
因此,仅仅使一方的工作台的归路移动开始的定时与另一方的工作台的去路移动开始的定时同步的话,存在因上述的移动速度差而在工作台之间产生干涉的顾虑。
发明内容
因此,本发明的课题在于,在双工作台方式中,提供一种工作台彼此不会干涉而能够高效地进行光照射处理的光照射装置以及光照射方法。
为了解决上述课题,本发明所涉及的光照射装置的一个方式为一种光照射装置,对通过预先设定的照射区域的工件照射光,其中,具备:第一工作台,载置第一工件,且能够在通过上述照射区域的搬运轴上将从设定于上述照射区域的一侧的第一待机位置朝向上述照射区域的移动作为去路移动而进行往复移动;第二工作台,载置第二工件,且能够在通过上述照射区域的搬运轴上将从设定于上述照射区域的另一侧的第二待机位置朝向上述照射区域的移动作为去路移动而进行往复移动;以及控制部,对上述第一工作台以及上述第二工作台的移动独立地进行控制,以便上述第一工件和上述第二工件交替地通过上述照射区域,上述控制部以下述方式进行控制:上述第一工作台以及上述第二工作台在上述照射区域内以第一移动速度移动,在上述照射区域外的归路以比上述第一移动速度高速的第二移动速度移动,在上述照射区域外的去路,当工作台间距离比预先设定的最接近距离长时以上述第二移动速度移动、当上述工作台间距离为上述最接近距离以下时以上述第一移动速度移动,并且以下述方式进行控制:在上述第一工作台以及上述第二工作台中的、处于归路移动中的一方的工作台至少处于上述照射区域的期间之前,另一方的工作台开始进行去路移动。
这样,采用具备载置工件的两个工作台,且对各工件交替地照射光的所谓双工作台方式。由此,在朝一方的工作台照射光的期间,能够进行另一方的工作台的工件更换作业等。因此,与工作台仅为一个的情况相比较能够减少生产间隔时间,能够提高生产率。并且,由于使在照射区域外进行去路移动的工作台以使得工作台间距离不会低于最接近距离的移动速度移动,因此,即便当在第一工作台与第二工作台之间存在移动速度差的情况下,也能够以不会发生工作台之间的干涉且能够高效地进行光照射处理的方式使工作台移动。
并且,由于直至不发生工作台之间的干涉的位置为止以以较高的速度进行去路移动,之后使其追随先行移动的工作台,因此能够避免工作台之间的干涉并且能够使其尽早到达照射区域。因此,能够在对一方的工件进行光照射处理后立刻对另一方的工件进行光照射处理,能够实现生产间隔时间的进一步缩短。
此外,在上述的光照射装置中,也可以形成为,当上述第一工作台以及上述第二工作台中的一方的工作台在上述照射区域外正进行去路移动、且另一方的工作台正进行归路移动时,上述控制部使上述一方的工作台追随上述另一方的工作台而移动。
这样,由于使在照射区域外进行去路移动的工作台以与另一方的工作台相同的移动速度移动,因此,即便当在第一工作台与第二工作台之间存在移动速度差的情况下,也能够可靠地防止工作台之间的干涉。
并且,在上述的光照射装置中,也可以形成为,上述控制部以下述方式进行控制:当上述第一工作台以及上述第二工作台中的一方的工作台在上述照射区域外正进行去路移动、且另一方的工作台正进行归路移动时,当上述另一方的工作台的归路移动方向上的后端部位置相比上述照射区域的靠上述一方的工作台的待机位置侧的端部位置而位于上述另一方的工作台的待机位置侧时,使上述一方的工作台以上述第二移动速度移动直至到上述端部位置为止。
由此,若先行移动的工作台完全进入照射区域内,则在照射区域外进行去路移动的工作台与工作台间距离无关而直至照射区域的入口为止都能够以较高的速度移动。因此,也能够形成为对两个工件中的至少一方的工件始终进行光照射处理的状态,能够实现进一步的生产间隔时间的缩短。
此外,在上述的光照射装置中,也可以形成为,当上述第一工作台以及上述第二工作台中的一方的工作台正进行去路移动的期间,上述控制部禁止另一方的工作台的去路移动。
由此,能够在一方的工作台开始进行归路移动后再开始另一方的工作台的去路移动,能够避免两个工作台均进行去路移动的状况。因此,能够可靠地避免工作台彼此的干涉。
并且,在上述的光照射装置中,也可以形成为,当上述第一工作台以及上述第二工作台中的一方的工作台正进行去路移动的期间,上述控制部使上述另一方的工作台开始朝向目标停止位置进行去路移动,其中,上述目标停止位置设定于相对于上述一方的工作台的从去路移动朝归路移动切换的折返位置而靠另一方的工作台的待机位置侧上述最接近距离的位置,当上述另一方的工作台到达上述目标停止位置时,当上述一方的工作台正进行去路移动时,直至上述一方的工作台开始进行归路移动为止,使上述另一方的工作台在上述目标停止位置停止。
这样,当一方的工作台正进行去路移动时,开始另一方的工作台的去路移动,因此能够更高效地进行针对两个工件的光照射处理。
此外,在上述的光照射装置中,也可以形成为,还具备旋转控制部,该旋转控制部独立地控制上述第一工作台以及上述第二工作台绕相对于工作台面正交的轴的旋转,使该工作台的姿态成为光照射时的姿态,当上述第一工作台以及上述第二工作台在从各自的待机位置直至到达上述照射区域前的旋转允许位置为止的区间正进行去路移动的期间,上述旋转控制部对上述旋转进行控制。
通过像这样具备旋转控制部,例如在对工件照射偏振光的情况下,能够将工件的方向相对于偏振光的偏振光轴设置成规定的方向而进行光照射处理。并且,通过在去路移动中进行工作台的旋转控制,能够抑制生产间隔时间变长。
并且,在上述的光照射装置中,也可以形成为,当未由上述旋转控制部控制的非旋转控制对象的工作台正进行去路移动时,上述旋转允许位置设定于相比该非旋转控制对象的工作台从去路移动朝归路移动切换的折返位置而靠旋转控制对象的待机位置侧上述最接近距离的位置,当上述非旋转控制对象的工作台正进行归路移动时,上述旋转允许位置设定于相比该非旋转控制对象的工作台的位置靠上述旋转控制对象的待机位置侧上述最接近距离的位置。
由此,能够在避免工作台间的干涉的同时进行去路移动中的旋转控制。
并且,在上述的光照射装置中,也可以形成为,上述工作台间距离是上述第一工作台的去路移动方向上的前端位置与上述第二工作台的去路移动方向上的前端位置之间的沿上述搬运轴方向的距离。
这样,由于各工作台的去路移动方向上的前端位置彼此的距离设为工作台间距离,因此,即便当各工作台的形状或绕与工作台面正交的轴的旋转角度等产生差异的情况下,也能够进行避免了工作台间的干涉的工作台移动控制。
此外,在上述的光照射装置中,上述光可以是偏振光。这样,也能够应用于对工件照射偏振光而进行光取向处理的偏振光照射装置。
并且,在上述的光照射装置中,可以对上述第一工件以及上述第二工件,在去路移动和归路移动这双方照射上述光。由此,能够不浪费能量地进行光照射处理。
此外,本发明所涉及的光照射方法的一个方式涉及对通过预先设定的照射区域的工件照射光的光照射方法,其中,对第一工作台和第二工作台独立地进行控制以便第一工件和第二工件交替地通过上述照射区域,其中,上述第一工作台载置上述第一工件,且能够在通过上述照射区域的搬运轴上将从设定于上述照射区域的一侧的第一待机位置朝向上述照射区域的移动作为去路移动而进行往复移动,上述第二工作台载置上述第二工件,且能够在通过上述照射区域的搬运轴上将从设定于上述照射区域的另一侧的第二待机位置朝向上述照射区域的移动作为去路移动而进行往复移动,此时,以下述方式进行控制:上述第一工作台以及上述第二工作台在上述照射区域内以第一移动速度移动,在上述照射区域外的归路以比上述第一移动速度高速的第二移动速度移动,在上述照射区域外的去路,当工作台间距离比预先设定的最接近距离长时以上述第二移动速度移动、当上述工作台间距离为上述最接近距离以下时以上述第一移动速度移动,并且以下述方式进行控制:在上述第一工作台以及上述第二工作台中的、处于归路移动中的一方的工作台至少处于上述照射区域的期间之前,另一方的工作台开始进行去路移动。
这样,采用具备载置工件的两个工作台,且对各工件交替地照射光的所谓双工作台方式。由此,在朝一方的工作台照射光的期间,能够进行另一方的工作台的工件更换作业等。因此,与工作台仅为一个的情况相比较能够减少生产间隔时间,能够提高生产率。并且,由于使在照射区域外进行去路移动的工作台以使得工作台间距离不会低于最接近距离的移动速度移动,因此,即便当在第一工作台与第二工作台之间存在移动速度差的情况下,也能够以不会发生工作台间的干涉且能够高效地进行光照射处理的方式使工作台移动。
发明效果
在本发明的光照射装置中,在双工作台方式中,能够使进行去路移动的工作台以使得与另一方的工作台之间的工作台间距离不会低于最接近距离的移动速度移动。因此,即便当在第一工作台与第二工作台之间存在移动速度差的情况下,工作台彼此也不会干涉,能够高效地进行光照射处理。
附图说明
图1是示出本实施方式的偏振光照射装置的概略结构图。
图2是对各工作台的移动区间进行说明的图。
图3是对工作台间距离进行说明的图。
图4是对工作台间距离进行说明的图。
图5是示出第一实施方式的工作台速度控制处理顺序的流程图。
图6是对第一实施方式的动作进行说明的图。
图7是对第一实施方式的动作进行说明的图。
图8是对第一实施方式的动作进行说明的图。
图9是对第一实施方式的动作进行说明的图。
图10是对第一实施方式的动作进行说明的图。
图11是示出第二实施方式的工作台速度控制处理顺序的流程图。
图12是对第二实施方式的动作进行说明的图。
图13是对第二实施方式的动作进行说明的图。
图14是对第二实施方式的动作进行说明的图。
图15是对第三实施方式的动作进行说明的图。
图16是对第三实施方式的动作进行说明的图。
标号说明
10A、10B…光照射部;11…放电灯;12…反射镜;13…偏振单元;14…灯罩;15…照射区域;20…搬运部;21A…第一工作台;21B…第二工作台;22…引导件;23A、23B…电磁铁;24A、24B…θ移动机构;30…控制部;31…线位移传感器;100…偏振光照射装置。
具体实施方式
以下,基于附图对本发明的实施方式进行说明。
(第一实施方式)
图1是示出本实施方式的偏振光照射装置的概略结构图。
偏振光照射装置100具备光照射部10A以及10B和搬运工件W的搬运部20。这里,工件W是形成有光取向膜的、例如整形为液晶面板的大小的矩形状的基板。
偏振光照射装置100一边从光照射部10A以及10B照射规定的波长的偏振光(偏振的光)一边利用搬运部20使工件W直线移动,对工件W的光取向膜照射上述偏振光而进行光取向处理。
光照射部10A以及10B分别具备:线状的光源即灯11;以及对灯11的光进行反射的反射镜12。并且,光照射部10A以及10B分别具备配置在其光射出侧的偏振单元13。此外,光射出部10A以及10B分别具备收纳灯11、反射镜12以及偏振单元13的灯罩14。
光照射部10A以及光照射部10B以使灯11的长边方向与正交于工件W的搬运方向(X方向)的方向(Y方向)一致的状态沿着工件W的搬运方向(X方向)并排设置。
以下,对光照射部10A以及10B的具体结构进行说明。
灯11是长条状的灯,其发光部具有与工件W的正交于搬运方向的方向的宽度对应的长度。该灯11例如为高压水银灯或对水银添加了其他金属的金属卤化物灯等,放射波长200nm~400nm的紫外光。
作为光取向膜的材料,公知有借助波长254nm的光取向的材料,借助波长313nm的光取向的材料,借助波长365nm的光取向的材料等,光源的种类根据所需要的波长适当选择。
此外,作为光源,还能够使用将放射紫外光的LED或LD呈直线状地排列配置而成的线状光源。在该情况下,将LED或LD排列配置的方向相当于灯的长边方向。
反射镜12将来自灯11的放射光朝规定的方向反射,是其剖面呈椭圆形或者抛物线状的檐沟状聚光镜。反射镜12以其长边方向与灯11的长边方向一致的方式配置。
灯罩14在其底面具有供来自灯11的放射光以及由反射镜12反射的反射光通过的光射出口。偏振单元13安装于灯罩14的光射出口,使通过该光射出口的光偏振。
偏振单元13具有将多个偏振器沿灯11的长边方向排列配置而成的结构。上述多个偏振器例如由框架等支承。
偏振器例如是线栅型偏振元件,偏振器的个数根据要照射偏振光的区域的大小适当选择。此外,各偏振器分别以透射轴朝向同一方向的方式配置。
搬运部20具备分别保持工件W的第一工作台21A以及第二工作台21B。上述两个工作台21A、21B是借助真空吸附等的方法对工件W进行吸附保持的平板状的工作台。此外,在本实施方式中,将各工作台21A、21B以及工件W形成为矩形状,但并不限定于此,能够形成为任意的形状。并且,并不限于利用平板状的工作台吸附保持工件W的结构,也可以是利用多个销来吸附保持工件W的结构。
并且,搬运部20具备:沿着工作台21A以及21B的移动方向延伸的两条引导件22;以及作为一个例子而构成工作台21A以及21B的移动机构的电磁铁23A以及23B。此处,作为上述移动机构,例如采用线性马达工作台。线性马达工作台是如下的机构:在呈棋盘网格状地设置有强磁性体的凸极的平面状的台板上使移动体(工作台21A、21B)借助气体浮起,对该移动体施加磁力,并使移动体与台板的凸极之间的磁力变化,由此使该移动体移动。此外,作为上述移动机构,例如也能够采用使用了滚珠丝杠的机构。
这样,工作台21A以及21B构成为能够沿着共用的搬运轴即引导件22往复移动。
此外,搬运部20具备使工作台21A以及21B分别能够沿θ方向(绕Z轴)旋转的θ移动机构24A以及24B。即,工作台21A以及21B分别以能够沿θ方向旋转的方式安装在固定基座25A以及25B上,且其旋转角度由θ移动机构24A以及24B调整。
工作台21A以及21B的移动路径设计成通过光照射部10A以及10B的正下方。搬运部20构成为将工件W朝由光照射部10A以及10B照射偏振光的照射区域搬运,并使其通过该照射区域。此外,搬运部20构成为在工件W完全通过照射区域后使该工件W折返并使其再次通过该照射区域。在该去路移动和归路移动这双方,工件W的光取向膜被实施光取向处理。
图2是对工作台21A以及21B的移动区间进行说明的图。
第一工作台21A能够在从设定于偏振光的照射区域15的一侧的工件搭载位置即基板搭载位置(第一待机位置)P11直至设定于照射区域15的另一侧的折返位置P12为止的区间往复移动。并且,第二工作台21B能够在从夹着照射区域15设定于基板搭载位置P11的相反侧的工件搭载位置即基板搭载位置(第二待机位置)P21直至夹着照射区域15设定于折返位置P12的相反侧的折返位置P22为止的区间往复移动。
这里,对于第一工作台21A,将从基板搭载位置P11朝向折返位置P12的移动称为去路移动。同样,对于第二工作台,也将从基板搭载位置P21朝向折返位置P22的移动称为去路移动。并且,基板搭载位置是进行载置于工作台上的基板(工件W)的更换作业以及对准作业的位置,折返位置是设定于照射区域15与另一方的工作台的基板搭载位置之间的、工作台从去路移动切换至归路移动的切换位置。
例如,第一工作台21A的移动区间(P11~P12)的X方向距离L1与第二工作台21B的移动区间(P21~P22)的X方向距离L2设定为大致相等。并且,在第一工作台21A的基板搭载位置与照射区域15之间确保有即便第二工作台21B因θ方向的旋转移动而成为任意姿态也能够通过照射区域15的量以上的空间。同样,在第二工作台21B的基板搭载位置与照射区域15之间确保有即便第一工作台21A因θ方向的旋转移动而成为任意姿态也能够通过照射区域15的量以上的空间。
各工作台21A以及21B的基本动作如下。
第一工作台21A在基板搭载位置P11进行工件W的更换作业以及对准作业,在对准结束后,借助θ移动机构24A进行旋转移动。由此,使工件W的方向相对于偏振光的偏振光轴成为规定的方向。
随后,第一工作台21A开始朝向照射区域15进行去路移动。而且,若通过照射区域15而到达折返位置P12,则开始进行归路移动,返回至基板搭载位置P11。在该基板搭载位置P11,再次进行工件W的更换作业以及对准作业,在对准结束后,第一工作台21A再次开始朝向照射区域15进行去路移动。反复进行该动作。
第二工作台21B也同样,在基板搭载位置P21进行工件W的更换作业以及对准作业,在对准结束后,借助θ移动机构24B进行旋转移动而后开始朝向照射区域15进行去路移动。此时的第二工作台21B的旋转角度有时与第一工作台21A的旋转角度不同。而且,第二工作台21B若通过照射区域15而到达折返位置P22则开始进行归路移动,返回至基板搭载位置P21。反复进行该动作。
并且,对于各工作台21A以及21B,作为通常动作,从基板搭载位置朝向照射区域15的去路移动中、以及从照射区域15朝基板搭载位置返回的归路移动中的移动速度被设定为速度较高的第一移动速度(最大移动速度)V1,除此以外的区域(照射区域15内以及照射区域15与折返位置之间)的移动速度被设定为比第一移动速度V1低速的第二移动速度V2。
控制部30对工作台的移动机构即搬运部20(参照图1)的各部分进行控制以便实现上述的工作台动作。此时,控制部30从与搬运轴平行配置的线位移传感器31取得各工作台21A以及21B的位置信息,根据所取得的位置信息计算各工作台21A以及21B的速度信息。而且,控制部30基于所取得的位置信息以及计算出的速度信息,计算各工作台21A以及21B的目标移动位置以及目标移动速度,并将其朝搬运部20的各部分输出。
并且,控制部30对各工作台21A以及21B的移动速度进行控制,以便当第一工作台21A和第二工作台21B如上述那样在共用的搬运轴上反复往复移动的期间二者不会干涉。
具体而言,在一方的工作台进行去路移动的期间,仅允许另一方的工作台的归路移动而禁止去路移动。并且,对进行去路移动的工作台的移动速度进行控制,以便在一方的工作台进行归路移动、另一方的工作台在照射区域外进行去路移动的期间,X方向上的工作台间距离(后述的La)不会相比预先设定的最接近距离(后述的L0)而更接近。
这里,最接近距离L0是如下程度的富余距离:即便假设先行移动的工作台紧急停止的情况下,也能够在工作台间不发生干涉地使后续的工作台停止。该最接近距离L0例如能够基于最大移动速度即第一移动速度V1设定。
各工作台21A以及21B如上所述构成为能够沿θ方向旋转。因此,上述工作台间距离La如图3所示设为第一工作台21A的去路方向(图3的右方向)上的最前端位置P13与第二工作台21B的去路方向(图3的左方向)上的最前端位置P23之间的沿X方向的距离。
并且,各工作台21A以及21B能够独立地控制θ方向的旋转角度,如图4所示,存在第一工作台21A与第二工作台21B的旋转方向不同的情况。即便在这种情况下,也将第一工作台21A的去路方向的最前端位置P14与第二工作台21B的去路方向的最前端位置P24之间的距离设为上述工作台间距离La。
图5是示出由控制部30执行的工作台速度控制处理顺序的流程图。该图5所示的处理是控制部30在对第一工作台21A的移动速度进行控制的情况下执行的处理。此外,关于对第二工作台21B的移动速度进行控制的处理,只要将以下说明中的“第一工作台”替换为“第二工作台”、将“第二工作台”替换为“第一工作台”即可,因此在此省略说明。
首先,在步骤S1中,控制部30判定第一工作台21A是否处于归路移动中。这里,控制部30根据第一工作台21A的位置信息判定第一工作台21A的位置以及移动方向,判定第一工作台21A是否处于归路移动中。
而且,当在该步骤S1中判定为第一工作台21A处于归路移动中的情况下,过渡至步骤S2。另一方面,当判定为第一工作台21A并不处于归路移动中,即处于去路移动中、或者处于在基板搭载位置停止的期间中的情况下,过渡至步骤S3。
在步骤S2中,控制部30以使得第一工作台21A进行通常动作的方式设定目标移动速度,并将其朝第一工作台21A的移动机构输出。即,在第一工作台21A处于朝向照射区域15的去路移动中、或者从照射区域15朝基板搭载位置返回的归路移动中的情况下,将目标移动速度设定为第一移动速度V1,当处于除此以外的区域的情况下,将目标移动速度设定为第二移动速度V2。而且,将所设定的目标移动速度朝第一工作台21A的移动机构输出。
在步骤S3中,控制部30判定第二工作台21B是否处于去路移动中。这里,控制部30根据第二工作台21B的位置信息判定第二工作台21B的移动方向,判定第二工作台21B是否正进行去路移动。而且,当判定为第二工作台21B正进行去路移动的情况下,过渡至步骤S4,当判定为第二工作台21B正进行归路移动的情况下,过渡至步骤S5。
在步骤S4中,控制部30使第一工作台21A在基板搭载位置待机。即,控制部30将第一工作台21的目标移动速度设定为0以便使第一工作台21A停止,并将其朝第一工作台21A的移动机构输出,而后过渡至后述的步骤S9。
在步骤S5中,控制部30判定第一工作台21A的至少一部分是否存在于照射区域15内。而且,当第一工作台21A存在于照射区域15内的情况下过渡至步骤S2,当存在于照射区域15外的情况下过渡至步骤S6。
在步骤S6中,控制部30判定第一工作台21A与第二工作台21B之间的工作台间距离La是否比最接近距离L0长。这里,工作台间距离La如上所述是第一工作台21A的去路方向上的最前端位置与第二工作台21B的去路方向上的最前端位置之间的沿X方向的距离。各工作台的去路方向上的最前端位置通过基于工作台的位置、工作台尺寸、以及工作台的旋转角度进行计算而求出。
而且,在工作台间距离La比最接近距离L0长的情况下,判断为使第一工作台21A进行通常动作而过渡至步骤S2,当工作台间距离La达到最近接距离L0的情况下过渡至步骤S7。
在步骤S7中,控制部30计算直至第一工作台21A到达照射区域15为止的距离(照射区域到达距离Lb),并对该照射区域到达距离Lb与最接近距离L0进行比较。这里,照射区域到达距离Lb如图6所示是从第一工作台21A的去路方向上的最前端位置到照射区域15的靠第一工作台21A的基板搭载位置侧的端部位置为止的距离。对于该照射区域到达距离Lb,当第一工作台21A的最前端位置位于相比照射区域15的入口(图6的左端部位置)靠后退侧(图6的左侧)的位置时,设为Lb>0,当第一工作台21A的最前端位置位于相比照射区域15的入口靠前进侧(图6的右侧)的位置时,设为Lb=0。
而且,当照射区域到达距离Lb为最接近距离L0以上时过渡至步骤S8,当照射区域到达距离Lb比最接近距离L0短时过渡至步骤S2。
在步骤S8中,控制部30将第一工作台21A的目标移动速度设定为第二工作台21B的移动速度,以便使第一工作台21A追随第二工作台21B,并将其朝第一工作台21A的移动机构输出。
在步骤S9中,控制部30判定是否结束第一工作台21A的驱动控制,在判定为继续进行控制的情况下返回步骤S1,在判定为结束控制的情况下结束工作台速度控制处理。
以下,参照图6~图10对本实施方式的动作详细地进行说明。
在偏振光照射装置100中,如图6所示,在使第一工作台21A在基板搭载位置P11停止的状态下,进行第一工作台21A上的基板的更换作业以及该基板的对准作业。而且,当对准作业结束时,成为开始第一工作台21A的去路移动的准备完成的状态(图5的步骤S1中为否)。
此时,如图6所示,当第二工作台21B正进行去路移动的情况下(步骤S3中为是),第一工作台21A并不开始去路移动,而是在基板搭载位置待机(步骤S4)。之后,若第二工作台21B到达折返位置而开始归路移动,则第一工作台21A开始进行去路移动。即,第一工作台21A与第二工作台21B开始进行归路移动的定时同步而开始进行去路移动。
另一方面,当成为开始第一工作台21A的去路移动的准备完成的状态时,当第二工作台21B开始进行归路移动的情况下(步骤S3中为否),第一工作台21A保持原样地开始进行去路移动。
开始进行该去路移动时的第一工作台21A的移动速度基于工作台间距离La以及照射区域到达距离Lb决定。例如,如图7所示,当工作台间距离La比预先设定的最接近距离L0长的情况下(步骤S6中为是),第一工作台21A进行通常动作(步骤S2)。即,第一工作台21A以比较高速的第一移动速度V1开始进行去路移动。
第二工作台21B在归路中直至完全通过照射区域15为止,以比较低速的第二移动速度V2移动。因此,若第一工作台21A以第一移动速度V1开始进行去路移动,则第一工作台21A逐渐追上第二工作台21B。
而且,如图8所示,若在第二工作台21B的后端部(去路方向的最前端位置)进入照射区域15内之前,工作台间距离La达到最接近距离L0(步骤S6中为否,步骤S7中为是),则第一工作台21A的移动速度减速至第二移动速度V2(步骤S8)。由此,第一工作台21A在将工作台间距离La保持为最接近距离L0的状态下追随第二工作台21B。
之后,如图9所示,若第二工作台21B的后端部(去路方向的最前端位置)进入照射区域15内,照射区域到达距离Lb变得比最接近距离L0短(步骤S7中为否),则第一工作台21A的动作从第二工作台21B的追随动作切换至通常动作(步骤S2)。即,第一工作台21A的移动速度加速以便成为第一移动速度V1。
此时,由于第二工作台21B正在照射区域15内以速度较低的第二移动速度V2移动,因此通过第一工作台21A切换至通常动作而两者接近,工作台间距离La如图10所示变得比最接近距离L0短。
然而,第一工作台21A若到达照射区域15(步骤S5中为是),则使移动速度减速至第二移动速度V2(步骤S2)。因此,第一工作台21A与第二工作台21B均以第二移动速度V2移动,不会发生两者的干涉。
之后,第二工作台21B若完全通过照射区域15则加速至第一移动速度V1而朝基板搭载位置返回。此时,第一工作台21A继续以第二移动速度V2在照射区域15内移动。第一工作台21A之后若到达折返位置则过渡至归路移动,在归路中,直至返回基板搭载位置为止,与第二工作台21B的位置无关而进行通常动作。
这样,本实施方式的偏振光照射装置采用如下的所谓双工作台方式:具备能够在相同轴上往复移动的两个工件工作台(第一工作台21A以及第二工作台21B),并对该工件工作台上的基板(工件W)交替地照射偏振光。由此,在朝一方的工作台的偏振光的照射中,能够进行另一方的工作台的基板更换作业。因此,与工件工作台仅为一个的情况相比较,能够减少生产间隔时间,能够提高生产率。
并且,当一方的工作台正进行去路移动的期间,禁止另一方的工作台开始去路移动,与一方的工作台到达折返位置而开始进行归路移动的定时同步地开始另一方的工作台的去路移动,因此,能够避免两个工作台均进行去路移动的状况,能够可靠地避免工作台彼此的干涉。并且,由于能够以与一方的工作台的归路移动相连续的方式开始另一方的工作台的去路移动,因此能够进一步缩短生产间隔时间。
而且,此时,考虑到会在第一工作台21A与第二工作台21B之间存在移动速度差,根据正进行归路移动的工作台的位置、移动速度而对正在照射区域15外进行去路移动的工作台的移动速度进行控制。即,当工作台间距离La比预先设定的最接近距离L0长时,以使得正进行去路移动的工作台以第一移动速度(最大移动速度)V1移动的方式进行控制,当工作台间距离La为最接近距离L0以下时,以使得正进行去路移动的工作台与正进行归路移动的工作台以相同的移动速度移动的方式进行控制。
由此,开始进行去路移动的工作台直至工作台间距离La达到最接近距离L0为止以比较高的速度的第一移动速度V1移动,若追上正在照射区域15内以比较低的速度的第二移动速度V2进行归路移动的工作台而工作台间距离La变为最接近距离L0,则将移动速度切换至第二移动速度V2并进行移动。而且,之后,正进行去路移动的工作台将工作台间距离La维持在最接近距离L0而追随正进行归路移动的工作台。这样,开始进行去路移动的工作台能够以使得工作台间距离La不会低于最接近距离L0的方式高速地追随正进行归路移动的工作台。因此,在正进行归路移动的工作台刚刚通过照射区域之后(根据最接近距离L0,正进行归路移动的工作台正通过照射区域的时候),能够使正进行去路移动的工作台进入照射区域。因此,工作台彼此不会干涉,能够高效地进行光取向处理。
并且,由于将第一工作台21A的去路移动方向上的前端位置与第二工作台21B的去路移动方向上的前端位置之间的距离设为工作台间距离La,因此,即便在各工作台如图3或图4所示那样分别在θ方向进行旋转移动的情况下,也能够适当地避免工作台彼此的干涉。而且,此时,由于基于工作台的位置、大小、θ方向的旋转角度计算该工作台的去路移动方向上的前端位置,因此能够适当地计算出工作台间距离La。
(第二实施方式)
接下来,对本发明的第二实施方式进行说明。
在上述的第一实施方式中,在一方的工作台正进行去路移动的期间,禁止开始进行另一方的工作台的去路移动,与此相对,在该第二实施方式中,允许开始进行该另一方的工作台的去路移动。
图11是示出第二实施方式的控制部30所执行的工作台速度控制处理顺序的流程图。该图11所示的处理除了将上述的图5的步骤S4替换为步骤S11之外都进行与图5同样的处理。因此,对进行与图5同样的处理的部分标注相同的步骤编号,在此以处理的不同部分为中心进行说明。
在步骤S11中,控制部30首先设定第一工作台21A的目标停止位置。目标停止位置是从第二工作台21B的折返位置P22朝第一工作台21A的基板搭载位置侧离开规定距离(例如最接近距离L0)的位置。
接下来,控制部30判定第一工作台21A的位置是否相比目标停止位置靠该第一工作台21A的基板搭载位置侧。而且,当判定为相比目标停止位置靠基板搭载位置侧的情况下,使第一工作台21A朝向目标停止位置移动。此时的移动速度设为第一移动速度V1。另一方面,当第一工作台21A到达目标停止位置的情况下,使第一工作台21A在目标停止位置停止。
即,在本实施方式中,如图12所示,即便当第二工作台21B正进行去路移动的情况下,若第一工作台21A已在基板搭载位置完成对准处理,则能够以第一移动速度V1开始进行去路移动。但是,此时的第一工作台21A的去路移动的许可区间设为直至从第二工作台21B的折返位置P22离开最接近距离L0的目标停止位置P15为止的区间。
而且,在第一工作台21A到达目标停止位置P15前,若第二工作台21B开始进行归路移动,则进行与上述的第一实施方式同样的动作。另一方面,如图13所示,当即便第一工作台21A到达目标停止位置P15第二工作台21B仍正进行去路移动的情况下,第一工作台21A在目标停止位置P15停止,并待机直至第二工作台21B开始进行归路移动。
之后,如图14所示,若第二工作台21B到达折返位置P22而开始进行归路移动(步骤S3中为否),则第一工作台21A开始追随第二工作台21B(步骤S6中为否,步骤S8中为是)。即,第一工作台21A以与第二工作台21B相同的移动速度(第二移动速度V2)开始移动。以下的动作与上述的第一实施方式相同。
这样,在本实施方式中,即便当一方的工作台正进行去路移动的情况下,也能够开始进行另一方的工作台的去路移动。因此,能够更高效地进行针对两个工件W的光取向处理。特别是在第一移动速度V1与第二移动速度V2之间的速度差比较小的情况下、基板搭载位置相对于照射区域设定在比较远的位置的情况下等,在一方的工作台的光照射中另一方的工作台开始去路移动的做法,在该光照射中另一方的工作台难以追上一方的工作台的情况下是有效的。
并且,当一方的工作台正进行去路移动的情况下,将另一方的工作台的去路移动许可区间设为直至从另一方的工作台的折返位置朝上述一方的工作台的基板搭载位置侧离开规定距离的位置为止。因此,能够可靠地防止与正进行去路移动的另一方的工作台之间的干涉。
(第三实施方式)
接下来,对本发明的第三实施方式进行说明。
在上述的第一以及第二实施方式中,在基板搭载位置进行工作台的θ方向的旋转动作,在该旋转动作结束后开始进行去路移动,与此相对,该第三实施方式形成为一边进行θ旋转动作一边进行去路移动。
在本实施方式中,第一工作台21A以及第二工作台21B的θ旋转动作在进入照射区域15前的去路移动中、且在能够确保最接近距离L0以上的工作台间距离La的位置实施。此外,θ旋转动作所需要的时间比工作台从基板搭载位置移动至照射区域15所需的时间短。
例如,若在基板搭载位置结束了朝第一工作台21A的基板搭载,则该第一工作台21A一边进行θ旋转动作一边开始进行去路移动。此时,如图15所示,当第二工作台21B处于去路移动中的情况下,从基板搭载位置至目标停止位置P15为止的区间成为θ旋转动作可能区间。这里,目标停止位置P15是从第二工作台21B的折返位置P22朝第一工作台21A的基板搭载位置侧离开规定距离(例如,最接近距离L0)的位置。
当在第二工作台21B到达折返位置P22前第一工作台21A到达目标停止位置P15的情况下,第一工作台21A在目标停止位置P15停止而进行θ旋转动作。
这里,第一工作台21A是否到达目标停止位置P15根据第一工作台21A的顶点通过θ旋转而最接近第二工作台21B的位置是否到达目标停止位置P15来判断。即,当图15的双点划线所示的圆的去路方向前端部到达目标停止位置P15时,判断为第一工作台21A到达目标停止位置P15。
另一方面,当第一工作台21A的基板搭载结束而开始进行去路移动时,当第二工作台21B处于归路移动中的情况下,如图16所示,直至从第二工作台21B的后端位置(去路方向的最前端位置)朝第一工作台21A的基板搭载位置侧离开最接近距离L0的位置为止的区间成为第一工作台21A的θ旋转动作可能区间。
在该情况下,第一工作台21A直至工作台间距离La变为最接近距离L0为止一边以通常的移动速度即第一移动速度V1进行去路移动一边进行θ旋转动作。而且,若工作台间距离La变为最接近距离L0,则一边以与第二工作台21B相同的第二移动速度V2在保持最接近距离L0的状态下进行去路移动一边进行θ旋转动作。此处,工作台间距离La的计算起点与上述同样是第一工作台21A的顶点通过θ旋转而最接近第二工作台21B的位置。
第一工作台21A的θ旋转动作结束后的动作与上述的第一以及第二实施形态同样。
这样,在本实施方式中,由于一边进行去路移动一边进行θ旋转动作,因此能够进一步缩短生产间隔时间。并且,能够在两个工作台不会接近至低于最接近距离L0的位置进行θ旋转动作,因此能够可靠地防止在工作台间发生干涉。
(变形例)
在上述各实施方式中,对如下情况进行了说明:当一方的工作台正进行去路移动、另一方的工作台正进行归路移动时,在一方的工作台追上另一方的工作台而工作台间距离La达到最接近距离L0后,使一方的工作台追随另一方的工作台(使其以与另一方的工作台相同的速度移动),但是,并不限定于此。例如,也可以在刚刚开始进行一方的工作台的去路移动之后就使其追随另一方的工作台。由此,根据先行的另一方的工作台的移动速度而对一方的工作台的移动速度进行控制,即便当上述另一方的工作台的移动速度根据移动区间的不同而不同的情况下,也能够可靠地防止在工作台间发生干涉。但是,在以生产间隔时间的进一步缩短为目的的情况下,优选像上述的各实施方式那样,直至工作台间距离La变为最接近距离L0为止,使后续的工作台以最大移动速度(第一移动速度V1)移动。
并且,在上述各实施方式中,对将工作台间距离La设为一方的工作台的去路方向上的最前端位置与另一方的工作台的去路方向上的最前端位置之间的距离的情况进行了说明,但在工作台上的工件W(基板)的尺寸比工作台尺寸大的情况下,工作台间距离La成为工件间距离。在这种情况下,将工件W的去路方向上的最前端位置作为工件间距离的计算基点。
此外,在上述各实施方式中,也可以将工作台间距离La设为一方的工作台的去路方向上的边与另一方的工作台的去路方向上的边之间的沿X方向的距离(在X方向上最接近的部分的距离)。
并且,在上述各实施方式中,对使用由线位移传感器计测到的计测结果而取得各工作台的位置以及移动速度的情况进行了说明,但是,也可以使用线位移传感器以外的构件取得各工作台的位置以及移动速度。
此外,在上述各实施方式中,对将本发明应用于偏振光照射装置的情况进行了说明,但是并不限定于此。例如,只要是具有如下结构的光照射装置,就能够通过应用本发明而得到与上述各实施方式同样的效果:两个工作台具有能够沿着相同轴往复移动的结构,并将两个工作台分别从夹着光照射区域设定在相同轴上的待机位置交替地朝光照射区域搬运。作为这样的光照射装置,例如存在DI(直接像:直接描画)曝光装置、利用紫外线进行热固化处理的紫外线照射装置等。

Claims (11)

1.一种光照射装置,对通过预先设定的照射区域的工件照射光,其特征在于,具备:
第一工作台,载置第一工件,且能够在通过上述照射区域的搬运轴上将从设定于上述照射区域的一侧的第一待机位置朝向上述照射区域的移动作为去路移动而进行往复移动;
第二工作台,载置第二工件,且能够在通过上述照射区域的搬运轴上将从设定于上述照射区域的另一侧的第二待机位置朝向上述照射区域的移动作为去路移动而进行往复移动;以及
控制部,对上述第一工作台以及上述第二工作台的移动独立地进行控制,以便上述第一工件和上述第二工件交替地通过上述照射区域,
上述控制部以下述方式进行控制:上述第一工作台以及上述第二工作台在上述照射区域内以第一移动速度移动,在上述照射区域外的归路以比上述第一移动速度高速的第二移动速度移动,在上述照射区域外的去路,当工作台间距离比预先设定的最接近距离长时以上述第二移动速度移动、当上述工作台间距离为上述最接近距离以下时以上述第一移动速度移动,
并且以下述方式进行控制:在上述第一工作台以及上述第二工作台中的、处于归路移动中的一方的工作台至少处于上述照射区域的期间之前,另一方的工作台开始进行去路移动。
2.根据权利要求1所述的光照射装置,其特征在于,
当上述第一工作台以及上述第二工作台中的一方的工作台在上述照射区域外正进行去路移动、且另一方的工作台正进行归路移动时,上述控制部使上述一方的工作台追随上述另一方的工作台而移动。
3.根据权利要求1或2所述的光照射装置,其特征在于,
上述控制部以下述方式进行控制:
当上述第一工作台以及上述第二工作台中的一方的工作台在上述照射区域外正进行去路移动、且另一方的工作台正进行归路移动时,
当上述另一方的工作台的归路移动方向上的后端部位置相比上述照射区域的靠上述一方的工作台的待机位置侧的端部位置而位于上述另一方的工作台的待机位置侧时,使上述一方的工作台以上述第二移动速度移动直至到上述端部位置为止。
4.根据权利要求1~3中任一项所述的光照射装置,其特征在于,
当上述第一工作台以及上述第二工作台中的一方的工作台正进行去路移动的期间,上述控制部禁止另一方的工作台的去路移动。
5.根据权利要求1~3中任一项所述的光照射装置,其特征在于,
当上述第一工作台以及上述第二工作台中的一方的工作台正进行去路移动的期间,上述控制部使上述另一方的工作台开始朝向目标停止位置进行去路移动,其中,上述目标停止位置设定于相对于上述一方的工作台的从去路移动朝归路移动切换的折返位置而靠另一方的工作台的待机位置侧上述最接近距离的位置,
当上述另一方的工作台到达上述目标停止位置时,当上述一方的工作台正进行去路移动时,直至上述一方的工作台开始进行归路移动为止,上述控制部使上述另一方的工作台在上述目标停止位置停止。
6.根据权利要求1~5中任一项所述的光照射装置,其特征在于,
还具备旋转控制部,该旋转控制部独立地控制上述第一工作台以及上述第二工作台绕相对于工作台面正交的轴的旋转,使该工作台的姿态成为光照射时的姿态,
当上述第一工作台以及上述第二工作台在从各自的待机位置直至到达上述照射区域前的旋转允许位置为止的区间正进行去路移动的期间,上述旋转控制部对上述旋转进行控制。
7.根据权利要求6所述的光照射装置,其特征在于,
当未由上述旋转控制部控制的非旋转控制对象的工作台正进行去路移动时,上述旋转允许位置设定于相比该非旋转控制对象的工作台从去路移动朝归路移动切换的折返位置而靠旋转控制对象的待机位置侧上述最接近距离的位置,
当上述非旋转控制对象的工作台正进行归路移动时,上述旋转允许位置设定于相比该非旋转控制对象的工作台的位置靠上述旋转控制对象的待机位置侧上述最接近距离的位置。
8.根据权利要求1~7中任一项所述的光照射装置,其特征在于,
上述工作台间距离是上述第一工作台的去路移动方向上的前端位置与上述第二工作台的去路移动方向上的前端位置之间的沿上述搬运轴方向的距离。
9.根据权利要求1~8中任一项所述的光照射装置,其特征在于,
上述光是偏振光。
10.根据权利要求1~9中任一项所述的光照射装置,其特征在于,
对上述第一工件以及上述第二工件,在去路移动和归路移动这双方照射上述光。
11.一种光照射方法,对通过预先设定的照射区域的工件照射光,其特征在于,
对第一工作台和第二工作台独立地进行控制,以便第一工件和第二工件交替地通过上述照射区域,其中,上述第一工作台载置上述第一工件,且能够在通过上述照射区域的搬运轴上将从设定于上述照射区域的一侧的第一待机位置朝向上述照射区域的移动作为去路移动而进行往复移动,上述第二工作台载置上述第二工件,且能够在通过上述照射区域的搬运轴上将从设定于上述照射区域的另一侧的第二待机位置朝向上述照射区域的移动作为去路移动而进行往复移动,
此时,
以下述方式进行控制:上述第一工作台以及上述第二工作台在上述照射区域内以第一移动速度移动,在上述照射区域外的归路以比上述第一移动速度高速的第二移动速度移动,在上述照射区域外的去路,当工作台间距离比预先设定的最接近距离长时以上述第二移动速度移动、当上述工作台间距离为上述最接近距离以下时以上述第一移动速度移动,
并且以下述方式进行控制:在上述第一工作台以及上述第二工作台中的、处于归路移动中的一方的工作台至少处于上述照射区域的期间之前,另一方的工作台开始进行去路移动。
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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN105785663A (zh) * 2016-05-24 2016-07-20 武汉华星光电技术有限公司 一种光配向设备及方法
CN109856862A (zh) * 2017-11-30 2019-06-07 上海微电子装备(集团)股份有限公司 双台光配向装置及配向方法
CN113287066A (zh) * 2018-12-12 2021-08-20 激光影像系统有限责任公司 用于以高生产率曝光板状工件的设备

Families Citing this family (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2019101226A (ja) * 2017-12-01 2019-06-24 シャープ株式会社 偏光照射装置、及び、感光膜付き基板の製造方法
CN108983556A (zh) * 2018-07-26 2018-12-11 中山新诺科技股份有限公司 双面曝光机及双面曝光方法
JP7342680B2 (ja) * 2019-12-18 2023-09-12 ウシオ電機株式会社 光照射装置および光照射方法

Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US20040169802A1 (en) * 2003-02-27 2004-09-02 Lg.Philips Lcd Co., Ltd. Apparatus for forming alignment film of liquid crystal display device and method for forming alignment film using the same
JP2007114647A (ja) * 2005-10-24 2007-05-10 Ushio Inc 光配向用偏光光照射装置
CN102298235A (zh) * 2006-01-26 2011-12-28 夏普株式会社 液晶显示装置的制造方法和液晶显示装置
CN102314023A (zh) * 2010-07-07 2012-01-11 株式会社日立高新技术 液晶用取向膜曝光方法及其装置
CN103582843A (zh) * 2012-06-01 2014-02-12 Wi-A株式会社 光配向装置
CN103728784A (zh) * 2013-03-08 2014-04-16 优志旺电机株式会社 光取向用偏振光照射装置和光取向用偏振光照射方法

Family Cites Families (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2003289098A (ja) 2002-03-28 2003-10-10 Nikon Corp 基板処理装置、基板保持装置、露光方法及び露光装置
JP4312435B2 (ja) 2002-08-12 2009-08-12 大日本印刷株式会社 基板への処理液の塗布方法及び塗布装置
JP4604661B2 (ja) * 2004-11-05 2011-01-05 ウシオ電機株式会社 光配向用偏光光照射装置
US8917378B2 (en) * 2007-12-20 2014-12-23 Nikon Corporation Exposure method, exposure apparatus, and method for producing device with plurality of projection optical systems and pattern having first partial pattern area and second partial area having overlaid area with first partial pattern area
JP2009295950A (ja) * 2008-05-09 2009-12-17 Nsk Ltd スキャン露光装置およびスキャン露光方法
JP5254073B2 (ja) * 2008-08-21 2013-08-07 Nskテクノロジー株式会社 スキャン露光装置およびスキャン露光装置の基板搬送方法
CN102965126A (zh) * 2012-11-26 2013-03-13 中冶焦耐工程技术有限公司 焦炉移动机械综合防碰撞系统
TWI516878B (zh) * 2012-12-07 2016-01-11 群康科技(深圳)有限公司 光配向光源系統及光配向製程
JP6206945B2 (ja) 2013-03-07 2017-10-04 株式会社ブイ・テクノロジー 走査露光装置及び走査露光方法

Patent Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US20040169802A1 (en) * 2003-02-27 2004-09-02 Lg.Philips Lcd Co., Ltd. Apparatus for forming alignment film of liquid crystal display device and method for forming alignment film using the same
JP2007114647A (ja) * 2005-10-24 2007-05-10 Ushio Inc 光配向用偏光光照射装置
CN102298235A (zh) * 2006-01-26 2011-12-28 夏普株式会社 液晶显示装置的制造方法和液晶显示装置
CN102314023A (zh) * 2010-07-07 2012-01-11 株式会社日立高新技术 液晶用取向膜曝光方法及其装置
CN103582843A (zh) * 2012-06-01 2014-02-12 Wi-A株式会社 光配向装置
CN103728784A (zh) * 2013-03-08 2014-04-16 优志旺电机株式会社 光取向用偏振光照射装置和光取向用偏振光照射方法

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN105785663A (zh) * 2016-05-24 2016-07-20 武汉华星光电技术有限公司 一种光配向设备及方法
CN109856862A (zh) * 2017-11-30 2019-06-07 上海微电子装备(集团)股份有限公司 双台光配向装置及配向方法
CN113287066A (zh) * 2018-12-12 2021-08-20 激光影像系统有限责任公司 用于以高生产率曝光板状工件的设备

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