CN105060705A - Low-e玻璃基体材料组合物和low-e玻璃基体的制备方法 - Google Patents
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Abstract
本发明公开了一种LOW-E玻璃基体材料组合物和LOW-E玻璃基体的制备方法，其中，所述组合物包括二氧化硅、氧化铝、氧化钙、纳米碳酸钙、氧化铅、氧化镁和氯化钙；其中，相对于100重量份的所述二氧化硅，所述氧化铝的含量为1-10重量份，所述氧化钙的含量为2-7重量份，所述纳米碳酸钙的含量为1-5重量份，所述氧化铅的含量为1-5重量份，所述氧化镁的含量为2-10重量份，所述氯化钙的含量为1-5重量份。上述设计通过将二氧化硅、氧化铝、氧化钙、纳米碳酸钙、氧化铅、氧化镁和氯化钙以一定的比例进行混合并熔炼，使得通过这种比例制得的玻璃基体在实际使用时具有更好的隔热性能，大大提高其隔热性能。
Description
技术领域
本发明涉及玻璃材料领域，具体地，涉及一种LOW-E玻璃基体材料组合物和LOW-E玻璃基体的制备方法。
背景技术
LOW-E玻璃又称低辐射玻璃，是在玻璃表面镀上多层金属或其他化合物组成的膜系产品。其镀膜层具有对可见光高透过及对中远红外线高反射的特性，使其与普通玻璃及传统的建筑用镀膜玻璃相比，具有优异的隔热效果和良好的透光性。因而，玻璃基体的隔热效果也将大大影响最终制得的LOW-E的隔热效果。而现有技术中往往只考虑表面镀膜的隔热效果，而忽视了玻璃基体的隔热效果。
因此，提供一种能有效隔热的LOW-E玻璃基体材料组合物和LOW-E玻璃基体的制备方法是本发明亟需解决的问题。
发明内容
针对上述现有技术，本发明的目的在于克服现有技术中玻璃基体隔热效果一般的问题，从而提供一种能有效隔热的LOW-E玻璃基体材料组合物和LOW-E玻璃基体的制备方法。
为了实现上述目的，本发明提供了一种LOW-E玻璃基体材料组合物，其中，所述组合物包括二氧化硅、氧化铝、氧化钙、纳米碳酸钙、氧化铅、氧化镁和氯化钙；其中，
相对于100重量份的所述二氧化硅，所述氧化铝的含量为1-10重量份，所述氧化钙的含量为2-7重量份，所述纳米碳酸钙的含量为1-5重量份，所述氧化铅的含量为1-5重量份，所述氧化镁的含量为2-10重量份，所述氯化钙的含量为1-5重量份。
本发明还提供了一种LOW-E玻璃基体的制备方法，其中，所述制备方法包括：将二氧化硅、氧化铝、氧化钙、纳米碳酸钙、氧化铅、氧化镁和氯化钙混合后进行熔炼后冷却成型，制得LOW-E玻璃基体；其中，
相对于100重量份的所述二氧化硅，所述氧化铝的用量为1-10重量份，所述氧化钙的用量为2-7重量份，所述纳米碳酸钙的用量为1-5重量份，所述氧化铅的用量为1-5重量份，所述氧化镁的用量为2-10重量份，所述氯化钙的用量为1-5重量份。
上述设计通过将二氧化硅、氧化铝、氧化钙、纳米碳酸钙、氧化铅、氧化镁和氯化钙以一定的比例进行混合并熔炼，制得玻璃基体，从而使得通过这种比例制得的玻璃基体在实际使用时具有更好的隔热性能，从而大大提高制得的LOW-E玻璃的隔热性能。
本发明的其他特征和优点将在随后的具体实施方式部分予以详细说明。
具体实施方式
以下对本发明的具体实施方式进行详细说明。应当理解的是，此处所描述的具体实施方式仅用于说明和解释本发明，并不用于限制本发明。
本发明提供了一种LOW-E玻璃基体材料组合物，其中，所述组合物包括二氧化硅、氧化铝、氧化钙、纳米碳酸钙、氧化铅、氧化镁和氯化钙；其中，
相对于100重量份的所述二氧化硅，所述氧化铝的含量为1-10重量份，所述氧化钙的含量为2-7重量份，所述纳米碳酸钙的含量为1-5重量份，所述氧化铅的含量为1-5重量份，所述氧化镁的含量为2-10重量份，所述氯化钙的含量为1-5重量份。
本发明通过将二氧化硅、氧化铝、氧化钙、纳米碳酸钙、氧化铅、氧化镁和氯化钙以一定的比例进行混合并熔炼，制得玻璃基体，从而使得通过这种比例制得的玻璃基体在实际使用时具有更好的隔热性能，从而大大提高制得的LOW-E玻璃的隔热性能。
为了使制得的玻璃基体在实际使用时具有更好的隔热性能，在本发明的一种优选的实施方式中，相对于100重量份的所述二氧化硅，所述氧化铝的含量为3-7重量份，所述氧化钙的含量为4-6重量份，所述纳米碳酸钙的含量为2-4重量份，所述氧化铅的含量为2-4重量份，所述氧化镁的含量为5-8重量份，所述氯化钙的含量为2-4重量份。
当然，为了使混合效果更好，且进一步提高隔热性能，在本发明的一种更为优选的实施方式中，所述纳米碳酸钙的粒径可以进一步选择为不大于500nm。
为了使制得的玻璃基体在实际使用时具有更好的使用性能，在本发明的一种优选的实施方式中，所述组合物还可以包括氧化锌；其中，相对于100重量份的所述二氧化硅，所述氧化锌的含量为1-3重量份。
本发明还提供了一种LOW-E玻璃基体的制备方法，其中，所述制备方法包括：将二氧化硅、氧化铝、氧化钙、纳米碳酸钙、氧化铅、氧化镁和氯化钙混合后进行熔炼后冷却成型，制得LOW-E玻璃基体；其中，
相对于100重量份的所述二氧化硅，所述氧化铝的用量为1-10重量份，所述氧化钙的用量为2-7重量份，所述纳米碳酸钙的用量为1-5重量份，所述氧化铅的用量为1-5重量份，所述氧化镁的用量为2-10重量份，所述氯化钙的用量为1-5重量份。
同样地，为了使制得的玻璃基体具有更好的隔热性能，在本发明的一种更为优选的实施方式中，相对于100重量份的所述二氧化硅，所述氧化铝的用量为3-7重量份，所述氧化钙的用量为4-6重量份，所述纳米碳酸钙的用量为2-4重量份，所述氧化铅的用量为2-4重量份，所述氧化镁的用量为5-8重量份，所述氯化钙的用量为2-4重量份。
当然，为了使得各原料之间混合更为均匀，在本发明的一种更为优选的实施方式中，所述制备方法还可以包括将二氧化硅、氧化铝、氧化钙、纳米碳酸钙、氧化铅、氧化镁和氯化钙在熔炼前进行研磨。
同样地，为了使制得的玻璃基体在实际使用时具有更好的使用性能，在本发明的一种优选的实施方式中，所述制备方法还可以包括加入氧化锌进行混合熔炼；其中，相对于100重量份的所述二氧化硅，所述氧化锌的用量为1-3重量份。
当然，所述熔炼过程可以按照本领域常规采用的熔炼方式进行熔炼，熔炼温度可以不作限定，当然，为了使熔炼效果更好且更节约能源，在本发明的一种优选的实施方式中，所述熔炼过程的熔炼温度可以选择为1000-1600℃。
以下将通过实施例对本发明进行详细描述。以下实施例中，所述二氧化硅、所述氧化铝、所述氧化钙、所述纳米碳酸钙、所述氧化铅、所述氧化镁、所述氧化锌和所述氯化钙为常规市售品。
实施例1
将100g二氧化硅、3g氧化铝、4g氧化钙、2g纳米碳酸钙、2g氧化铅、5g氧化镁、1g氧化锌和2g氯化钙混合后置于温度为1000℃的条件下进行熔炼后冷却成型，制得LOW-E玻璃基体A1。
实施例2
将100g二氧化硅、7g氧化铝、6g氧化钙、4g纳米碳酸钙、4g氧化铅、8g氧化镁、3g氧化锌和4g氯化钙混合后置于温度为1600℃的条件下进行熔炼后冷却成型，制得LOW-E玻璃基体A2。
实施例3
将100g二氧化硅、5g氧化铝、5g氧化钙、3g纳米碳酸钙、3g氧化铅、6g氧化镁、2g氧化锌和3g氯化钙混合后置于温度为1400℃的条件下进行熔炼后冷却成型，制得LOW-E玻璃基体A3。
实施例4
按照实施例1的制备方法进行制备，不同的是，所述氧化铝的用量为1g，所述氧化钙的用量为2g，所述纳米碳酸钙的用量为1g，所述氧化铅的用量为1g，所述氧化镁的用量为2g，所述氯化钙的用量为1g，不添加氧化锌，制得LOW-E玻璃基体A4。
实施例5
按照实施例2的制备方法进行制备，不同的是，所述氧化铝的用量为10g，所述氧化钙的用量为7g，所述纳米碳酸钙的用量为5g，所述氧化铅的用量为5g，所述氧化镁的用量为10g，所述氯化钙的用量为5g，不添加氧化锌，制得LOW-E玻璃基体A5。
对比例1
按照实施例3的制备方法进行制备，不同的是，所述氧化钙的用量为1g，所述氧化镁的用量为1g，制得LOW-E玻璃基体D1。
对比例2
按照实施例3的制备方法进行制备，不同的是，所述氧化铝的用量为20g，所述氧化钙的用量为10g，所述纳米碳酸钙的用量为10g，所述氧化铅的用量为10g，所述氧化镁的用量为20g，所述氯化钙的用量为10g，制得LOW-E玻璃基体D2。
测试例
将上述制得的A1-A5、D1和D2分别制备成密闭的空间并将该空间内温度调至10℃，同时在空间中放入一根温度计，将该空间置于环境为37℃的条件下放置10h，检测空间内温度计的温度，得到的结果如表1所示。
表1
| 编号 | 温度(℃) |
| A1 | 15.7 |
| A2 | 17.5 |
| A3 | 16.2 |
| A4 | 22.5 |
| A5 | 21.3 |
| D1 | 36.5 |
| D2 | 35.6 |
通过表1可以看出，在本发明内制得的LOW-E玻璃基体在实际使用时能有效防止辐射，有效控制好密闭空间内的温度，但是在本发明范围外制得的玻璃基体则不具备该良好的防辐射和隔热性能，同时在本发明优选范围内制得的LOW-E玻璃基体在隔热方面的性能则更为优越，大大提高了其抗辐射及隔热的性能。
以上详细描述了本发明的优选实施方式，但是，本发明并不限于上述实施方式中的具体细节，在本发明的技术构思范围内，可以对本发明的技术方案进行多种简单变型，这些简单变型均属于本发明的保护范围。
另外需要说明的是，在上述具体实施方式中所描述的各个具体技术特征，在不矛盾的情况下，可以通过任何合适的方式进行组合，为了避免不必要的重复，本发明对各种可能的组合方式不再另行说明。
此外，本发明的各种不同的实施方式之间也可以进行任意组合，只要其不违背本发明的思想，其同样应当视为本发明所公开的内容。
Claims (9)
1.一种LOW-E玻璃基体材料组合物，其特征在于，所述组合物包括二氧化硅、氧化铝、氧化钙、纳米碳酸钙、氧化铅、氧化镁和氯化钙；其中，
相对于100重量份的所述二氧化硅，所述氧化铝的含量为1-10重量份，所述氧化钙的含量为2-7重量份，所述纳米碳酸钙的含量为1-5重量份，所述氧化铅的含量为1-5重量份，所述氧化镁的含量为2-10重量份，所述氯化钙的含量为1-5重量份。
2.根据权利要求1所述的组合物，其中，相对于100重量份的所述二氧化硅，所述氧化铝的含量为3-7重量份，所述氧化钙的含量为4-6重量份，所述纳米碳酸钙的含量为2-4重量份，所述氧化铅的含量为2-4重量份，所述氧化镁的含量为5-8重量份，所述氯化钙的含量为2-4重量份。
3.根据权利要求1或2所述的组合物，其中，所述纳米碳酸钙的粒径不大于500nm。
4.根据权利要求1或2所述的组合物，其中，所述组合物还包括氧化锌；其中，
相对于100重量份的所述二氧化硅，所述氧化锌的含量为1-3重量份。
5.一种LOW-E玻璃基体的制备方法，其特征在于，所述制备方法包括：将二氧化硅、氧化铝、氧化钙、纳米碳酸钙、氧化铅、氧化镁和氯化钙混合后进行熔炼后冷却成型，制得LOW-E玻璃基体；其中，
相对于100重量份的所述二氧化硅，所述氧化铝的用量为1-10重量份，所述氧化钙的用量为2-7重量份，所述纳米碳酸钙的用量为1-5重量份，所述氧化铅的用量为1-5重量份，所述氧化镁的用量为2-10重量份，所述氯化钙的用量为1-5重量份。
6.根据权利要求5所述的制备方法，其中，相对于100重量份的所述二氧化硅，所述氧化铝的用量为3-7重量份，所述氧化钙的用量为4-6重量份，所述纳米碳酸钙的用量为2-4重量份，所述氧化铅的用量为2-4重量份，所述氧化镁的用量为5-8重量份，所述氯化钙的用量为2-4重量份。
7.根据权利要求5或6所述的制备方法，其中，所述制备方法还包括将二氧化硅、氧化铝、氧化钙、纳米碳酸钙、氧化铅、氧化镁和氯化钙在熔炼前进行研磨。
8.根据权利要求5或6所述的制备方法，其中，所述制备方法还包括加入氧化锌进行混合熔炼；其中，
相对于100重量份的所述二氧化硅，所述氧化锌的用量为1-3重量份。
9.根据权利要求5或6所述的制备方法，其中，所述熔炼过程的熔炼温度为1000-1600℃。
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| C06 | Publication | ||
| PB01 | Publication | ||
| C10 | Entry into substantive examination | ||
| SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
| CB02 | Change of applicant information |
Address after: 241000 Anhui Province, Wuhu city Jinghu District Zhongjiang integrate Western Plaza B-101 Applicant after: WUHU VACUUM TECHNOLOGY CO., LTD. Address before: 241000 room 320, building B, science and technology innovation center, Wuhu economic and Technological Development Zone, Anhui Applicant before: WUHU VACUUM TECHNOLOGY CO., LTD. |
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| COR | Change of bibliographic data | ||
| CB02 | Change of applicant information | ||
| CB02 | Change of applicant information |
Address after: 241000 Anhui city of Wuhu Province Economic and Technological Development Zone Dong Liang Road No. 11 Applicant after: WUHU VACUUM TECHNOLOGY CO., LTD. Address before: 241000 Anhui Province, Wuhu city Jinghu District Zhongjiang integrate Western Plaza B-101 Applicant before: WUHU VACUUM TECHNOLOGY CO., LTD. |
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| WD01 | Invention patent application deemed withdrawn after publication | ||
| WD01 | Invention patent application deemed withdrawn after publication |
Application publication date: 20151118 |