CN105004384B - 一种基于仿生射流减阻原理的漩涡发生体 - Google Patents

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Abstract

本发明的目的在于提供一种基于仿生射流减阻原理的漩涡发生体，包括设置在主管道里的发生体本体，发生体本体包括半圆柱体和带凹面的三角柱形体，半圆柱体的弧面一侧为迎流面，弧面中部设置大V型槽，大V型槽的两侧分别设置小V型槽，大V型槽与小V型槽的开口角度相同，大V型槽的开口深度大于小V型槽的开口深度，三角柱形体设置在半圆柱体的平面一侧，三角柱形体的凹面背向半圆柱体设置，半圆柱体和三角柱形体之间设置狭缝。本发明相对于现有的漩涡发生体具有更低的迎面阻力，可以产生更高的旋涡发生频率，且使漩涡分离更稳定。

Description

一种基于仿生射流减阻原理的漩涡发生体
技术领域
本发明涉及的是一种流量计，具体地说是流量计里的漩涡发生体。
背景技术
旋涡发生体是涡街流量计中的重要部件，其主要作用是在三维的流场中促使旋涡在管道的轴向发生同步脱落并与测量元件组合完成对流量信号的测量，目前市场上的漩涡发生体按外形可分为圆柱、梯形柱、三角柱、T形柱、矩形柱发生体等，按结构可分为单发生体或双(多)发生体。这些涡旋发生体大都存在涡街强度与流体阻力相矛盾的特点，需要进一步改进，研制出涡街强度大、漩涡信号稳定性好而且阻力小的涡旋发生体。
发明内容
本发明的目的在于提供对被测量流体产生的阻力更小的一种基于仿生射流减阻原理的漩涡发生体。
本发明的目的是这样实现的：
本发明一种基于仿生射流减阻原理的漩涡发生体，其特征是：包括设置在主管道里的发生体本体，发生体本体包括半圆柱体和带凹面的三角柱形体，半圆柱体的弧面一侧为迎流面，弧面中部设置大V型槽，大V型槽的两侧分别设置小V型槽，大V型槽与小V型槽的开口角度相同，大V型槽的开口深度大于小V型槽的开口深度，三角柱形体设置在半圆柱体的平面一侧，三角柱形体的凹面背向半圆柱体设置，半圆柱体和三角柱形体之间设置狭缝。
本发明还可以包括：
1、大V型槽与小V型槽之间开设有第一类射流孔，相邻的小V型槽和小V型槽之间开设有第二类射流孔，半圆柱体的平面与其相邻的小V型槽之间开设有第三类射流孔。
2、第一类射流孔入口的面积大于第二类射流孔和第三类射流孔入口的面积。
本发明的优势在于：本发明相对于现有的漩涡发生体具有更低的迎面阻力，可以产生更高的旋涡发生频率，且使漩涡分离更稳定。
附图说明
图1为本发明的正面示意图；
图2为本发明的侧面示意图；
图3为本发明在流道中工作的结构示意图。
具体实施方式
下面结合附图举例对本发明做更详细地描述：
结合图1～3，涡旋发生体，发生体由半圆柱形和带凹面的三角柱型共同组成，在半圆柱上的两侧开有多个小的V型槽，小V型槽的数量可以根据具体尺寸的不同而发生改变，并在半圆柱中间开有一个大的槽用以加开射流孔，射流孔的大小和数量可以根据发生体的尺寸做具体调整。当流体进入大V型槽时，流体从大的V型槽面进入射流孔，并从小的V型槽面流出。后面为带凹面的三角柱型，半圆柱和三角柱形中间带有狭缝。
流体进入射流孔，减小涡旋发生体对流体的阻力，在流体从射流孔射出时，流速加快，与从柱形边缘流过的流体共同作用，激发涡街的形成，从而使涡街的强度得到加强。
图3中，流体由箭头方向流入主流道，在经过旋涡发生体时，一部分流体受到半圆柱体的阻力作用，从主体侧向流过，依据非光滑表面减阻原理，小V型槽可起到对漩涡发生体的部分减阻作用，另一部分流体进入大V型槽，从大V型槽中开有的射流孔通过，一方面降低了流体阻力，同时，两股流体在半圆柱尾部聚合，从射流孔中流出的高速液体对涡街的形成起到引导作用，使涡街强度得到加强，涡街稳定性也变的更好。以上涡旋发生体的结构设计，一方面降低了流量计对流体的阻力，另一方面使流量计的测量精度和测量范围得到提高。

Claims (3)

1.一种基于仿生射流减阻原理的漩涡发生体，其特征是：包括设置在主管道里的发生体本体，发生体本体包括半圆柱体和带凹面的三角柱形体，半圆柱体的弧面一侧为迎流面，弧面中部设置大V型槽，大V型槽的两侧分别设置小V型槽，大V型槽与小V型槽的开口角度相同，大V型槽的开口深度大于小V型槽的开口深度，三角柱形体设置在半圆柱体的平面一侧，三角柱形体的凹面背向半圆柱体设置，半圆柱体和三角柱形体之间设置狭缝。
2.根据权利要求1所述的一种基于仿生射流减阻原理的漩涡发生体，其特征是：大V型槽与小V型槽之间开设有第一类射流孔，相邻的小V型槽和小V型槽之间开设有第二类射流孔，半圆柱体的平面与其相邻的小V型槽之间开设有第三类射流孔。
3.根据权利要求2所述的一种基于仿生射流减阻原理的漩涡发生体，其特征是：第一类射流孔入口的面积大于第二类射流孔和第三类射流孔入口的面积。
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