CN104959909B - 研磨工作台 - Google Patents
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Abstract
本发明公开了研磨工作台,包括底座(1)、顶杆(4)及设于所述顶杆(4)上端的平台座(7),所述顶杆(4)的下端设有第一磁块(9),在所述第一磁块(9)下方设有与其磁性相同的第二磁块(10),所述第二磁块(10)的下方设有提供支撑推力作用的二次支撑件。该研磨工作台结构简单轻巧,可适用于对较大范围尺寸区间的拉丝模具进行研磨抛光,适用性更广,更便捷,以提高工作效率降低工作成本。
Description
技术领域
本发明属于机加工技术领域,更具体的说,涉及一种用于对拉丝模模具研磨抛光的研磨工作台。
背景技术
研磨为高精度机加工机械,在对拉丝模模具的中心孔研磨抛光的过程中,工作台为可升降结构,以保证受力均匀。现有的研磨机中的升降机构多为液压机构控制驱动研磨工作台升降,研磨工作台重量大,结构复杂,升降控制响应缓慢,且工作时液压系统易漏油,造成资源浪费,污染加工环境。还有一些通过重力拉升控制工作台,这种外部结构复杂,占据空间大,且不便于调节控制压力以适应更多尺寸工件研磨。
发明内容
本发明的目的是解决现有技术存在的问题,提供一种结构简单轻巧的研磨工作台,使用方便且稳定,可适用于对较大范围尺寸区间的拉丝模具进行研磨抛光。
为了实现上述目的,本发明采取的技术方案为:所提供的这种研磨工作台,包括底座、顶杆及设于所述顶杆上端的平台座,所述顶杆的下端设有第一磁块,在所述第一磁块下方设有与其磁性相同的第二磁块,所述第二磁块的下方设有提供支撑推力作用的二次支撑件。
为使上述技术方案更加详尽和具体,本发明还提供以下更进一步的优选技术方案,以获得满意的实用效果:
所述二次支撑件的支撑力大小可调节。
所述第二磁块及二次支撑件设于调节套内,所述第二磁块固定在所述调节套上端,所述二次支撑件下端的支撑底座可相对所述调节套上下移动。
所述调节套外壁设有一段螺纹,与设在所述底座内的调节拨盘螺纹配合连接,通过调节拨盘控制所述二次支撑件与第二磁块间的支撑距离。
所述二次支撑件为弹簧。
所述二次支撑件为与所述第二磁块磁性相同的第三磁块。
所述调节套上设有竖直的限位槽Ⅰ,所述限位槽Ⅰ内设有限制所述调节套上下运动行程的限位螺钉。
所述顶杆外设有皮带轮,所述皮带轮带动所述顶杆及平台座转动。
所述皮带轮外壁上设有限位槽Ⅱ,限位螺钉穿过所述平台座插接至所述限位槽Ⅱ内。
本发明研磨工作台与现有技术相比,具有以下优点:该工作平台结构简单轻巧,无需外设繁杂的升降结构,通过相斥的第一磁块与第二磁块的推力,推动顶杆从而带动置于平台座上的拉丝模具浮动升降,可均衡研磨受力,配合皮带轮带动平台座转动,从而实现对拉丝模具很稳定均匀的研磨抛光;在下方设置的二次支撑件可提供二次的加压,提供更大的支撑力,使得该工作台适用于加工研磨较大重量较重的拉丝模具,适用性更广,更便捷,可提高工作效率降低工作成本。
附图说明
下面对本说明书的附图所表达的内容及图中的标记作简要说明:
图1为本发明第一种结构示意图;
图2为本发明第二种结构示意图。
图中标记为:1、底座,2、调节套,3、座套,4、顶杆,5、限位螺钉,6、轴承,7、平台座,8、皮带轮,9、第一磁块,10、第二磁块,11、弹簧,12、调节拨盘,13、定位卡簧,14、第三磁块。
具体实施方式
下面对照附图,通过对实施例的描述,对本发明的具体实施方式作进一步详细的说明。
本发明研磨工作台,如图1、2所示,包括底座1、顶杆4及设于顶杆4上端的平台座7,其中底座1可使得工作台稳定的使用,使用时,将拉丝模模具置于平台座7上,研磨机进行研磨操作。该研磨工作台中设有浮动升降装置,以平衡研磨过程中受力,保磁性相同证均匀稳定的研磨,以提高拉丝模具的加工质量。
本发明中的升降装置为磁力升降,在顶杆4的下端设有第一磁块9,在第一磁块9下方设有与其磁性相同的第二磁块10。当将拉丝模具置于平台座7上时,对顶杆4产生一向下的力,第一磁块9与第二磁块10之间具有互斥的推力,保持两力的平衡。第一磁块9与第二磁块10之间力的作用,在研磨的过程中可随受力情况的变化进行相应随机的调节,以平衡受力,保证对拉丝模具周向研磨的稳定性。
本发明中,为增大支撑力,以使得该研磨工作台适用于不同大小的拉丝模模具,在第二磁块10的下方增设有提供支撑推力作用的二次支撑件。由于市场上常用的磁块基本上时标准的,如定做特殊规格的磁铁成本较高,而且会增大工作台的体积,所以在本发明中采用二次加压支撑的方式,以降低成本。且该二次支撑件的支撑力大小可调节,以获得不同大小的支撑力,适用性更好。
本发明中,优选的,采用螺纹旋进旋出的方式控制调节支撑力大小。第二磁块10及二次支撑件设于调节套2内,第二磁块10固定在调节套2上端,二次支撑件下端的支撑底座可相对调节套2上下移动,通过调节间距控制支撑力的大小。调节套2外壁设有一段螺纹,与设在底座1内的调节拨盘12螺纹配合连接,通过调节拨盘12控制二次支撑件与第二磁块10间的支撑距离。在调节拨盘12的下端设有定位卡簧13,以限制调节拨盘的轴向位移。
如图1所示,为本发明的第一种实施例。优选的,二次支撑件为弹簧11,将弹簧11设在第二磁块10下方,共同设在调节套2内,其中第二磁块10设于调节套2靠上处,上端通过卡簧定位,弹簧11的上端顶在第二磁块10上,下端连接在支撑底座上。调节套2外壁设有一段螺纹,调节拨盘12设在底座1内,调节拨盘12与调节套2螺纹配合连接,通过旋转调节拨盘12,使得调节套2旋进或旋出,支撑底座相对调节套2的壁面移动。如支撑底座与调节套2之间的空间变小,挤压弹簧11,弹簧11间距变小,相对的支撑力变大;相反空间变大,弹簧11伸展,支撑力相对减小。
如图二所示,为本发明的第二种实施例。优选的,二次支撑件为与第二磁块10磁性相同的第三磁块14。如第一种实施例所述,可通过调节调节拨盘12,使得调节套2移动,支撑底座带动第三磁块14相对上移或是下移,第二磁块10与第三磁块14之间的间距变小相对的互推的斥力变大,支撑力变大;相反间距变大,互斥力变小,支撑力变大。
本发明中,在顶杆4外设有皮带轮8,皮带轮8转动带动顶杆4及平台座7转动,以很好的进行抛光研磨。平台座7罩在顶杆4上端,之间设有轴承6,保证得到良好的转动性能。在调节套2的外部设有座套3,座套3呈上小下大的梯台形结构,不仅使得该工作台更加美观且增强其结构稳定。
优选的,在调节套2上设有竖直的限位槽Ⅰ,限位槽Ⅰ内设有限制调节套2上下运动行程的限位螺钉5。限位螺钉5穿过底座1的突出边缘及座套3卡接在限位槽Ⅰ内,以限制调节套2向上及向下的运动行程,限制支撑力的调节范围在合适的范围内,且避免使用过程中由于调节过度造成零件损伤现象。
同理,在皮带轮8外壁上也设有限位槽Ⅱ,限位螺钉5穿过平台座7插接至限位槽Ⅱ内。此处的限位螺钉5限制顶杆4的上下移动行程,保证其在合适的范围内上下移动。
本发明中,也可将弹簧11和第三磁块14同时作为二次支撑件配合使用,选择具有合适弹性的弹簧11及合适磁力大小的第三磁块14,第二磁块10置于调节套2上方,第三磁块14置于下方,将弹簧11设置在两磁块之间,调节拨盘12进行调节,亦可得到较好的浮动支撑效果。也可在同一调节套2中设置多个三个、四个磁块,多级支撑得到满意合适大小的支撑力,提供更大的支撑推力以满足加工条件。
本发明研磨工作台结构简单轻巧,无需外设繁杂的升降结构,通过相斥的第一磁块9与第二磁块10的推力,推动顶杆4从而带动置于平台座上的拉丝模具浮动升降,可均衡研磨受力,配合皮带轮8带动平台座7转动,从而实现对拉丝模具很稳定均匀的研磨抛光;在下方设置的二次支撑件可提供二次的加压,提供更大的支撑力,使得该工作台适用于加工研磨较大重量较重的拉丝模具,适用性更广,更便捷,可提高工作效率降低工作成本。
上面结合附图对本发明进行了示例性描述,但是本发明并不受限于上述方式,只要采用本发明的方法构思和技术方案进行的各种非实质性的改进或直接应用于其它场合的,均落在本发明的保护范围内。
Claims (4)
1.一种研磨工作台,包括底座(1)、顶杆(4)及设于所述顶杆(4)上端的平台座(7),其特征在于:所述顶杆(4)的下端设有第一磁块(9),在所述第一磁块(9)下方设有与其磁性相同的第二磁块(10),所述第二磁块(10)的下方设有提供支撑推力作用的二次支撑件,所述二次支撑件的支撑力大小可调节;所述第二磁块(10)及二次支撑件设于调节套(2)内,所述第二磁块(10)固定在所述调节套(2)上端,所述二次支撑件下端的支撑底座可相对所述调节套(2)上下移动;所述调节套(2)外壁设有一段螺纹,与设在所述底座(1)内的调节拨盘(12)螺纹配合连接,通过调节拨盘(12)控制所述二次支撑件与第二磁块(10)间的支撑距离;所述调节拨盘(12)的下端设有以限制其轴向位移的定位卡簧(13);所述二次支撑件为弹簧(11)。
2.按照权利要求1所述的研磨工作台,其特征在于:所述调节套(2)上设有竖直的限位槽Ⅰ,所述限位槽Ⅰ内设有限制所述调节套(2)上下运动行程的限位螺钉(5)。
3.按照权利要求2所述的研磨工作台,其特征在于:所述顶杆(4)外设有皮带轮(8),所述皮带轮(8)带动所述顶杆(4)及平台座(7)转动。
4.按照权利要求3所述的研磨工作台,其特征在于:所述皮带轮(8)外壁上设有限位槽Ⅱ,限位螺钉(5)穿过所述平台座(7)插接至所述限位槽Ⅱ内。
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