CN104946862A - 热处理装置 - Google Patents

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赖春辉
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Liuzhou Jianxi Machinery Foundry
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Abstract

本发明提供了一种热处理装置,包括底座,所述底座上部设有第一保护层、第二保护层,所述第二保护层设在所述第一保护层内部,所述第二保护层上设有凹槽,所述第一保护层与第二保护层之间设有铜管,该铜管从上到下缠绕在第二保护层的凹槽上,所述第二保护层上设有支座,所述支座焊接在所述第一保护层的外表面,所述第一保护层上部设有盖,本发明的有益效果是:具有结构简单、操作方便和加热速度快的优点,铜管通电后产生高频电用来加热产品,使产品加热到奥氏体状态,这种状态下产品的热应力和组织应力比普通的加热方式要小。

Description

热处理装置
技术领域
本发明涉及铸造热处理技术领域,具体涉及铸造热处理装置。
背景技术
目前在铸造热处理装置技术上存在的问题是结构复杂,操作繁琐,结合不够紧密,合格率低,加热速度慢。
发明内容
为了解决现有技术中的问题,本发明提供了一种热处理装置,包括底座,所述底座上部设有第一保护层、第二保护层,所述第二保护层设在所述第一保护层内部,所述第二保护层上设有凹槽,所述第一保护层与第二保护层之间设有铜管,该铜管从上到下缠绕在第二保护层的凹槽上,所述第二保护层上设有支座,所述支座焊接在所述第一保护层的内表面,所述第一保护层上部设有盖。
作为本发明的进一步改进,所述铜管的开口设在第一保护层上,左侧开口为进水口,右侧开口为出水口。
作为本发明的进一步改进,所述第二保护层 的厚度为25mm ~ 35mm。
作为本发明的进一步改进,所述第一保护层 与盖之间通过铰链连接。
本发明的有益效果是:具有结构简单、操作方便和加热速度快的优点,铜管通电后产生高频电用来加热产品,使产品加热到奥氏体状态,这种状态下产品的热应力和组织应力比普通的加热方式要小。
附图说明
图1是本发明的主视图。
图2是本发明的俯视图。
具体实施方式
如图1所示,本发明公开了一种热处理装置,包括底座3,所述底座3上部设有第一保护层5、第二保护层8,所述第二保护层8设在所述第一保护层5内部,所述第二保护层8上设有凹槽,所述第一保护层5与第二保护层8之间设有铜管1,该铜管1从上到下缠绕在第二保护层8的凹槽上,由于这种设置,所述钢管1更具有稳固性,不会产生移位的问题,由于钢管1的稳固性保证了产品均匀受热,减少了原料的损耗,所述第二保护层8上设有支座7,所述支座7焊接在所述第一保护层5的内表面,通过焊接技术保证了支座的强度,所述第一保护层5上部设有盖6。
所述铜管1的开口设在第一保护层5上,左侧开口为进水口2,右侧开口为出水口4。
所述第二保护层8 的厚度为25mm ~ 35mm。
所述第一保护层5 与盖6之间通过铰链连接。
工作时,通过将产品放在加热支座7上,关闭上盖6,将铜管1接通电源,产生高频电加热产品,20 分钟~ 30 分钟后,产品加热到奥氏体状态,注入熔融金属,最后将产品冷却,完成加工过程。
以上内容是结合具体的优选实施方式对本发明所作的进一步详细说明,不能认定本发明的具体实施只局限于这些说明。对于本发明所属技术领域的普通技术人员来说,在不脱离本发明构思的前提下,还可以做出若干简单推演或替换,都应当视为属于本发明的保护范围。

Claims (4)

1.热处理装置,其特征在于:包括底座,所述底座上部设有第一保护层、第二保护层,所述第二保护层设在所述第一保护层内部,所述第二保护层上设有凹槽,所述第一保护层与第二保护层之间设有铜管,该铜管从上到下缠绕在第二保护层的凹槽上,所述第二保护层上设有支座,所述支座焊接在所述第一保护层的内表面,所述第一保护层上部设有盖。
2.根据权利要求1所述的热处理装置,其特征在于:所述铜管的开口设在第一保护层上,左侧开口为进水口,右侧开口为出水口。
3.根据权利要求1所述的热处理装置,其特征在于:所述第二保护层的厚度为25mm ~ 35mm。
4.根据权利要求1所述的热处理装置,其特征在于:所述第一保护层与盖之间通过铰链连接。
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PB01 Publication
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SE01 Entry into force of request for substantive examination
RJ01 Rejection of invention patent application after publication
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