CN104890323A - 一种新型玻璃结构及其生产工艺 - Google Patents

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Abstract

本发明公开了一种新型玻璃结构及其生产工艺，包括玻璃本体和设置在玻璃本体表面的膜层结构，其中，所述膜层结构从内到外依次包括内介质层、AlZnO氧化物保护层、AgO层、AZO氧化物保护层和外介质层。本发明改变了传统常的可钢化LOW-E玻璃膜层结构，提供一种新型的膜层结构，该膜层稳定、牢固，不易被氧化，钢化后颜色变化小，钢化后膜层结构稳定，产品透光率可以达到85%。

Description

一种新型玻璃结构及其生产工艺
技术领域
本发明涉及钢化玻璃生产领域，尤其涉及的是一种新型玻璃结构及其生产工艺。
背景技术
传统的可钢化LOW-E玻璃表面所附着的膜层结构从内到外包括：介质层、金属保护层、银层、金属保护层和介质层。经研究，LOW-E玻璃的透光率主要取决于银层和两个金属保护层，而银层的厚度是由产品的辐射率E值决定的，因此透光率的高低主要由两个金属保护层所决定。实际生产中，在LOW-E玻璃钢化过程中，两个金属保护层越厚对银层的保护效果则越好，使银层不易被氧化，保证产品的稳定性；但是金属保护层越厚，产品的透光率就越低，市面上的可钢化LOW-E玻璃的透光率均低于80%，这是可钢化LOW-E玻璃难以解决的技术问题。
因此，现有技术还有待于改进和发展。
发明内容
本发明的目的在于提供一种新型玻璃结构及其生产工艺，旨在提供一种高透光率的可钢化LOW-E玻璃。
为了提高可钢化LOW-E玻璃的透光率，发明人对传统的LOW-E玻璃结构（主要是膜层结构）进行了以下试验：
试验1：减薄银层的金属保护层，同时增加一层氧化物保护层。其结构是（从内到外）：介质层、金属保护层、银层、金属保护层、氧化物保护层和介质层，其中氧化物保护层为AZO氧化物保护层。经过测试，生产得到的成品玻璃虽然透光率升高了，但也无法达到80%以上，同时玻璃在钢化前后颜色变化较大，膜层结构不稳定，不能应用于生产。
虽然试验1产品的透光率达不到要求，但是可以得到，钢化的过程其实就是金属保护层部分被氧化，同时保护银层不被氧化的过程，如果在钢化前提前让银层进行少量氧化（表面氧化），即可极大的延缓银层在钢化过程中的氧化作用，同时发明人发现AZO氧化物保护层的保护性能以及透光能力明显高于传统的金属保护层。
因此发明人进行了试验二：利用AZO氧化物保护层完全替代金属保护层（其中一个），同时将银层用AgO层替换，其膜层结构调整为：介质层、金属保护层、AgO层、AZO氧化物保护层和介质层，经过测试，生产得到的成品玻璃虽然透光率有所上升，但仍达不到80%的标准，且钢化后颜色变化大，膜层结构不稳定，易脱膜、氧化。
虽然试验二的产品仍不满足要求，但是发明人发现，金属保护层的存在对产品的透光率造成极大的影响，同时其保护性能不足也是导致膜层结构不稳定的根本原因，因此发明人尝试需求替代试验二结构中的金属保护层的材料。
经过多次试验，发现利用AlZnO氧化物保护层替代金属保护层，不但可以提高产品的透光率，同时可以提高产品的稳定性，最后得到本发明的技术方案：一种新型玻璃结构，包括玻璃本体和设置在玻璃本体表面的膜层结构，其中，所述膜层结构从内到外依次包括内介质层、AlZnO氧化物保护层、AgO层、AZO氧化物保护层和外介质层。经过多次实验证明，本发明的膜层结构钢化前后稳定，钢化前后颜色基本没变化，不容易被氧化，透光率可达80%以上。而后此膜层结构的试验品经过对耐酸，耐碱，研磨等实验均达到国家标准。最后确定产品为蓝绿色为标准色，符合大众化需求，同时性能也能满足客户需求。
实际应用中，内介质层和外介质层均为硅铝层。
本发明还公开了该新型玻璃结构的生产工艺，其中，包括以下步骤：
A、将玻璃本体表面洗净，保证无杂质或灰尘；
B、将玻璃本体输送到溅射腔体中，溅射腔体内部设置有膜层结构材料，对膜层结构材料通电，激发出离子，将离子溅射在玻璃本体表面；
C、溅射腔体通电，将硅铝离子溅射在玻璃本体表面，形成内介质层；
D、溅射腔体通电，将铝锌离子溅射在玻璃本体表面，形成AlZnO氧化物保护层；
E、溅射腔体通电，将银离子溅射在玻璃本体表面，形成AgO层；
F、溅射腔体通电，将AZO合金离子溅射在玻璃本体表面，形成AZO氧化物保护层；
G、溅射腔体通电，将硅铝离子溅射在玻璃本体表面，形成外介质层。
实际应用中，所述步骤C中，通电电流为120A，溅射时间为50S~70S。
实际应用中，所述步骤D中，通电电流为50A，溅射时间为50S~70S。
所述的新型玻璃结构的生产工艺，其中，所述步骤E中，通电电流为13A，溅射时间为50S~70S。
实际应用中，所述步骤F中，通电电流为55A，溅射时间为50S~70S。
实际应用中，所述步骤G中，通电电流为110A，溅射时间为50S~70S。
本发明的有益效果：本发明改变了传统常的可钢化LOW-E玻璃膜层结构，提供一种新型的膜层结构，该膜层稳定稳定、牢固，不易被氧化，钢化后颜色变化小，钢化后膜层结构稳定，产品透光率可以达到85%。
附图说明
图1是本发明中新型玻璃结构的结构示意图。
具体实施方式
为使本发明的目的、技术方案及优点更加清楚、明确，以下参照附图并举实施例对本发明进一步详细说明。
实施例1
本实施例公开了一种新型玻璃结构，如图1所述，包括玻璃本体100和设置在玻璃本体100表面的膜层结构，该膜层结构从内到外依次包括内介质层200、AlZnO氧化物保护层300、AgO层400、AZO氧化物保护层500和外介质层600。AlZnO氧化物保护层300和AZO氧化物保护层500的作用是保护AgO层400在钢化过程中不会被氧化，保证膜层结构的稳定性，同时AlZnO氧化物保护层300和AZO氧化物保护层500具有极好的透光率，能极大的提高成品玻璃的透光率。
实际应用中，内介质层200和外介质层600均为硅铝层。
本实施例还公开了该新型玻璃结构的生产工艺，包括以下步骤：
A、将玻璃本体表面洗净，保证无杂质或灰尘；
B、将玻璃本体输送到溅射腔体中，溅射腔体内部设置有膜层结构材料，对膜层结构材料通电，激发出离子，将离子溅射在玻璃本体表面；
C、溅射腔体通电，将硅铝离子溅射在玻璃本体表面，形成内介质层；
D、溅射腔体通电，将铝锌离子溅射在玻璃本体表面，形成AlZnO氧化物保护层；
E、溅射腔体通电，将银离子溅射在玻璃本体表面，形成AgO层；
F、溅射腔体通电，将AZO合金离子溅射在玻璃本体表面，形成AZO氧化物保护层；
G、溅射腔体通电，将硅铝离子溅射在玻璃本体表面，形成外介质层。
具体的，步骤C中，通电电流为120A，溅射时间为50S~70S。
具体的，步骤D中，通电电流为50A，溅射时间为50S~70S。
具体的，步骤E中，通电电流为13A，溅射时间为50S~70S。
具体的，步骤F中，通电电流为55A，溅射时间为50S~70S。
具体的，步骤G中，通电电流为110A，溅射时间为50S~70S。
对本实施例得到的LOW-E玻璃进行测试，得到以下表格：
可以看出，实施例1得到的LOW-E玻璃钢化后的透光率超过85%，满足产品需求，同时膜层结构钢化前后稳定，钢化前后颜色基本没变化，不容易被氧化。
应当理解的是，本发明的应用不限于上述的举例，对本领域普通技术人员来说，可以根据上述说明加以改进或变换，所有这些改进和变换都应属于本发明所附权利要求的保护范围。

Claims (8)

1.一种新型玻璃结构，包括玻璃本体和设置在玻璃本体表面的膜层结构，其特征在于，所述膜层结构从内到外依次包括内介质层、AlZnO氧化物保护层、AgO层、AZO氧化物保护层和外介质层。
2.根据权利要求1所述的新型玻璃结构，其特征在于，所述内介质层和外介质层均为硅铝层。
3.一种如权利要求1或2所述的新型玻璃结构的生产工艺，其特征在于，包括以下步骤：
A、将玻璃本体表面洗净，保证无杂质或灰尘；
B、将玻璃本体输送到溅射腔体中，溅射腔体内部设置有膜层结构材料，对膜层结构材料通电，激发出离子，将离子溅射在玻璃本体表面；
C、溅射腔体通电，将硅铝离子溅射在玻璃本体表面，形成内介质层；
D、溅射腔体通电，将铝锌离子溅射在玻璃本体表面，形成AlZnO氧化物保护层；
E、溅射腔体通电，将银离子溅射在玻璃本体表面，形成AgO层；
F、溅射腔体通电，将AZO合金离子溅射在玻璃本体表面，形成AZO氧化物保护层；
G、溅射腔体通电，将硅铝离子溅射在玻璃本体表面，形成外介质层。
4.根据权利要求3所述的新型玻璃结构的生产工艺，其特征在于，所述步骤C中，通电电流为120A，溅射时间为50S~70S。
5.根据权利要求3所述的新型玻璃结构的生产工艺，其特征在于，所述步骤D中，通电电流为50A，溅射时间为50S~70S。
6.根据权利要求3所述的新型玻璃结构的生产工艺，其特征在于，所述步骤E中，通电电流为13A，溅射时间为50S~70S。
7.根据权利要求3所述的新型玻璃结构的生产工艺，其特征在于，所述步骤F中，通电电流为55A，溅射时间为50S~70S。
8.根据权利要求3所述的新型玻璃结构的生产工艺，其特征在于，所述步骤G中，通电电流为110A，溅射时间为50S~70S。
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