CN104843877A - 含高卤素离子循环冷却水系统用高效缓蚀阻垢剂 - Google Patents
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Abstract
本发明属于工业循环冷却水处理技术领域，具体涉及一种用于含高卤素离子循环冷却水系统用高效缓蚀阻垢剂。该缓蚀阻垢剂由按质量百分比，该高效缓蚀阻垢剂的组分包括：A组份：钼酸钠5～15，钨酸钠5～15，葡萄糖酸钠15～25，硼酸钠5～15，硫酸锌15～25，氯化锌5～10，硅酸钠3～8，苯并三唑2～6。B组份：HEDP15～25，PBTC15～25，AA／AMPS35～50，水15～25。通过复合配方内钼酸钠、钨酸钠、硼酸钠、硅酸钠、锌盐、苯并三唑的合理比例搭配，使之发挥最大的缓蚀增效作用，在金属表面形成一层致密的缓蚀保护膜，防止水中腐蚀离子的进一步侵蚀。同时结合阻垢分散剂的协同效应，能有效防止无机盐垢的产生、缓蚀剂的沉淀析出，达到高效缓蚀抑垢的效果。
Description
技术领域
本发明属于工业循环冷却水处理技术领域，具体涉及一种用于含高卤素离子循环冷却水系统的高效缓蚀阻垢剂。
背景技术
在工业循环冷却水处理领域，水质结垢和对设备的腐蚀的程度随着循环冷却水水质及补充水质的不同而变化。特别是工业再生水的大量回用给循环水质稳定处理技术提出了更高的要求，如焦化再生水、炼油厂含盐再生水均含有较高的卤素离子(C1-达到1000-2000mg/L)，历腐性极强而影响了其在循环冷却水系统的回用，还有某些含卤素离子的化工产品生产过程中由于腐蚀泄漏问题导致循环冷却水系统中卤素离子高达1500-3000mg/L，极大的威胁着生产的安全，迫切的渴望着能有一种针对高卤素离子腐蚀的缓蚀阻垢剂来帮他们解决生产难题，以避免经常性的临时停产处理的窘境。高卤素离子循环冷却水系统用高效缓蚀阻垢剂就是在这种背境下研发出来的，以便帮助更多的企业提高再生水的回用，减少不必要的停产处理，增加产品生产产量，降低生产消耗。
发明内容
本发明的目的在于提供一种适用于含高卤素离子循环冷却水系统缓蚀、抑垢的高效缓蚀阻垢剂。
为实现上述目的，本发明所采取的技术方案是高效缓蚀阻垢剂，其中A组份：钼酸钠5～15，钨酸钠5～15，葡萄糖酸钠15～25，硼酸钠5～15，硫酸锌15～25，氯化锌5～10，硅酸钠3～8，苯并三唑2～6。
B组份：HEDP15～25，PBTC15～25，AA／AMPS35～50，水15～25。
本发明的高效缓蚀阻垢剂适用于含高卤素离子循环冷却水系统中，药剂投加浓度为A组份投加浓度为65-80mg·L-1，B组份投加浓度为35-60mg·L-1，维持此浓度下可长年运行。
将本发明的高效缓蚀阻垢剂投加于含高卤素离子循环冷却水系统中，各药剂间存在明显的协同增效作用：
①通过复合配方内钼酸钠、钨酸钠、葡萄糖酸钠、硼酸钠、硅酸钠、锌盐、苯并三唑的合理比例搭配，使之发挥最大的缓蚀增效作用，在金属表面形成一层緻密的缓蚀保护膜，防止水中高浓度卤素离子的进一步侵蚀。
②通过复合配方内阻垢分散剂的协同效应，能有效防止无机盐垢的产生、缓蚀剂的沉淀析出，抗击卤素离子的侵蚀，达到高效缓蚀和抑垢的综合效果。
③在此高卤素离子浓度恶劣的腐蚀环境下所用的药剂配方仍保持低磷、易水解，环境友好产品，不会危害环境，使用安全等特点，
能大幅减小微生物滋生和繁殖的可能，降低杀菌剂的投加频率和投加浓度，从而降低水处理的运行成本。
本发明提供的用于含高卤素离子循环冷却水系统的高效缓蚀阻垢剂配方与现有的技术相比具有如下优点：(1)本发明提供的高效缓蚀阻垢剂配方可有效地解决现有循环冷却水处理中尚未解决的高卤素离子腐蚀难题，可拓展循环冷却水的应用领域，解决焦化再生水、炼油含盐再生水的回用问题，还可解决某些地区由于氯离子浓度高而长期采用低浓缩倍数运行的问题。(2)本发明提供的高效缓蚀阻垢剂配方可为生产含卤素离子的产品的化工企业提供一种可靠的缓蚀阻垢剂保护，确保生产的长周期安全稳定运行。还可作为含卤素离子产品突发泄漏至循环水系统的应急处理药剂，以维持生产系统的连续生产运行。(3)本产品为低磷、无毒易水解，环境友好产品。(4)本产品原料易得、复合配制简便，现场投加操作简单方便。
具体实施方式
本发明提供的高效缓蚀阻垢剂配制比例按质量百分比计，具体配比范围为：A组份：钼酸钠5～15，钨酸钠5～15，葡萄糖酸钠15～30，硼酸钠5～15，硫酸锌15～25，氯化锌5～10，，硅酸钠3～8，苯并三唑2～6。
B组份：HEDP15～25，PBTC15～25，AA／AMPS35～50，水15～25。
具体配制方法：A组份：按上述药剂配比和顺序依次将药剂粉末投加入不锈钢混合搅拌器内进行均匀混合搅拌后，称量包装即可。B组份：
下面列举数个配方实例加以说明：
配方一：钼酸钠8g，钨酸钠10g，葡萄糖酸钠20g,硼酸钠5g，硫酸锌15g，氯化锌5g，硅酸钠3g，苯并三唑3g，HEDP10g，PBTC10g，AA／AMPS20g。
配方二：钼酸钠10g，钨酸钠8g，葡萄糖酸钠20g,硼酸钠5g，硫酸锌15g，氯化锌5g，硅酸钠3g，苯并三唑3g，HEDP10g，PBTC10g，AA／AMPS20g。
配方三：钼酸钠8g，钨酸钠10g，葡萄糖酸钠20g,硼酸钠5g，硫酸锌15g，氯化锌5g，硅酸钠5g，苯并三唑5g，HEDP8g，PBTC8g，AA／AMPS16g。
配方四：钼酸钠10g，钨酸钠8g，葡萄糖酸钠20g,硼酸钠5g，硫酸锌15g，氯化锌5g，硅酸钠5g，苯并三唑5g，HEDP8g，PBTC8g，AA／AMPS16g。
配方五：钼酸钠10g，钨酸钠10g，葡萄糖酸钠20g,硼酸钠5g，硫酸锌15g，氯化锌5g，硅酸钠5g，苯并三唑5g，HEDP10g，PBTC10g，AA／AMPS20g。
配方六：钼酸钠8g，钨酸钠12g，葡萄糖酸钠20g,硼酸钠5g，硫酸锌15g，氯化锌5g，硅酸钠5g，苯并三唑5g，HEDP10g，PBTC10g，AA／AMPS20g。
将上述配方制成试样，并按GB18175-2000-T水处理剂缓蚀性能的测定旋转挂片法进行测试，测试结果见表1。
具体试验条件
仪器与设备：RCC-II型旋转挂片腐蚀试验仪、电子天平等。
试验温度：50℃
试验pH值控制：8.3±0.2
试验时间：72小时
试验用水：某化工厂现场工业循环冷却水：pH8.35，电导率4225μs／cm，
总硬度(以CaCO3计)455mg／L，钙硬度(以CaCO3计)325mg／L，总碱度280mg／L，
氯离子285Omg／L，SO4 2-398mg／L。
试验挂片：I型碳钢、黄铜、不锈钢。
对比药剂现场用普通缓蚀阻垢剂。
测试结果：见表1.
表1高效缓蚀阻垢剂对比试验测试结果
Claims (7)
1.一种用于含高卤素离子循环冷却水系统用高效缓蚀阻垢剂，其特征在于：
按质量百分比，该高效缓蚀阻垢剂的组分包括：
A组份：钼酸钠5～15，钨酸钠5～15，葡萄糖酸钠15～25，硼酸钠5～15，硫酸锌15～25，氯化锌5～10，，硅酸钠3～8，苯并三唑2～6。
B组份：HEDP15～25，PBTC15～25，AA／AMPS35～50，水15～25。
2.根据权利要求1所述高效缓蚀阻垢剂，其特征在于对含高卤素离子循环冷却水系统有特别优异的抗卤素离子腐蚀的能力。
3.根据权利要求1所述高效缓蚀阻垢剂，其特征在于适用于开式含高卤素离子循环冷却水系统，A组份投加浓度为65-80mg·L-1，B组份投加浓度为35-60mg·L-1，维持此浓度下可长年运行。
4.根据权利要求1所述高效缓蚀阻垢剂，其特征在于通过复合配方内钼酸钠、钨酸钠、硼酸钠、硅酸钠、锌盐、苯并三唑的合理比例搭配，使之发挥最大的缓蚀增效作用，在金属表面形成一层緻密的缓蚀保护膜，防止水中腐蚀离子的进一步侵蚀。同时结合阻垢分散剂的协同效应，能有效防止无机盐垢的产生、缓蚀剂的沉淀析出，达到高效缓蚀抑垢的效果。
5.根据权利要求1所述高效缓蚀阻垢剂，其特征在于特别适用于处理高含高卤素离子循环冷却水系统，对这种高强腐蚀性的水质直接进行处理，解决了GB50050-2007工业循环冷却水处理设计规范中卤素离子超1000mg/L后的腐蚀控制问题。
6.根据权利要求1所述高效缓蚀阻垢剂，其特征在于本产品原料易得、复合配制简便，现场投加操作简单方便。
7.根据权利要求1所述高效缓蚀阻垢剂，其特征在于在此恶劣的腐蚀环境下该配方所用的物质属低磷、易水解，环境友好产品，不会危害环境，使用安全，有利于环境保护。
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