CN104818394A - 一种用于立式还原罐的导流器及其制造方法 - Google Patents

Abstract

本发明提供一种用于立式还原罐的导流器，包括纵长的筒体和与筒体同轴设置的清理装置，所述筒体上开设有若干贯穿筒壁且平行于筒体轴线的通孔，所述清理装置包括中心柱与焊接于中心柱上的刮板、限位板和连接部，所述刮板贯穿于所述通孔，通过反复拉动清理装置即可清理疏通堵塞的通孔，使还原罐中心管清理工作大大简化，且清理工作在炉内进行，可避免立式还原罐导流器取出清理的繁重工作和高温的立式还原罐导流器取出清理时造成的氧化破坏，提高立式还原罐导流器使用寿命和工作效率。

Description

一种用于立式还原罐的导流器及其制造方法

技术领域

本发明涉及冶炼领域，更具体的说，涉及一种使用在金属镁的立式还原罐上的导流装置。

背景技术

在现有技术中，国内外金属镁生产的主要方法还是以卧式还原罐(横罐)硅热还原法为主，而立式还原罐(竖罐)炼镁是继卧式还原罐后兴起的一项新技术，其工艺原理和生产步骤与卧罐炼镁是相同的，主要区别在于：还原罐垂直竖立于炉膛内，并开设下出料口，依靠重力从上部加料下部出渣，大大方便了炉料填入以及渣料排放的自动化、机械化生产，降低工人劳动强度。

请参阅公开于2009年9月2日的CN101520276A发明专利申请揭示的一种立式还原罐，从中我们可以看到立式还原罐的另一个特殊结构：中空的导流筒，筒身设有多个贯穿壁厚的孔隙，孔隙将导流筒的内部与外部连通，导流筒的存在，使得镁蒸气的流通更加顺畅，缩短还原时间，节约燃料，如果不设置导流筒，球团料及其碎屑粉尘形成相对严实的部分(立式还原罐底部更为严重)，冶炼过程中产生的镁蒸气将很难上升到达设置在立式还原罐顶部的结晶桶冷却结晶，造成料镁比高、炼镁效率低；而且，还原罐外部炉膛的加热深度通常达不到中心位置，因而填充在中心管位置的球团料事实上也很难得到充分冶炼，进一步拉高了料镁比。

然而，目前的立式还原罐导流筒多采用无缝钢管，并在管壁上开设多个供镁蒸气通过的开孔。开孔还经常被冶炼过程中产生的还原渣等堵塞，进而减少镁蒸气传输通道，使用给炼镁过程带来很大影响，因此导流筒使用一段时间后需从还原罐中取出清理堵塞开孔的还原渣，从高温的还原罐中取出导流筒劳动强度较大，易发生烫伤等安全事故，且高温导流筒接触空气易被氧化，缩短使用寿命。

鉴于此，有必要设计一种用于立式还原罐的导流器来解决上述问题。

发明内容

本发明要解决的技术问题是：提供一种不易堵塞、易于清理并可提高冶炼效率的用于立式还原罐的导流器。

为达到上述目的，本发明提供了如下技术方案：一种用于立式还原罐的导流器，包括竖直设置的圆筒状的筒体和安装于筒体内的清理装置，所述筒体包括筒壁且具有一中心轴线，所述筒体上开设有若干贯穿筒壁的通孔，所述通孔沿平行于中心轴线的方向延伸，所述清理装置包括与筒体同轴设置的中心柱以及若干固定于中心柱上的刮板，所述刮板分别贯穿前述通孔。

进一步地，所述若干通孔具有相同的高度及长度。

进一步地，所述通孔在竖直方向上被分隔成若干个第一通孔及若干个第二通孔，所述第一通孔与第二通孔具有不同的高度及相同的长度。

进一步地，所述若干通孔平均分布于筒体的圆周上。

进一步地，所述清理装置进一步包括设置在中心柱上的若干限位板，所述限位板自中心柱横向延伸至靠近筒壁的位置，以限制清理装置在水平方向上的活动范围。

进一步地，所述若干限位板分别靠近中心柱的两端设置。

进一步地，所述中心柱的至少一端上设有连接部，拉动连接部可使清理装置相对于筒体沿中心轴线运动。

本发明要解决的技术问题还在于提供一种用于立式还原罐的导流器的制造方法，该包括以下步骤：

首先，提供一中间贯通的圆柱状筒体，所述筒体在其筒壁上开设有多个贯穿筒壁且平行于筒体中心轴线的狭长形通孔；

其次，提供一金属制的中心柱，将其沿筒体的中心轴线插入筒体中；

然后，提供若干金属制的刮板，所述刮板分别沿各通孔插入筒体中，使得刮板的一端抵靠在中心柱上，另一端暴露出筒壁；

最后，从通孔中将刮板与中心柱焊接为一体。

进一步地，所述中心柱的两端分别设有至少两个限位板，所述限位板自中心柱横向延伸至靠近筒壁的位置。

与现有技术相比，本发明所揭露的用于立式还原罐的导流器通过反复拉动清理装置即可清理疏通镁蒸气的通道，使还原罐中心管清理工作大大简化，且清理工作可在炉内进行，可避免立式还原罐导流器取出清理繁中工作和高温的立式还原罐导流器取出清理时造成的氧化破坏，提高立式还原罐导流器使用寿命和工作效率。

附图说明

图1为符合本发明的用于立式还原罐的导流器的局部剖示图。

图2为图1所示用于立式还原罐的导流器沿A-A方向的剖视图。

图3为图1所示用于立式还原罐的导流器沿B-B方向的剖视图。

图4为本发明用于立式还原罐的导流器另一实施方式的局部剖示图。

具体实施方式

下面结合附图1至3对符合本发明的、用于冶炼金属镁的立式还原罐导流器100进一步具体描述如下。

一种用于立式还原罐的导流器100，其包括竖直设置的、中间贯通的圆筒状筒体10和与筒体10同轴设置的清理装置20。所述筒体10上开设有若干贯穿筒壁102且平行于筒体10轴线的通孔101。所述通孔101具有相同的高度以及相同的长度。所述清理装置20包括中心柱201和固定于中心柱201上的刮板202、限位板203和连接部204。

所述刮板202贯穿于所述通孔201，限位板203支撑清理装置20架设在筒体10的筒壁102上，所述连接部204为孔状，并与中心柱201一体成型，在其余实施例中，连接部204可以为钩状，并可与中心柱201分开设置通过后期装配连接成一体。向上拉动连接部204可升起清理装置20，然后在重力的作用下，整个清理装置20自动回落至升起前的位置，通过反复拉动连接部204带动刮板202上下运动，可将堵塞于通孔101内的还原渣脱落。虽然本实施例中的连接部204设置于中心柱201的一端(上端)，但当筒体10横向放置时，如果在中心柱201的另一端同样设置连接部204，则可以实现在横向上来回拉动清理装置20，同样可以实现清理通孔201的功能，即符合本发明的中心柱201的至少一端上设有连接部204。

优选地，所述刮板202被配置成沿中心柱201对称设置，其数量为双数。显然，在非对称设置的情况下，例如，通孔201将筒体10的圆周三等分或者五等分并不影响本发明的实施效果。所述刮板202与中心柱201之间的固定方式是采用焊接的技术，所述焊接可优先选择从通孔101中伸进去实施。显然，刮板202与中心柱201之间的固定方式还可以是采用卡扣装配、铆接等其他方式完成。

所述限位板203自中心柱201横向延伸至靠近筒壁102内侧的位置，以限制清理装置20在水平方向上的活动范围、避免其晃动后导致任意一侧的刮板202脱离通孔101，因此，在同一水平面上的限位板203至少包含两个。本实施例中，所述限位板203由两组分别靠近中心柱201上下两个末端的限位架2031组成，限位架2031为沿圆周平均分布于中心柱201上的四块筋，限位架2031可以是与中心柱201一体铸造的，也可以是被额外固定到中心柱201上的，其中对称设置的两个限位架2031加上中心柱201的直径略微小于筒壁102的内径。所述限位板203可限制清理装置20在水平方向上晃动以保障刮板202始终位于通孔101中。

请参阅图4，下面介绍符合本发明的用于立式还原罐的导流器100的第二种实施例。在该实施例中，所述若干通孔101在竖直方向上被分隔成若干个具有第一高度的第一通孔1011及若干个具有第二高度的第二通孔1012，所述第一通孔1011及第二通孔1012可以上下对齐，也可以绕圆周错开设置。由于所有刮板202的行程都是随中心柱201同步而相同，因此通孔101都选择相同长度为最佳。所述若干通孔101平均分布在所述筒体10的圆周上，有利于镁蒸气的逸出均匀，且刮板202贯穿于通孔101，均匀分布于中心柱201上，受力均匀，起吊清理装置20时可以更加顺利。

符合本发明的用于立式还原罐的导流器100是通过以下步骤制造的：首先，提供一中间贯通的圆柱状筒体10，所述筒体10在其筒壁102上开设有多个贯穿筒壁且平行于筒体10中心轴线的狭长形通孔101；其次，提供一金属制的中心柱201，将其沿筒体10的中心轴线插入筒体10中；然后，提供若干金属制的刮板202，将刮板202分别沿各通孔101插入筒体10中，使得刮板202的一端抵靠在中心柱201上，另一端暴露出筒壁102；最后，从通孔101中将刮板202与中心柱201焊接为一体。优选地，上述步骤中所采用的中心柱201的两端还分别设有至少两个限位板203，所述限位板203自中心柱横向延伸至靠近筒壁102的位置，以起到防止中心柱201在水平方向晃动的作用。

综上所述，以上仅为本发明的较佳实施例而已，不应以此限制本发明的范围。凡是依本发明权利要求书及说明书内容所作的简单的等效变化与修饰，皆应仍属本发明专利涵盖的范围内。

Claims (10)

1.一种用于立式还原罐的导流器，包括竖直设置的圆筒状的筒体和安装于筒体内的清理装置，所述筒体包括筒壁且具有一中心轴线，其特征在于：所述筒体上开设有若干贯穿筒壁的通孔，所述通孔沿平行于中心轴线的方向延伸，所述清理装置包括与筒体同轴设置的中心柱以及若干固定于中心柱上的刮板，所述刮板分别贯穿前述通孔。

2.如权利要求1所述的用于立式还原罐的导流器，其特征在于：所述若干通孔具有相同的高度及长度。

3.如权利要求1所述的用于立式还原罐的导流器，其特征在于：所述通孔在竖直方向上被分隔成若干个第一通孔及若干个第二通孔，所述第一通孔与第二通孔具有不同的高度及相同的长度。

4.如权利要求3所述的用于立式还原罐的导流器，其特征在于：所述第一通孔与第二通孔上下对齐。

5.如权利要求1所述的用于立式还原罐的导流器，其特征在于：所述若干通孔平均分布于筒体的圆周上。

6.如权利要求1所述的用于立式还原罐的导流器，其特征在于：所述清理装置进一步包括设置在中心柱上的若干限位板，所述限位板自中心柱横向延伸至靠近筒壁的位置，以限制清理装置在水平方向上的活动范围。

7.如权利要求6所述的用于立式还原罐的导流器，其特征在于：所述若干限位板分别靠近中心柱的两端设置。

8.如权利要求1至7所述任意一项中用于立式还原罐的导流器，其特征在于：所述中心柱的至少一端设有连接部，拉动连接部可使清理装置相对于筒体沿中心轴线运动。

9.一种用于立式还原罐的导流器的制造方法，包括如下步骤：

首先，提供一中间贯通的圆柱状筒体，所述筒体在其筒壁上开设有多个贯穿筒壁且平行于筒体中心轴线的狭长形通孔；

其次，提供一金属制的中心柱，将其沿筒体的中心轴线插入筒体中；

然后，提供若干金属制的刮板，所述刮板分别沿各通孔插入筒体中，使得刮板的一端抵靠在中心柱上，另一端暴露出筒壁；

最后，从通孔中将刮板与中心柱焊接为一体。

10.如权利要求9所述的用于立式还原罐的导流器的制造方法，其特征在于：所述中心柱的两端分别设有至少两个限位板，所述限位板自中心柱横向延伸至靠近筒壁的位置。