CN104766931A - 一种显示基板的制造方法、显示基板和显示装置 - Google Patents

一种显示基板的制造方法、显示基板和显示装置 Download PDF

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Abstract

本发明提供了一种显示基板的制造方法、显示基板和显示装置，所述方法包括：在显示基板的非显示区域上形成有机薄膜层；在显示基板上打印有机功能层；剥离有机薄膜层，以去除非显示区域的所述有机功能层。本发明能够清除打印到非显示区域的有机功能层，同时避免在清除过程中产生颗粒，影响显示效果。

Description

一种显示基板的制造方法、显示基板和显示装置
技术领域
本发明涉及液晶显示领域，尤其涉及一种显示基板的制造方法、显示基板和显示装置。
背景技术
有机电致发光器件OLED相对于液晶显示器LCD具有自发光、反应快、视角广、亮度高、色彩艳、轻薄等优点，被认为是下一代显示技术。
针对OLED/PLED有机电致发光器件，有机薄膜的形成方法有以下两种：
<方法一>真空蒸镀
适用于有机小分子，其特点是有机薄膜的形成不需要溶剂，薄膜厚度均一，但是其设备投资大、材料利用率低、不适用于大尺寸产品的生产。
<方法二>溶液制成
具体包括旋涂、喷墨打印、喷嘴涂覆法等，适用于聚合物材料和可溶性小分子，其特点是设备成本低，在大规模、大尺寸生产上优势突出。
其中，连续打印技术是溶液制程中的重要技术之一，具有设备简单、打印速度快等优点。打印过程中，喷嘴快速往返移动，所以如图1所示，连续打印技术面临的问题之一就是打印的有机功能层薄膜3会出现在非显示区域内。
目前，去除非显示区域的有机功能层薄膜的方法有等离子体蚀刻、激光蚀刻、溶剂清洗等，但是采用上述清洁方法时会产生颗粒，影响显示效果。
发明内容
本发明的目的是提供一种显示基板的制造方法、显示基板和显示装置，清除打印到非显示区域的有机功能层，同时避免在清除过程中产生颗粒，影响显示效果。
为了实现上述目的，本发明实施例提供了一种显示基板的制造方法，所述方法包括：
在所述显示基板的非显示区域上形成有机薄膜层；
在所述显示基板上打印有机功能层；
剥离所述有机薄膜层，以去除所述非显示区域的所述有机功能层。
上述的制造方法，其中，所述有机功能层包括空穴注入层、空穴传输层和发光层。
上述的制造方法，其中，所述有机薄膜层的厚度为3-20微米。
上述的制造方法，其中，在所述显示基板的非显示区域上形成有机薄膜层之后，所述方法还包括：
在所述显示基板上形成像素界定层；
所述在所述显示基板上打印有机功能层具体为：
在所述像素界定层限定的像素区域内打印所述有机功能层。
上述的制造方法，其中，所述在所述显示基板上形成像素界定层具体包括：
采用旋涂、刮涂或狭缝涂布方式在所述显示基板上涂布具有疏水性的光刻胶；
对所述光刻胶依次进行预烘烤、曝光、显影和后烘工艺，形成所述像素界定层。
上述的制造方法，其中，在所述像素界定层限定的像素区域内打印所述有机功能层具体为：
在所述像素界定层限定的像素区域内连续打印所述有机功能层。
上述的制造方法，其中，所述在所述显示基板的非显示区域上形成有机薄膜层具体为：
采用狭缝涂布和喷墨打印的方式在所述显示基板的非显示区域上涂布有机材料，以形成所述有机薄膜层。
上述的制造方法，其中，所述有机材料能够导电；
所述剥离所述有机薄膜层具体为：
将所述有机薄膜层的两端分别与电源的两极连接，导通后产生焦耳热，利用所述焦耳热破坏所述像素界定层与所述有机薄膜层之间的界面，以剥离所述有机薄膜层。
上述的制造方法，其中，所述剥离所述有机薄膜层具体为：
将所述显示基板通过紫外线照射，利用所述紫外线产生的能量破坏所述像素界定层与所述有机薄膜层之间的界面，并采用机械方式剥离所述有机薄膜层。
上述的制造方法，其中，在剥离所述有机薄膜层，以去除所述非显示区域的所述有机功能层之后，所述方法还包括：
采用真空蒸镀的方式形成电子传输层、电子注入层和阴极金属。
为了实现上述目的，本发明实施例还提供了一种显示基板，所述显示基板采用上述任一项所述的制造方法制造。
为了实现上述目的，本发明实施例还提供了一种显示装置，所述显示装置包括上述所述的显示基板。
在本发明实施例中，首先在显示基板的非显示区域上形成有机薄膜层，然后在显示基板上打印有机功能层，最后通过剥离有机薄膜层，以去除非显示区域的所述有机功能层。上述工艺简单有效，且过程中不会产生颗粒，影响显示效果。
附图说明
图1为现有技术中采用连续打印的方式制作有机薄膜的示意图；
图2为本发明实施例提供的显示基板的制作方法的流程示意图；
图3a-3d为本发明实施例提供的显示基板制作过程的示意图；
其中，主要组件符号说明：
1：显示基板、2：像素界定层、3：有机功能层、4：喷嘴、5：有机薄膜层、6：像素区外、7：像素分隔墙。
具体实施方式
为使本发明实施例要解决的技术问题、技术方案和优点更加清楚，下面将结合附图及具体实施例进行详细描述。
本发明实施例提供了一种显示基板的制造方法，所述方法如图2所示，包括：
步骤21，在所述显示基板的非显示区域上形成有机薄膜层；
步骤22，在所述显示基板上打印有机功能层；
步骤23，剥离所述有机薄膜层，以去除所述非显示区域的所述有机功能层。
上述过程能够清除打印到非显示区域的有机功能层，同时避免在清除过程中产生颗粒，影响显示效果。
下面结合附图3a-3b详细介绍一下上述制造方法。
本发明实施例提供的显示基板制作方法如图3a所示，先在显示基板1的非显示区域上形成有机薄膜层5，具体可以采用狭缝涂布和喷墨打印的方式在所述显示基板1的非显示区域上涂布有机材料，以形成所述有机薄膜层5。优选地，所述有机薄膜层5经过退火处理后的厚度为3-20微米。
为了限定墨滴精确的喷入指定的像素区域，因此需要在基板上制作像素界定层。另外，如果先形成像素界定层2后再形成有机薄膜层5，在形成有机薄膜层时会把边缘的像素界定层溜平，然后连续打印到有机薄膜层时墨水会向显示区域内倒流，导致显示区域边缘的有机功能层厚度均一性变差。因此，需要先形成有机薄膜层5再形成像素界定层2。即在执行步骤21之后，所述方法还包括：
步骤210，在所述显示基板上形成像素界定层2，如图3b所示。其中，步骤210具体包括：
采用旋涂、刮涂或狭缝涂布方式在所述显示基板上涂布具有疏水性的光刻胶；
对所述光刻胶依次进行预烘烤、曝光、显影和后烘工艺，形成所述像素界定层。
在形成像素界定层2之后，执行步骤22，如图3c所示，具体为：
在所述像素界定层2限定的像素区域内打印所述有机功能层3。
优选地，采用连续打印的方式打印有机功能层3，其中，所述有机功能层3包括空穴注入层、空穴传输层和发光层。此时非显示区域的有机功能层3的墨水会停留在有机薄膜层5上。
最后执行步骤23，通过剥离有机薄膜层5，以去除非显示区域的有机功能层3。优选地，剥离方式如下：
<方式一>
当形成所述有机薄膜层5的有机材料能够导电时，步骤23具体为：
将所述有机薄膜层5的两端分别与电源的两极连接，导通后产生焦耳热，利用所述焦耳热破坏所述像素界定层2与所述有机薄膜层5之间的界面，以剥离所述有机薄膜层5。
将有机材料层5的两端通电形成回路，电流流经导电的有机材料，产生热量，利用此焦耳热将像素界定层2与该有机材料层5之间的界面破坏，从而将二者分离，如图3d所示。
<方式二>
步骤23具体为：
紫外线照射所述显示基板1，利用所述紫外线产生的能量破坏所述像素界定层2与所述有机薄膜层5之间的界面，并采用机械方式剥离所述有机薄膜层5，同样如图3d所示。
本发明实施例通过上述方式剥离有机薄膜层5，从而去除非显示区域的所述有机功能层3，过程中不会产生颗粒。
当然，在剥离有机薄膜层5之后，还需要蒸镀其他OLED功能层和阴极。即所述方法还包括：
步骤24，采用真空蒸镀的方式形成电子传输层、电子注入层和阴极金属。
通过上述步骤完成显示基板的制造，能够避免连续打印时，有机功能层薄膜出现在非显示区域内，且工艺简单有效，不会产生颗粒，影响显示效果。
本发明实施例还提供了一种显示基板，所述显示基板采用上述任一项所述的制造方法制造。
本发明实施例还提供了一种显示装置，所述显示装置包括上述所述的显示基板。
以上所述仅是本发明的优选实施方式，应当指出，对于本技术领域的普通技术人员来说，在不脱离本发明原理的前提下，还可以做出若干改进和润饰，这些改进和润饰也应视为本发明的保护范围。

Claims (12)

1.一种显示基板的制造方法，其特征在于，所述方法包括：
在所述显示基板的非显示区域上形成有机薄膜层；
在所述显示基板上打印有机功能层；
剥离所述有机薄膜层，以去除所述非显示区域的所述有机功能层。
2.如权利要求1所述的制造方法，其特征在于，所述有机功能层包括空穴注入层、空穴传输层和发光层。
3.如权利要求1所述的制造方法，其特征在于，所述有机薄膜层的厚度为3-20微米。
4.如权利要求1所述的制造方法，其特征在于，在所述显示基板的非显示区域上形成有机薄膜层之后，所述方法还包括：
在所述显示基板上形成像素界定层；
所述在所述显示基板上打印有机功能层具体为：
在所述像素界定层限定的像素区域内打印所述有机功能层。
5.如权利要求4所述的制造方法，其特征在于，所述在所述显示基板上形成像素界定层具体包括：
采用旋涂、刮涂或狭缝涂布方式在所述显示基板上涂布具有疏水性的光刻胶；
对所述光刻胶依次进行预烘烤、曝光、显影和后烘工艺，形成所述像素界定层。
6.如权利要求4或5所述的制造方法，其特征在于，在所述像素界定层限定的像素区域内打印所述有机功能层具体为：
在所述像素界定层限定的像素区域内连续打印所述有机功能层。
7.如权利要求1所述的制造方法，其特征在于，所述在所述显示基板的非显示区域上形成有机薄膜层具体为：
采用狭缝涂布和喷墨打印的方式在所述显示基板的非显示区域上涂布有机材料，以形成所述有机薄膜层。
8.如权利要求7所述的制造方法，其特征在于，所述有机材料能够导电；
所述剥离所述有机薄膜层具体为：
将所述有机薄膜层的两端分别与电源的两极连接，导通后产生焦耳热，利用所述焦耳热破坏所述像素界定层与所述有机薄膜层之间的界面，以剥离所述有机薄膜层。
9.如权利要求7所述的制造方法，其特征在于，所述剥离所述有机薄膜层具体为：
将所述显示基板通过紫外线照射，利用所述紫外线产生的能量破坏所述像素界定层与所述有机薄膜层之间的界面，并采用机械方式剥离所述有机薄膜层。
10.如权利要求1所述的制造方法，其特征在于，在剥离所述有机薄膜层，以去除所述非显示区域的所述有机功能层之后，所述方法还包括：
采用真空蒸镀的方式形成电子传输层、电子注入层和阴极金属。
11.一种显示基板，其特征在于，所述显示基板采用如权利要求1-10任一项所述的制造方法制造。
12.一种显示装置，其特征在于，所述显示装置包括权利要求11所述的显示基板。
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