CN104765505A - 一种触控显示面板、制造方法和显示装置 - Google Patents

一种触控显示面板、制造方法和显示装置 Download PDF

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Abstract

本发明的实施例提供一种触控显示面板、制造方法和显示装置,属于显示器技术领域,用于解决现有白色OGS触控显示屏的白色遮光层的OD值偏低,进而导致白色OGS触摸屏的外观亮度较小的问题,该触控显示面板包括:显示区域和包围所述显示区域的非显示区域;所述显示区域包括:衬底基板和设置于所述衬底基板的触控功能层;所述非显示区域包括:衬底基板以及依次设置于所述衬底基板上的白色遮光层和增反层;所述增反层用于增大所述触控显示面板对入射光线的反射率;所述触控功能层、白色遮光层和增反层位于所述衬底基板的同一侧。本发明的实施例用于显示器的制造。

Description

一种触控显示面板、制造方法和显示装置
技术领域
本发明涉及显示器技术领域,尤其涉及一种触控显示面板、制造方法和显示装置。
背景技术
近年来,触控技术被广泛地应用在各种多媒体电子产品中,特别是便携式的移动电子产品,诸如手机、电子书、平板电脑等。使用触控技术作为输入的手段可有效取代现有的键盘或鼠标的输入方法,触控技术除了便利性之外,更具有操作的直觉性,触控输入方式也已成为极受欢迎的人机交互界面与多媒体互动方式。电容式触控显示屏是继电阻式触控显示屏之后新一代面向市场的触控显示屏,它在性能上比上一代的产品有了质的飞跃,不仅反应灵敏,而且支持多点触控,使触控产品的可玩性和可操作性大大提高。目前电容屏主要包括GG(英文:GLASS-GLASS)式触控显示屏和OGS(英文:One Glass Solution)式触控显示屏;其中,GG式触控显示屏需贴合两次,故贴合的良率普遍偏低,而OGS式触控显示屏则是在保护玻璃上直接形成ITO导电膜及传感器的技术,使一块玻璃同时起到保护玻璃和触摸传感器的双重作用。所以OGS式触控显示屏技术相比于G/G触控技术结构简单,具有轻、薄、透光性好等特点,而且由于省掉一片玻璃基材以及贴合工序,降低了生产成本,并提高产品良率。所以OGS技术渐渐成为触控产业的主导技术方向。
OGS式触控显示屏主要分为白色OGS触控显示屏和黑色OGS触控显示屏两种;其中,白色OGS触控显示屏的白色遮光层的材料主要为纳米二氧化钛(化学式:TiO2),即通过非常小的纳米TiO2的颗粒,增加白色OGS触控显示屏外观的白度,从而使其外观为白色,但是由于纳米TiO2的颗粒太小,所以不能有效的对入射光线反射和吸收,所以白色遮光层的光学密度(英文:Optical density;简称:OD)值偏低,进而导致白色OGS触摸屏的外观亮度较小。
发明内容
本发明的实施例提供一种触控显示面板、制造方法和显示装置,用于解决现有白色OGS触控显示屏的白色遮光层的OD值偏低,进而导致白色OGS触摸屏的外观亮度较小的问题。
为达到上述目的,本发明的实施例采用如下技术方案:
第一方面,提供一种触控显示面板,包括显示区域和包围所述显示区域的非显示区域;
所述显示区域包括:衬底基板和设置于所述衬底基板的触控功能层;
所述非显示区域包括:衬底基板以及依次设置于所述衬底基板上的白色遮光层和增反层;所述增反层用于增大所述触控显示面板对入射光线的反射率;
所述触控功能层、白色遮光层和增反层位于所述衬底基板的同一侧。
可选的,所述增反层包括:
五氧化二铌形成的第一层结构和位于所述第一层结构上由二氧化硅形成的第二层结构。
可选的,所述触控显示面板还包括:黑色遮光层;所述黑色遮光层设置于所述增反层上。
可选的,所述白色遮光层的材料为白色光阻材料,所述黑色遮光层的材料为黑色光阻材料。
可选的,所述白色遮光层的材料为白色油墨,所述黑色遮光层的材料为黑色油墨。
第二方面,提供一种触控显示面板的制造方法,包括:
在所述衬底基板上形成白色遮光层,所述白色遮光层位于触控显示面板的非显示区域;
在所述白色遮光层上形成增反层,所述增反层用于增大所述触控显示面板对入射光线的反射率;
通过构图工艺在所述衬底基板上形成触控功能层;所述触控功能层位于所述触控显示面板的显示区域;
所述触控功能层、白色遮光层和增反层位于所述衬底基板的同一侧。
可选的,所述在所述白色遮光层上形成增反层,包括:
在形成有白色遮光层的衬底基板上使用五氧化二铌形成第一结构层;
在形成有第一结构层的衬底基板上使用二氧化硅形成第二结构层。
可选的,在所述通过构图工艺在所述衬底基板上形成触控功能层前,所述方法还包括:
在形成有增反层的衬底基板上形成黑色遮光层。
可选的,所述在所述衬底基板上形成白色遮光层,包括:
在所述衬底基板上形成一层白色光阻材料,通过光刻工艺形成所述白色遮光层;
所述在所述增反层上形成黑色遮光层,包括:
在形成有增反层的衬底基板上形成一层黑色光阻材料,通过光刻工艺形成所述黑色遮光层。
可选的,所述在所述衬底基板上形成白色遮光层,包括:
通过丝印工艺在所述衬底基板上印刷白色油墨形成所述白色遮光层;
所述在所述增反层上形成黑色遮光层,包括:
通过丝印工艺在形成有增反层的衬底基板上印刷黑色油墨形成所述黑色遮光层。
第三方面,提供一种显示装置,包括第一方面任一项所述的触控显示面板。
上述提供的触控显示面板、制造方法和显示装置,包括显示区域和包围所述显示区域的非显示区域,所述显示区域包括:衬底基板和设置于所述衬底基板的触控功能层;所述非显示区域包括:衬底基板以及依次设置于所述衬底基板上的白色遮光层和增反层,所述增反层可以增大所述触控显示面板对入射光线的反射率,触控功能层、白色遮光层和增反层位于所述衬底基板的同一侧;所以本发明的实施例提供的触控显示面板可以提高入射光线在透过白色遮光层后的反射率,进而可以减小白色遮光层对光线的透过率,以提高OD值,同时,提高触控显示面板对入射光线的反射率还可以增加触控显示面板的亮度。
附图说明
为了更清楚地说明本发明实施例的技术方案,下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍,显而易见地,下面描述中的附图仅仅是本发明的一些实施例,对于本领域普通技术人员来讲,在不付出创造性劳动的前提下,还可以根据这些附图获得其他的附图。
图1为本发明实施例提供的一种显示面板的示意性结构图;
图2为发明实施例提供的图1所示触控显示面板沿A-A’垂直截面的剖面图;
图3为发明实施例提供的另一种显示面板的示意性结构图;
图4为发明实施例提供的图3所示触控显示面板沿A-A’垂直截面的剖面图;
图5为发明实施例提供的一种触控显示面板的制造方法的步骤流程图;
图6为发明实施例提供的另一种触控显示面板的制造方法的步骤流程图;
图7为发明实施例提供的又一种触控显示面板的制造方法的步骤流程图。
附图标记:
显示区域-11;
非显示区域-12;
衬底基板-10;
触控功能层-20;
白色遮光层-30;
增反层-40;
黑色遮光层-50。
具体实施方式
下面将结合本发明实施例中的附图,对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述,显然,所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例,而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例,本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例,都属于本发明保护的范围。
本发明实施例中的“上”、“下”以制造阵列基板时的先后顺序为准,例如,在上的图案是指相对在后形成的图案,在下的图案是指相对在先形成的图案。
需要说明的是,本发明实施例中的白色遮光层、增反层以及触控功能层均是由各种中材料层在触控显示面板中所起的作用来划分的。所以“层”可以是指利用某一种材料在基板上利用沉积等工艺制作出的一层薄膜,还可以是指多种材料在分别基板上利用构图工艺形成的实现某一种功能的功能层。
本发明的实施例提供一种触控显示面板,具体的,参照图1、2所示,其中,图2为沿图1的A-A’垂直截面的剖面图,包括显示区域11和包围所述显示区域的非显示区域12;
显示区域包括:衬底基板10和设置于衬底基板的触控功能层20;
非显示区域包括:衬底基板10以及依次设置于衬底基板上的白色遮光层30和增反层40;增反层40用于增加触控显示面板对入射光线的反射率;
所述触控功能层、白色遮光层和增反层位于所述衬底基板的同一侧。
上述实施例提供的触控显示面板,包括显示区域和包围显示区域的非显示区域,显示区域包括:衬底基板和设置于衬底基板的触控功能层;非显示区域包括:衬底基板以及依次设置于衬底基板上的白色遮光层和增反层,增反层可以增大触控显示面板对入射光线的反射率,触控功能层、白色遮光层和增反层位于所述衬底基板的同一侧;所以本发明的实施例提供的触控显示面板可以提高入射光线在透过白色遮光层后的反射率,进而可以减小白色遮光层对光线的透过率,以提高OD值,同时,提高触控显示面板对入射光线的反射率还可以增加触控显示面板的亮度。
示例性的,增反层包括:五氧化二铌(化学式:Nb2O5)形成的第一层结构和位于所述第一层结构上由二氧化硅(化学式SiO2)形成的第二层结构。即增反层可以采用Nb2O5+SiO2膜系。
进一步的,参照图3、4所示,其中,图4为沿图3的A-A’垂直截面的剖面图,
触控显示面板还包括:黑色遮光层50;黑色遮光层50设置于增反层上40。
在增反层上设置黑色遮光层,可以提高触控显示面板对光线的吸收率,进而可以进一步提高触控显示面板的光学密度值。
示例性的,白色遮光层的材料为白色光阻材料,黑色遮光层的材料为黑色光阻材料。
示例性的,白色遮光层的材料为白色油墨,黑色遮光层的材料为黑色油墨。
本发明一实施例提供一种触控显示面板的制造方法,用于制作上述实施例提供的触控显示面板,参照图5所示,该方法包括:
S501、在衬底基板上形成白色遮光层,白色遮光层位于触控显示面板的非显示区域。
S502、在白色遮光层上形成增反层。
S503、通过构图工艺在衬底基板上形成触控功能层;触控功能层位于触控显示面板的显示区域;
触控功能层、白色遮光层和增反层位于衬底基板的同一侧。
触控功能层通常包括ITO电极层、导线层以及绝缘层,本文不对触控功能层的具体层结构做限定,触控功能层以能够实现触控功能为准。构图工艺通常包括基板清洗、成膜、光刻胶涂覆、曝光、显影、刻蚀、光刻胶剥离等工序;对于金属层通常采用物理气相沉积方式(例如磁控溅射法)成膜,通过湿法刻蚀形成图形,而对于非金属层通常采用化学气相沉积方式成膜,通过干法刻蚀形成图形。
本发明实施例提供的触控显示面板的制造方法,在衬底基板上的显示区域制作触控功能层,在非显示制作衬底基板上的白色遮光层和增反层,增反层用于增大所述触控显示面板对入射光线的反射率;并且所述触控功能层、白色遮光层和增反层位于所述衬底基板的同一侧,所以本发明的实施例提供的触控显示面板的制造方法制造的触控显示面板可以提高入射光线在透过白色遮光层后的反射率,进而可以减小白色遮光层对光线的透过率,以提高OD值,同时,提高触控显示面板对入射光线的反射率还可以增加触控显示面板的亮度。
本发明一实施例提供一种触控显示面板的制造方法,参照图6所示,该方法包括:
S601、在衬底基板上形成一层白色光阻材料,并通过光刻工艺形成白色遮光层。
光刻工艺为构图工艺的一种,通常包括:预处理、形成底膜、涂覆光刻胶、烘烤、曝光、显影、刻蚀等步骤。其中,预处理一般包括:湿法清洗、去离子水清洗、脱水烘焙等步骤;形成底膜通常是通过气象沉积、磁控溅射等方法来实现;涂覆光刻胶可以通过静态涂胶、或动态涂胶来实现,烘烤用于去除光刻胶中的溶剂或者显影后的溶剂。此外,光刻工艺还可以包括:坚膜烘焙、显影检查等步骤。本文不限定形成白色光阻层和黑色光阻层时使用光刻工艺中的步骤以及个步骤的使用次数,以能够形成白色光阻层和黑色光阻层为准。
S602、在形成有白色遮光层的衬底基板上使用五氧化二铌形成第一结构层。
S603、在形成有第一结构层的衬底基板上使用二氧化硅形成第二结构层。
示例性的,在白色遮光层上使用五氧化二铌形成第一结构层以及在形成有第一结构层的衬底基板上使用二氧化硅形成第二结构层均可以采用磁控溅射的方式制备而成。
S604、在形成有第二结构层的衬底基板上形成一层黑色光阻材料,并通过光刻工艺形成所述黑色遮光层。
在增反层上设置黑色遮光层,可以提高触控显示面板对光线的吸收率,进而可以进一步提高触控显示面板的光学密度值。
S605、通过构图工艺在衬底基板上形成触控功能层;触控功能层位于触控显示面板的显示区域。
本发明在一实施例提供一种触控显示面板的制造方法,参照图7所示,该方法包括:
S701、通过丝印工艺在衬底基板上印刷白色油墨形成白色遮光层;所述白色油墨层位于触控显示面板的非显示区域。
丝印工艺又称为丝网印刷工艺,丝印工艺中的一个重要步骤为丝网印版的制作,通常丝网印版制作的工艺流程包括:已绷网、脱脂、烘干、涂膜、剥离基片、曝光、显影、修版等步骤。制作并得到丝网印版后即可通过挂印刮板、油墨等印刷白色油墨层和黑色油墨层。
S702、在形成有白色遮光层的衬底基板上使用五氧化二铌形成第一结构层。
S703、在形成有第一结构层的衬底基板上使用二氧化硅形成第二结构层。
同样,在白色遮光层上使用五氧化二铌形成第一结构层以及在形成有第一结构层的衬底基板上使用二氧化硅形成第二结构层均可以采用磁控溅射的方式制备而成。
S704、通过丝印工艺在形成有第二结构层的衬底基板上印刷黑色油墨形成所述黑色遮光层。
在增反层上设置黑色遮光层,可以提高触控显示面板对光线的吸收率,进而可以进一步提高触控显示面板的光学密度值。
S705、通过构图工艺在衬底基板上形成触控功能层;触控功能层位于触控显示面板的显示区域。
本发明一实施例提供一种显示装置,该显示装置包括上述任一项的触控显示面板,触控显示面板可以由本发明实施例提供的触控显示面板制造方法获得。显示装置可以为液晶显示器、液晶电视、数码相机、手机、平板电脑等任何具有显示功能的产品或者部件。
以上所述,仅为本发明的具体实施方式,但本发明的保护范围并不局限于此,任何熟悉本技术领域的技术人员在本发明揭露的技术范围内,可轻易想到变化或替换,都应涵盖在本发明的保护范围之内。因此,本发明的保护范围应以权利要求的保护范围为准。

Claims (11)

1.一种触控显示面板,其特征在于,包括显示区域和包围所述显示区域的非显示区域;
所述显示区域包括:衬底基板和设置于所述衬底基板的触控功能层;
所述非显示区域包括:衬底基板以及依次设置于所述衬底基板上的白色遮光层和增反层;所述增反层用于增大所述触控显示面板对入射光线的反射率;
所述触控功能层、白色遮光层和增反层位于所述衬底基板的同一侧。
2.根据权利要求1所述的触控显示面板,其特征在于,所述增反层包括:
五氧化二铌形成的第一层结构和位于所述第一层结构上由二氧化硅形成的第二层结构。
3.根据权利要求1所述的触控显示面板,其特征在于,所述触控显示面板还包括:黑色遮光层;所述黑色遮光层设置于所述增反层上。
4.根据权利要求3所述的触控显示面板,其特征在于,所述白色遮光层的材料为白色光阻材料,所述黑色遮光层的材料为黑色光阻材料。
5.根据权利要求3所述的触控显示面板,其特征在于,所述白色遮光层的材料为白色油墨,所述黑色遮光层的材料为黑色油墨。
6.一种触控显示面板的制造方法,其特征在于,包括:
在所述衬底基板上形成白色遮光层,所述白色遮光层位于触控显示面板的非显示区域;
在所述白色遮光层上形成增反层,所述增反层用于增大所述触控显示面板对入射光线的反射率;
通过构图工艺在所述衬底基板上形成触控功能层;所述触控功能层位于所述触控显示面板的显示区域;
所述触控功能层、白色遮光层和增反层位于所述衬底基板的同一侧。
7.根据权利要求6所述的方法,其特征在于,所述在所述白色遮光层上形成增反层,包括:
在形成有白色遮光层的衬底基板上使用五氧化二铌形成第一结构层;
在形成有第一结构层的衬底基板上使用二氧化硅形成第二结构层。
8.根据权利要求6所述的方法,其特征在于,在所述通过构图工艺在所述衬底基板上形成触控功能层前,所述方法还包括:
在形成有增反层上的衬底基板上形成黑色遮光层。
9.根据权利要求8所述的方法,其特征在于,所述在所述衬底基板上形成白色遮光层,包括:
在所述衬底基板上形成一层白色光阻材料,通过光刻工艺形成所述白色遮光层;
所述在所述增反层上形成黑色遮光层,包括:
在形成有增反层的衬底基板上形成一层黑色光阻材料,通过光刻工艺形成所述黑色遮光层。
10.根据权利要求8所述的方法,其特征在于,所述在所述衬底基板上形成白色遮光层,包括:
通过丝印工艺在所述衬底基板上印刷白色油墨形成所述白色遮光层;
所述在所述增反层上形成黑色遮光层,包括:
通过丝印工艺在形成有增反层的衬底基板上印刷黑色油墨形成所述黑色遮光层。
11.一种显示装置,其特征在于,包括权利要求1-5任一项所述的触控显示面板。
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