CN104656994A - 一种触控屏或电气面板的彩色边框涂层 - Google Patents
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Abstract
本发明公开了一种触控屏或电气面板的彩色边框涂层,该涂层可以在玻璃面板上存在单层膜系结构或多层复合膜系结构,制备方法可以用多种真空镀膜方法:多弧离子镀、磁控溅射和蒸发镀等物理气相沉积方法或化学气相沉积CVD方法,通过以上方法制备出来的彩色边框可以形成纯单质所呈现的金属颜色、紫色、黄色、蓝色、绿色等化合物薄膜颜色、各种干涉色以及黑色;该涂层具有较好的中高温抗氧化性,在工业级使用温度范围可以长期保持色调的稳定;该涂层根据需求既可实现符合通讯产品要求的透过率0.1%,电阻率高于1011Ω·㎝,厚度在300nm以内,有不干扰信号又可遮光的效果;又可实现电器产品屏蔽电磁辐射的要求。
Description
技术领域
本发明属于半导体领域,特别涉及一种触控屏或电气面板的彩色边框涂层。
背景技术
传统的触控屏或电气面板的边框采用的是丝印遮光油墨层或者先在钢化玻璃基板上涂布黑色感光材料(BM),之后再在其上面覆盖有机流平层(OC),以便后续制备ITO导电膜,然后制作ITO电极层并将其图形化,接着将FPC通过热压连接到ITO图案电极层上,最后在SENSOR功能区贴附一层防爆膜保护。
传统方法均存在不足的地方,影响了产品的使用寿命和产品率,如:
(1)由于采用有机油墨,其化学生产方法对环境和生产人员产生不利影响;
(2)有机物容易老化,不利于产品的使用寿命;
(3)特别地针对OGS触控屏,由于黑色感光材料的吸光率不足,要达到遮光的效果,涂布的厚度至少要在微米级,这样对后续的工艺实施增加了较大的难度和生产成本;
(4)然而涂布的黑色感光材料不耐高温,高温老化严重,甚至碳化,在后续的热压和ITO成膜上造成很大的困难,局部碳化会形成游离电极,干扰正常触摸的电容信号;
(5)针对于高反发白的反射涂层,由于黏结剂为有机物,随着使用环境的温度和湿度影响,黏结剂会产生化合键断裂,变质而发黄。
发明内容
本发明所要解决的技术问题是:提供一种触控屏或电气面板的彩色边框涂层,该涂层可以在玻璃面板上存在多种膜系结构,制备方法可以用多种真空镀膜方法:多弧离子镀、磁控溅射和蒸发镀等物理气相沉积方法甚至化学气相沉积CVD方法,通过以上方法制备出来的彩色边框可以形成纯单质所呈现的金属颜色;紫色、黄色、蓝色、绿色等化合物薄膜颜色;各种干涉色以及黑色;该涂层具有较好的中高温抗氧化性,在工业级使用温度范围可以长期保持色调的稳定;该涂层根据需求既可实现符合通讯产品要求的透过率0.1%,电阻率高于1011Ω·㎝,厚度在300nm以内,有不干扰信号又可遮光的效果;又有可实现电器产品屏蔽电磁辐射的要求。
为解决上述技术问题,本发明采用如下技术方案:
使用在触控屏上,可以实现电阻率高于1011Ω·㎝,形成不干扰信号传输的遮光层使用的单层膜系结构,使用的材料选自:禁带宽度小于1.55ev的半导体材料、金属氧化物、氮化物、硫化物、硼化物、或者这几种材料的混合型化合物如氮氧化合物、氧硼化合物或氮硼化合物等等,几种代表性金属为Ti、Cr、Zr、Nb、Ta、W、Mo,或它们的合金。
使用在电气面板上,实现电器产品的电磁辐射屏蔽,更好的抵抗外界信号的干扰使用的单层膜系结构,使用的材料选自:纯金属W、W的合金、其它有色金属或者合金,或者禁带宽度小于1.55ev的半导体材料、或有色金属(包括单质及它们的化合物,这些单质的合金及它们的化合物);除此之外还有一些过渡族金属、或它们的氮化物、碳化物、硫化物、氧化物、硼化物,或者这几种材料的混合型化合物如氮氧化合物、碳氮化合物、氮硼化合物等等,它们都具备选择吸收的特性,符合低透的要求,譬如纯金属W以及W的合金、Cu2S、HfC、MoO3掺Mo、V2O5、ReO3、Eu2O3、PbS、CuOx、TiNX以及CrxB等等。
实现彩色边框的采用半导体材料或者合金,如金铜合金为玫瑰金、V2O5为土黄色、FeOX为酒红色、Cu2S为黑色、TiNX为金黄色或者棕色等。
具备耐高温特性的彩色边框采用多层复合膜系结构,其膜层结构为“电介质层-金属单质层-电介质层”、“干涉-增强选择性吸收叠堆”以及渐变光学性能涂层;“干涉-增强选择性吸收叠堆”或称“电介质层-吸收层-电介质层-吸收层”,简称D-A-D-A叠堆,为了增加涂层的遮光,涂层为将电介质层D和吸收层A周期性的叠堆在一起,即D-A-D-A-D-A-D......D,周期数至少在2以上。
采用“电介质层-金属单质层-电介质层”的涂层结构,金属单质层为厚度在50纳米以上的灰白色单质金属层,如铟、银、铝、镍、铬、不锈钢等一系列的灰白色金属单质或它们的合金,电介质层为一些折射率在2.2以内的材料如氧化物和氮化物,由以上材料形成多层复合膜系结构,其表面呈现出来的是一系列的随电介质层厚度变化的干涉色,甚至因厚度不均匀时而出现的七彩色。
采用“干涉-增强选择性吸收叠堆”的涂层结构,吸收层为所有的金属单质或者其合金,厚度在50纳米以内,金属层还没形成连续性薄膜,薄膜具备较大的电阻,此时,金属层表现出强烈的吸收特性;除此之外还包括禁带宽度小于1.55ev的半导体材料、有色金属、过渡族金属、过渡族金属的氮化物、碳化物、硫化物、氧化物、硼化物、氮氧化合物、碳氮化合物、或氮硼化合物;所述有色金属为金属单质或其化合物或其合金。所述的过渡族金属选自Ti、Cr、Zr、Nb、Ta、W、Mo或其合金。而电介质层为折射率在2.2以内的材料如氧化物和氮化物。
而采用渐变光学性能涂层,所述渐变光学性能涂层的折射率由上到下逐渐变大,消光系数由上到下逐渐增大,其材料为电介质-金属复合材料,或同种金属的不同化合物。如ALN-Al、SiO2-Ni、Al2O3-Pt等。所述电介质-金属复合材料为在体积百分数在50%以内的电介质基体中嵌入有金属粒子的复合材料。所述电介质-金属复合材料为在体积百分数在50%以内的电介质基体中嵌入有金属粒子的复合材料,如ALN-Al、SiO2-Ni、Al2O3-Pt等。所述同种金属的不同化合物为过渡族金属的氮化物、碳化物、硫化物、氧化物、硼化物、氮氧化合物、碳氮化合物、氮硼化合物中的一种或几种;所述过渡族金属选自Ti、Cr、Zr、Nb、Ta、W、Mo或其合金。
以上所述涂层具有较好的中高温抗氧化性,在工业级使用温度范围内可长期保持色调的稳定,可以采用多种物理气相沉积方法(多弧离子镀、磁控溅射、蒸发镀)和化学气相沉积CVD方法制备,对环境友好。
附图说明
图1是本发明实施例6的电介质层-金属单质层-电介质层的结构示意图;
图2是本发明实施例7的干涉-增强选择性吸收叠堆的结构示意图;其中,中间白色部分表示重叠的CrNX/Si3N4;
图3是本发明实施例8的渐变光学性能涂层的结构示意图。
具体实施方式
下面结合附图对本发明作进一步说明。以下是对本发明的进一步说明,而不是对本发明的限制;
实施例1
涂层结构为单层的NiOX或CuOx,厚度在120nm以上,可实现低透过,高绝缘的黑化边框,采用蒸发和磁控的方法均可实现。
实施例2
涂层结构为单层的有色金属钨或者石墨、厚度在30nm以上,可实现低透过,高反射的黑化边框,采用磁控或者多弧的方法均可实现。
实施例3
涂层结构为单层的TiNX、厚度在80nm以上,可实现低透过,高反射的金黄色边框,采用磁控或者多弧的方法均可实现。
实施例4
涂层结构为单层的FeOX、厚度在80nm以上,可实现低透过,高绝缘的酒红色边框,采用磁控或者多弧的方法均可实现。
实施例5
涂层结构为单层的金铜合金、厚度在20nm以上,可实现低透过,高反射的玫瑰金色边框,采用磁控或者多弧的方法均可实现。
实施例6
涂层结构参照图1,采用的结构自底部到顶部依次为:Glass/AL2O3/Mo/SiO2,所述的自玻璃往上第一层AL2O3的厚度在30-120nm,主要起干涉显色的作用,而Mo的厚度在50nm以上,第二层SiO2的厚度在150nm以上,主要起防护的作用,所有的膜层均采用磁控溅射方法,SiO2层由中频电源制备,Mo由直流电源制备,连续生产的设备不同靶材间还需配置隔离室。
以上涂层做出的颜色是彩色,通过控制第一层氧化硅不同的厚度显示不同的颜色。
以上涂层放置在空气中250℃烘烤100个小时,基本保持颜色稳定。
实施例7
涂层结构参考图2,采用的结构自底部到顶部依次为:Glass/AL2O3/CrNX/Si3N4/CrNX/Si3N4。。。,CrNX/Si3N4至少2组以上叠堆,所述的涂层电阻率高于1011Ω·㎝,第一层AL2O3的厚度至少在10nm以上,第二层CrNX的厚度至少在30nm以上,第三层Si3N4的厚度至少在60nm以上,第四、第五层类推,由此形成的膜系颜色由多层介质共同干涉决定,简便的采用直流磁控溅射或者PECVD都可以完成。
以上涂层放置在空气中500℃以上烘烤100个小时,仍能保持膜层的稳定。
实施例8
涂层结构参考图3,采用的结构自底部到顶部依次为:Glass/AL2O3/CrOX/CrNX/Si3N4,所述的涂层电阻率高于1011Ω·㎝,第一层AL2O3的厚度至少在10nm以上,第二层CrOX的厚度至少在60nm以上,第三层CrNX的厚度至少在60nm以上,第四层Si3N4起保护作用,厚度在50nm以上,由此形成的膜系颜色由多层介质共同干涉决定,简便的采用直流磁控溅射或者PECVD都可以完成。
以上涂层放置在空气中500℃以上烘烤100个小时,仍能保持膜层的稳定。
以上所述实施例仅表达了本发明的几种实施方式,其描述较为具体和详细,但并不能因此而理解为对本发明专利范围的限制。应当指出的是,对于本领域的普通技术人员来说,在不脱离本发明构思的前提下,还可以做出若干变形和改进,这些都属于本发明的保护范围。因此,本发明专利的保护范围应以所附权利要求为准。
Claims (10)
1.一种触控屏或电气面板的彩色边框涂层,其特征在于:所述彩色边框涂层为单层膜系结构或多层复合膜系结构。
2.如权利要求1所述的触控屏或电气面板的彩色边框涂层,其特征在于:所述单层膜系结构的使用材料选自:禁带宽度小于1.55ev的半导体材料、有色金属、过渡族金属、过渡族金属的氮化物、碳化物、硫化物、氧化物、硼化物、氮氧化合物、碳氮化合物、或者氮硼化合物;所述有色金属为金属单质或其化合物或其合金,所述的过渡族金属选自几种代表性的金属Ti、Cr、Zr、Nb、Ta、W、Mo或其合金。
3.如权利要求1所述的触控屏或电气面板的彩色边框涂层,其特征在于:所述多层复合膜系结构为“电介质层-金属单质层-电介质层”结构。
4.如权利要求3所述的触控屏或电气面板的彩色边框涂层,其特征在于:所述的金属单质层为厚度在50纳米以上的灰白色单质金属层,所述的电介质层为折射率在2.2以内的氧化物或氮化物;所述的灰白色金属为选自铟、银、铝、镍、铬、和不锈钢的金属单质或其合金。
5.如权利要求1所述的触控屏或电气面板的彩色边框涂层,其特征在于:所述多层复合膜系结构为“干涉-增强选择性吸收叠堆”或“电介质层-吸收层-电介质层-吸收层”,所述“电介质层-吸收层”周期性的叠堆在一起,周期数至少在2以上。
6.如权利要求5所述的触控屏或电气面板的彩色边框涂层,其特征在于:所述吸收层组成材料选自:金属单质或其合金,厚度在50纳米以内;禁带宽度小于1.55ev的半导体材料、有色金属、过渡族金属、过渡族金属的氮化物、碳化物、硫化物、氧化物、硼化物、氮氧化合物、碳氮化合物、或氮硼化合物;所述有色金属为金属单质或其化合物或其合金。
7.如权利要求4或5所述的触控屏或电气面板的彩色边框涂层,其特征在于:所述的电介质为折射率在2.2以内的氧化物或氮化物。
8.如权利要求1所述的触控屏或电气面板的彩色边框涂层,其特征还在于:所述多层复合膜系结构为渐变光学性能涂层,所述渐变光学性能涂层的折射率由上到下逐渐变大,消光系数由上到下逐渐增大,所述涂层组成材料为电介质-金属复合材料,或同种金属的不同化合物。
9.如权利要求8所述的触控屏或电气面板的彩色边框涂层,其特征在于:所述电介质-金属复合材料为在体积百分数在50%以内的电介质基体中嵌入有金属粒子的复合材料,所述同种金属的不同化合物为过渡族金属的氮化物、碳化物、硫化物、氧化物、硼化物、氮氧化合物、碳氮化合物、氮硼化合物中的一种或几种;所述过渡族金属选自Ti、Cr、Zr、Nb、Ta、W、Mo或其合金。
10.一种触控屏或电气面板的彩色边框涂层,其特征在于:所述涂层由多弧离子镀、磁控溅射、蒸发镀或化学气相沉积CVD方法实现。
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