CN104582575A - 处置差分相衬成像中的未对准 - Google Patents

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Abstract

本发明涉及处置差分相衬成像中的未对准。为了提供对用于差分相衬成像的X射线成像系统中的未对准的经改进的处置，提供了一种用于差分相衬成像的X射线成像系统(10)，所述X射线成像系统(10)包括差分相衬设置(12)，所述差分相衬设置(12)具有：X射线源(14)、X射线探测器(16)和光栅布置，所述光栅布置包括源光栅(18)、相位光栅(20)和分析器光栅(22)。所述源光栅被布置在所述X射线源与所述相位光栅之间，并且所述分析器光栅被布置在所述相位光栅与所述探测器之间。另外，所述系统包括处理单元(24)和测量系统(26)，所述测量系统(26)用于确定所述光栅中的至少一个的未对准。所述X射线源和所述源光栅被提供为刚性X射线源单元(28)。所述相位光栅、所述分析器光栅和所述探测器被提供为刚性X射线探测单元(30)。所述测量系统是光学测量系统，所述光学测量系统被配置为确定包括所述X射线源单元的所述差分相衬设置与所述X射线探测单元之间的未对准。另外，所述处理单元被配置为基于所确定的未对准来提供校正信号(34)。

Description

处置差分相衬成像中的未对准
技术领域
本发明涉及处置差分相衬成像中的未对准，并且具体涉及一种用于差分相衬成像的X射线成像系统、涉及一种用于处置用于差分相衬成像的X射线成像系统中的未对准的方法、涉及一种计算机程序单元，并且涉及一种计算机可读介质。
背景技术
差分相衬成像，也被称为DPCI，正在成为前景光明的X射线成像模态，例如用于乳房摄影。为了能够使用提供非相干X射线辐射的常规X射线管，与X射线源相关地提供用来产生部分相干X射线光波的吸收光栅，这就是为什么使用术语“源光栅”或G0。另外，提供相位光栅或G1来生成在相邻射束与另外的吸收光栅G2(也被称为分析器光栅)之间的相位位移，另外的吸收光栅G2被提供为分析从被研究的目标得到的相位信息。例如在EP 1731099 A1中描述了这样的布置。已经示出，必须以纳米量级非常准确地调节所述光栅布置。然而，已经示出，尤其是在较大的结构中，未对准的出现导致在可接收的结果方面的缺点。
发明内容
因此，存在对提供对用于差分相衬成像的X射线成像系统中的未对准的经改进的处置的需要。
通过独立权利要求的主题解决了本发明的目的，其中，进一步的实施例被并入从属权利要求中。
应当注意到，本发明的以下描述的方面也适用于：X射线成像系统、用于处置用于差分相衬成像的X射线成像系统中的未对准的方法、以及计算机程序单元和计算机可读介质。
根据本发明的第一方面，提供了一种用于差分相衬成像的X射线成像系统，其包括具有X射线源、X射线探测器以及光栅布置的差分相衬设置，所述光栅布置包括源光栅、相位光栅以及分析器光栅。所述源光栅被布置在所述X射线源与所述相位光栅之间，并且所述分析器光栅被布置在所述相位光栅与所述探测器之间。另外，提供了处理单元和测量系统，其中，所述测量系统被提供用于确定所述光栅中的至少一个的未对准。所述X射线源和所述源光栅被提供为刚性X射线源单元，其中，所述相位光栅、所述分析器光栅和所述探测器被提供作为刚性X射线探测单元。所述测量系统是光学测量系统，所述光学测量系统被配置为确定包括所述X射线源单元的所述差分相衬设置与所述X射线探测单元之间的未对准。所述处理单元被配置为基于所确定的未对准来提供校正信号。
术语“未对准”涉及所述部件到彼此的距离偏离以及所述部件到彼此的倾斜偏离。
根据示范性实施例，所述测量系统包括在所述X射线探测单元的不同角处的至少三个传感器。
根据示范性实施例，所述至少三个传感器被提供为至少三个4-象限光电二极管。光源设备被固定地附接到所述X射线源单元，所述X射线源单元被配置为生成到所述4-象限光电二极管中的每个的光束。所述4-象限光电二极管测量在所述探测器的平面中的移动以及相对于所述光束的角倾斜。
在范例中，一个或光源被提供为与光布置(例如与光电二极管组合以用于聚焦的透镜)组合。
术语“光”指的是可见光。所述4-象限光电二极管，也被称为光电二极管矩阵或阵列，被提供为敏感设备，所述敏感设备用于通过对随移动而位移的强度概况(profile)的加权来测量未对准。另外的方法是提供用于所述相位测量的干涉仪，例如所谓的迈克尔逊激光干涉仪。对所述二极管的分段允许测量“光强度的中心”，并且还允许测量沿x-方向或y-方向的偏差。这允许对所述位置移动的测量和计算。
根据示范性实施例，至少三个传感器被提供为用于对光源设备进行相位测量的干涉仪，所述光源设备被固定地附接到所述X射线源单元，所述X射线源单元被配置为生成到所述干涉仪中的每个的光束。
根据示范性实施例，所述光源被配置为以经调制的信号的形式来提供光信号。所述干涉仪被配置为探测光相位位移。对于相位分析，提供了：i)相关单元，其被配置为使来自所有干涉仪的所述信号相关；和/或ii)耦合单元，其被配置为将所述光耦合入所述角处的光纤并且通过干涉仪设置和/或定时分析单元来测量所述相位位移；和/或iii)测量单元，其被配置为测量所述4-象限光电二极管的所述强度位移，并且使来自所有4-象限光电二极管的所述信号相关。
所述4-象限光电二极管通过对位移射束的强度加权来测量所述移动，例如还使用通过适于对位置灵敏度的放大的几何结构的灵敏度增加选项。例如，四个4-象限光电二极管被提供为4-象限光电二极管矩阵传感器。
根据示范性实施例，所述光源设备被提供为生成单个射束的单个光源。分裂模块被提供用于将所述单个射束分裂为至少三个子射束。
例如，所述分裂模块包括：a)集成光学镜系统；和/或b)具有在末端处的透镜和在入口处的分裂单元的光纤单元。
根据示范性实施例，致动器被提供用于对所述X射线源单元的至少一个光栅和/或所述X射线探测单元的至少一个光栅进行移动和对准。所述处理单元被配置为基于所述校正信号来计算针对所述致动器的激活信号，并且将所述激活信号传递到所述致动器。
例如，将整个源单元或光栅单元移动或对准。
根据示范性实施例，所述致动器被提供为：i)压电致动器和/或ii)马达驱动的微米螺丝(motor-driven micrometer-screws)。所述致动器提供在大约1微米直到大约10微米的范围中的移动。例如，所述致动器提供大约1微米的对准准确度。
根据示范性实施例，校正单元被提供用于校正由所述探测器提供的数据，以用于进一步的计算步骤，其中，所述处理单元被配置为基于所述校正信号来计算校正系数，并且被配置为将所述校正系数传递到所述校正单元以用于评估计算，从而提供最终结果。通过所述处理单元，所述校正单元可以被提供为所述处理单元的软件校正。所述致动器方法还可以与以上提及的校正方法组合。例如，所述未对准被校正到它的部分或角度，而未对准的另外的部分被接受。
根据示范性实施例，提供了针对接受检查的目标与所述光栅中的至少一个之间的相对移动的移动布置。例如，所述移动布置被提供为步进布置，以用于使所述干涉仪单元的所述光栅中的至少一个在相应的光栅平面中步进。在另一个范例中，提供了目标支撑体，并且提供了在所述目标支撑体与所述差分相衬设置之间的相对移动。在针对至少一个图像采集的扫描期间所述光栅被提供为对彼此的恒定对准。根据一个子范例，所述目标支撑体被提供为固定的，并且所述差分相衬设置被沿横贯X射线方向的方向移动。在第二子范例中，所述差分相衬设置被提供为固定的，并且所述目标支撑体被沿横贯所述X射线方向的方向移动。
根据本发明的第二方面，提供了一种用于处置用于差分相衬成像的X射线成像系统中的未对准的方法，包括以下步骤：
a)在第一步骤中，提供差分相衬设置，所述差分相衬设置具有X射线源、X射线探测器、处理单元和光栅布置，所述光栅布置包括源光栅、相位光栅和分析器光栅。所述源光栅被布置在所述X射线源与所述相位光栅之间，并且所述分析器光栅被布置在所述相位光栅与所述探测器之间。所述X射线源和所述源光栅被提供为刚性X射线源单元。所述相位光栅、所述分析器光栅和所述探测器被提供为刚性X射线探测单元。
b)在第二步骤中，利用光学测量系统来确定所述光栅中的至少一个的未对准；
c)在第三步骤中，基于所确定的未对准来计算校正信号。
根据示范性实施例，在步骤d1)中，基于所述校正信号来计算针对致动器的激活信号。在进一步的步骤d2)中，将所述激活信号传递到致动器以用于对所述X射线源单元和/或所述X射线探测单元进行移动和对准。在步骤d3)中，对所述X射线源单元和/或所述X射线探测单元进行移动和对准。
根据示范性实施例，作为进一步的步骤e1)，基于所述校正信号来计算校正系数。此外，在步骤e2)中，提供所述校正系数到校正单元的传递，以用于校正由所述探测器提供的数据，以用于进一步的计算步骤。另外，在步骤e3)中，提供了对由所述探测器提供的所述数据的评估计算，以用于提供考虑到所述校正系数的最终结果。
根据本发明的方面，提供了一种光学测量系统以用于确定在x-y-z平面中的包括旋转(δ-τ-φ；delta-theta-phi)的未对准的精准值。另外，作为第一方法，在诸如压电致动器的精确的致动器的帮助下完成实现具有所述相位光栅(G1)和所述分析器光栅(G2)的所述干涉仪单元相对于所述源光栅(G0)的最优位置的调整。在另外的方法中，软件校正适用于在专用采集数据集处的具有系统的实际未对准信息的采集到的扫描数据。为了连续监测或跟踪所述光栅的位置偏差，非常精确地测量例如所述探测单元(包括所述干涉仪G1-G2)的全部四个角相对于所述G0-X射线源单元的相对移动的光学方法可以给出相当的校正信息。根据另一方面，位置敏感设备与具有对所述光信号的发送时间/相位位移的探测的干涉测量方法的组合可以提供精确的位置信息。在所述探测单元的每个角中提供了4-象限光电二极管或矩阵传感器，例如用来测量x-y移动并且还测量相对于所述X射线源的角倾斜。例如，可以经由集成光学镜系统或简单地通过使用具有在末端处的透镜和在入口处的分裂单元的光纤单元来完成对射束的分裂。所述4-象限探测器(光电二极管)通过对所述位移射束的强度加权(例如还使用适于对位置灵敏度的放大的几何结构的灵敏度增加选项)来测量移动。针对对距离变化的增加的灵敏度，对所述光信号的相位信息的分析可以是有益的，这是因为经调制的光信号的光相位位移可以直接与距离信息相关。可以通过使来自所述四个角处的所述4-象限探测器的所述信号相关，或者通过将所述光耦合入所述角处的光纤并且通过干涉仪设置和/或定时分析单元来测量所述相位位移，来完成所述相位分析。对于时间分辨率的要求直接取决于所述系统几何结构，并且对于微剂量系统(由Philips所有)、断层合成(tomsynthesis)设置、基于C型臂的系统、以及如CT的几何结构可以是不同的。
考下文描述的实施例，本发明的这些和其他方面将是显而易见的，并且将参考下文描述的实施例对本发明的这些和其他方面进行说明。
附图说明
下文中将参考以下附图来描述本发明的示范性实施例：
图1以示意性设置示出了用于差分相衬成像的X射线成像系统的第一范例；
图2示出了用于X射线成像系统的设置的另外的范例；
图3示出了光学测量系统的范例；
图4示出了X射线成像系统的另外的范例；
图5示出了X射线成像系统的另外的设置；
图6示出了X射线成像系统的另外的范例；
图7示出了根据第一范例的用于处置用于差分相衬成像的X射线成像系统中的未对准的方法的基本步骤；并且
图8示出了用于处置用于差分相衬成像的X射线成像系统中的未对准的方法的范例的另外的步骤。
具体实施方式
图1示出了用于差分相衬成像的X射线成像系统10，X射线成像系统10包括具有X射线源14的差分相衬设置12、X射线探测器16和光栅布置，所述光栅布置包括源光栅18、相位光栅20和分析器光栅22。源光栅18被布置在X射线源14与相位光栅20之间，并且分析器光栅22被布置在相位光栅20和探测器16之间。另外，提供了处理单元24和用于确定光栅中的至少一个的未对准的测量系统26。X射线源和源光栅被提供为刚性X射线源单元28，并且相位光栅、分析器光栅和探测器被提供为刚性X射线探测单元30。必须注意，刚性附件或安装特征没有被进一步示出。测量系统26是光学测量系统，所述光学测量系统被配置为确定包括X射线源单元28的差分相衬设置与X射线探测单元30之间的未对准。这是由虚线双箭头32指示的。处理单元24被配置为基于所确定的未对准来提供校正信号34。目标被利用被布置在源光栅18与相位光栅20之间的虚线15来指示。另外，线17指示由X射线源14提供的X射线束。
在范例中，测量系统包括在X射线探测单元的不同角处的至少三个传感器36。例如，图2示出了具有在X射线探测单元的角处的四个传感器36的实施例。例如，至少三个传感器被提供为至少三个4-象限光电二极管。光源设备38被固定地附接到X射线源单元28，例如，被附接到X射线源14，所述X射线源单元28被配置为生成利用虚线40指示的到4-象限光电二极管中的每个的光束。4-象限光电二极管测量在探测器的平面中的移动以及相对于光束的角倾斜。
根据另外的范例，至少三个传感器被提供为用于对光源设备(未进一步示出)的相位测量的干涉仪，所述光源设备被固定地附接到被配置为生成到干涉仪中的每个的光束的X射线源单元。
根据另外的范例，光源(虽然未被进一步示出)被配置为以经调制的信号的形式来提供光信号，并且干涉仪被配置为探测光相位位移。对于相位分析，提供了相关单元，所述相关单元被配置为使来自所有干涉仪的信号相关。作为补充或备选，还提供了耦合单元，所述耦合单元被配置为将光耦合入角处的光纤并且通过干涉仪设置和/或定时分析单元来测量相位位移。另外，作为补充或备选，提供了测量单元，所述测量单元被配置为测量4-象限光电二极管的强度位移并且使来自所有4-象限光电二极管的信号相关。
如图3所示，光源38可以被提供为生成单个射束44的单个光源42。分裂模块46被提供用于将单个射束分裂为至少三个子射束，例如四个子射束48。分裂模块40可以包括集成光学镜系统、和/或具有在末端处的透镜和在入口处的分裂单元的光纤单元。
根据另外的范例，在图4中示出致动器50被提供用于对X射线源单元28的至少一个光栅、和/或X射线探测单元30的至少一个光栅进行移动和对准。处理单元被配置为基于校正信号来计算针对致动器的激活信号，并且被配置为将激活信号传递到致动器。例如，对整个源单元或光栅单元进行移动和对准。
图5示出了与源光栅18和X射线源14相关的致动器50。
另外，图4还指示了具有分析器光栅22和X射线探测器18的X射线探测单元30。致动器被提供为压电致动器和/或马达驱动的微米螺丝。两者都提供在大约1微米直到大约10微米的范围中的移动。
如图5所示，校正单元52可以被提供用于校正由探测器提供的数据，以用于进一步的计算步骤。处理单元52被配置为基于校正信号来计算校正系数，并且将所述校正系数传递到校正单元以用于评估计算，从而提供最终结果。
根据另外的范例(未进一步示出)，为所谓相位步进提供了针对在接受检查的目标与光栅中的至少一个之间的相对移动的移动布置。根据第一范例，该移动布置被提供为用于使干涉仪单元的光栅中的至少一个在相应的光栅平面中步进的步进布置。根据第二范例，提供了目标支撑体以及在目标支撑体与差分相衬设置之间的相对移动。在针对至少一个图像采集的扫描期间光栅被提供为对彼此的恒定对准。出于这一目的，或者目标支撑体被提供为固定的并且差分相衬设置被沿横贯X射线方向的方向移动，或者差分相衬设置被提供为固定的并且目标支撑体被沿横贯X射线方向的方向移动。
例如，提供了乳房摄影布置，其中，乳房被压缩或被保持在两个支撑表面之间，并且探测器与也在移动的光栅结构一起绕X射线管旋转。
例如，图6示出了X射线源60，然后是源光栅62，或光栅G0。另外，预准直器64被提供在相位光栅66(G1)的前面。如进一步示出的，乳房68可以被压缩在相位光栅66前面的第一乳房支撑体70与用作第二支撑体72的预准直器64之间。另外，分析器光栅74(G2)被提供在探测器76的前面。例如，X射线源60和源光栅62被以大约50毫米的距离L1来提供。又另外，第一乳房支撑体和第二乳房支撑体被以距离L2来提供。相位光栅66和分析器光栅被以距离L3来提供。又另外，从源60到探测器76的总体距离被称为SID(源图像距离)并且可以被提供为660毫米。又另外，在源光栅62与光栅G1之间的距离被提供为470毫米。长度L1以及L3可以被提供为50毫米。在乳房支撑体70和第二乳房层之间的距离，即距离L2，被称为泰伯(Talbot)距离。
此外，如图7所示，提供了用于处置用于差分相衬成像的X射线成像系统中的未对准的方法100，包括以下步骤：在第一步骤110中，差分相衬设置被提供有X射线源、X射线探测器、处理单元和光栅布置，所述光栅布置包括源光栅、相位光栅和分析器光栅。源光栅被布置在X射线源与相位光栅之间，并且分析器光栅被布置在相位光栅和探测器之间。X射线源和源光栅被提供为刚性X射线源单元。相位光栅、分析器光栅和探测器被提供为刚性X射线探测单元。在第二步骤112中，利用光学测量系统来确定所述光栅中的至少一个的未对准。在第三步骤114中，基于所确定的未对准来计算校正信号116。
第一步骤110也被称为步骤a)，第二步骤112也被称为步骤b)，第三步骤114也被称为步骤c)。
根据图7的方法的另外的范例，提供了步骤d1)，在步骤d1)中，基于校正信号来计算118针对致动器的激活信号。在步骤d2)中，将所述激活信号传递120到致动器，以用于对X射线源单元和/或X射线探测单元进行移动和对准。在另一步骤d3)中，对X射线源单元和/或X射线探测单元进行移动和对准122。如利用附图标记124来指示的，可以为不同的另外的目的提供对探测到的未对准的另外的使用。在图8中示出了这些。
如下文提供的另外的范例。应当注意到，虽然与以上提到的特征相组合在图8中示出了下文，但是也独立于以上提到的范例提供了下文。在第一步骤e1)中，基于校正信号来计算126校正系数。在另一步骤e2)中，将所述校正系数传递128到被提供用于校正由探测器提供的数据的校正单元，以用于进一步的计算步骤。在又一步骤e3)中，在另一步骤130中，对由探测器提供的用于提供考虑到校正系数的最终结果的数据进行评估和计算。
根据以上提到的范例，差分相衬成像单元集成在现有的乳房摄影系统中，或在现有的C型臂系统、CT装置或断层合成扫描器中。如另外的范例，将以上提到的实施例被应用或集成到Philips的所谓的微剂量系统中。例如，包括光栅G1和G2的干涉仪单元被直接放置在探测器的前面，并且X射线束在进入干涉仪之前经过被压缩的乳房。尽管该单元可以被制造得相当稳定，但是关于光栅G1和G2到彼此的对准，G0的固定并且稳定的对准几乎是不可能的。因此可以通过以上提到的范例来对如在微剂量系统或C型臂、CT或断层合成系统中的具有移动部件的差分相衬系统的机械系统设计进行对准。因此，例如，其被提供给具有光栅G0的X射线源单元到具有光栅G1和G2的干涉仪单元的对准，以便于针对操作期间的所有状况都是十分精确并且稳定的。由于提供了光学测量系统，所以不必应用额外的X射线剂量以用于比如校准X射线系统的对准。
在本发明的另一个示范性实施例中，提供了计算机程序或计算机程序单元，所述计算机程序或计算机程序单元的特征在于适于在适合的系统上执行根据前述实施例中的一个的方法的方法步骤。
计算机程序单元因此可以被存储在计算机单元上，所述计算机单元也可以是本发明的实施例的部分。该计算单元可以适于执行以上描述的方法的步骤或引起对以上描述的方法的步骤的执行。此外，其可以适于操作以上描述的装置的部件。计算单元可以适于自动操作和/或执行用户的命令。计算机程序可以被加载到数据处理器的工作存储器中。因此数据处理器可以被装备为执行本发明的方法。
本发明的该示范性实施例覆盖正好从开始就使用本发明的计算机程序以及借助于更新而将现有程序转变为使用本发明的程序的计算机程序两者。
另外，计算机程序单元可能能够提供满足如以上描述的方法的示范性实施例的流程的全部必要步骤。
根据本发明的另外的示范性实施例，提出了诸如CD-ROM的计算机可读介质，其中，所述计算机可读介质具有被存储在其上的计算机程序单元，所述计算机程序单元是由前述部分描述的。
计算机程序可以被存储/分布在适合的介质上，例如与其他硬件一起提供或作为其他硬件的部分提供的光学存储介质或固态介质，但是也可以被以其他形式分布，例如经由因特网或其他的有线或无线的电信系统。
然而，计算机程序也可以存在于如互联网的网络上并且可以被从这样的网络下载到数据处理器的工作存储器中。根据本发明的另外的示范性实施例，提供了用于使得计算机程序单元可用于下载的介质，所述计算机程序单元被布置为执行根据本发明的先前描述的实施例中的一个的方法。
还应当注意到，参考不同主题描述了本发明的实施例。具体而言，参考方法类型的权利要求描述了一些实施例，而参考装置类型的权利要求描述了其他的实施例。然而，本领域技术人员将根据以上和以下的描述得知，除非另外指明，除了属于一种类型的主题的特征的任何组合外，涉及不同主题的特征之间的任何组合也被视为由本申请公开。然而，可以将所有特征组合以提供超过对特征的简单相加的协同效果。
尽管已经在附图和前文的描述中详细说明并描述了本发明，但这种说明和描述被视为说明性或示范性的，而非限制性的；本发明不限于所公开的实施例。本领域技术人员通过研究附图、公开内容以及权利要求书，在实践要求保护的本发明时，能够理解并实现对所公开的实施例的其他变型。
在权利要求书中，词语“包括”不排除其他元件或步骤，并且词语“一”或“一个”不排除多个。单个元件或其他单元可以满足权利要求中记载的若干项目的功能。尽管在互不相同的从属权利要求中记载了特定措施，但是这并不指示不能有利地使用这些措施的组合。权利要求中的任何附图标记都不应被解释为对范围的限制。

Claims (15)

1.一种用于差分相衬成像的X射线成像系统(10)，包括：
-差分相衬设置(12)，其具有：
X射线源(14)；
X射线探测器(16)；以及
光栅布置，其包括源光栅(18)、相位光栅(20)和分析器光栅(22)，其中，所述源光栅被布置在所述X射线源与所述相位光栅之间，并且所述分析器光栅被布置在所述相位光栅与所述探测器之间；
-处理单元(24)；以及
-测量系统(26)，其用于确定所述光栅中的至少一个的未对准；
其中，所述X射线源和所述源光栅被提供为刚性X射线源单元(28)；并且其中，所述相位光栅、所述分析器光栅和所述探测器被提供为刚性X射线探测单元(30)；并且
其中，所述测量系统是光学测量系统，所述光学测量系统被配置为确定包括所述X射线源单元的所述差分相衬设置与所述X射线探测单元之间的未对准；并且
其中，所述处理单元被配置为基于所确定的未对准来提供校正信号(34)。
2.根据权利要求1所述的X射线成像系统，其中，所述测量系统包括在所述X射线探测单元的不同角处的至少三个传感器(36)。
3.根据权利要求1或2所述的X射线成像系统，其中，所述至少三个传感器被提供为至少三个4-象限光电二极管；
其中，光源设备被固定地附接到所述X射线源单元，所述X射线源单元被配置为生成到所述4-象限光电二极管中的每个的光束；并且
其中，所述4-象限光电二极管测量在所述探测器的平面中的移动以及相对于所述光束的角倾斜。
4.根据权利要求1、2或3所述的X射线成像系统，其中，所述至少三个传感器被提供为用于对光源设备的相位测量的干涉仪，所述光源设备被固定地附接到所述X射线源单元，所述X射线源单元被配置为生成到所述干涉仪中的每个的光束。
5.根据权利要求4所述的X射线成像系统，其中，所述光源被配置为以经调制的信号的形式来提供光信号；并且
所述干涉仪被配置为探测光相位位移；
其中，针对相位分析，以下项被提供：
i)相关单元，其被配置为使来自所有干涉仪的所述信号相关；和/或
ii)耦合单元，其被配置为将所述光耦合入所述角处的光纤并且通过干涉仪设置和/或定时分析单元来测量所述相位位移；
iii)测量单元，其被配置为测量所述4-象限光电二极管的所述强度位移，并且使来自所有4-象限光电二极管的所述信号相关。
6.根据权利要求4或5所述的X射线成像系统，其中，所述光源设备被提供为生成单个射束的单个光源(42)；并且
其中，分裂模块(46)被提供用于将所述单个射束分裂为至少三个子射束。
7.根据前述权利要求中的一项所述的X射线成像系统，其中，致动器(50)被提供用于对所述X射线源单元的至少一个光栅和/或所述X射线探测单元的至少一个光栅进行移动和对准；并且
其中，所述处理单元被配置为基于所述校正信号来计算针对所述致动器的激活信号，并且将所述激活信号传递到所述致动器。
8.根据前述权利要求所述的X射线成像系统，其中，所述致动器被提供为：
i)压电致动器，和/或
ii)马达驱动的微米螺丝；
两者都提供在大约1微米直到大约10微米的范围中的移动。
9.根据前述权利要求中的一项所述的X射线成像系统，
其中，校正单元(52)被提供用于校正由所述探测器提供的数据，以用于进一步的计算步骤；
其中，所述处理单元被配置为基于所述校正信号来计算校正系数；并且被配置为将所述校正系数传递到所述校正单元以用于评估计算，从而提供最终结果。
10.根据前述权利要求中的一项所述的X射线成像系统，
其中，提供了针对接受检查的目标与所述光栅中的至少一个之间的相对移动的移动布置；并且
其中：
i)所述移动布置被提供为步进布置，以用于使所述干涉仪单元的所述光栅中的至少一个在相应的光栅平面中步进；或者
ii)提供了目标支撑体，并且提供了在所述目标支撑体与所述差分相衬设置之间的相对移动；其中，在针对至少一个图像采集的扫描期间所述光栅被提供为对彼此的恒定对准；并且其中，
ii1)所述目标支撑体被提供为固定的；并且所述差分相衬设置被沿横贯X射线方向的方向移动；或者
ii2)所述差分相衬设置被提供为固定的；并且所述目标支撑体被沿横贯所述X射线方向的方向移动。
11.一种用于处置用于差分相衬成像的X射线成像系统中的未对准的方法(100)，包括以下步骤：
a)提供(110)差分相衬设置，所述差分相衬设置具有X射线源、X射线探测器、处理单元和光栅布置，所述光栅布置包括源光栅、相位光栅和分析器光栅，其中，所述源光栅被布置在所述X射线源与所述相位光栅之间，并且所述分析器光栅被布置在所述相位光栅与所述探测器之间；其中，所述X射线源和所述源光栅被提供为刚性X射线源单元；并且其中，所述相位光栅、所述分析器光栅和所述探测器被提供为刚性X射线探测单元；
b)利用光学测量系统来确定(112)所述光栅中的至少一个的未对准；
c)基于所确定的未对准来计算(114)校正信号(116)。
12.根据权利要求11所述的方法，其中，提供了以下步骤：
d1)基于所述校正信号来计算(118)针对致动器的激活信号；
d2)将所述激活信号传递(120)到致动器以用于对所述X射线源单元和/或所述X射线探测单元进行移动和对准；并且
d3)对所述X射线源单元和/或所述X射线探测单元进行移动和对准(122)。
13.根据权利要求11或12所述的方法，其中，提供了以下步骤：
e1)基于所述校正信号来计算(126)校正系数；
e2)将所述校正系数传递(128)到校正单元，所述校正单元被提供用于校正由所述探测器提供的数据，以用于进一步的计算步骤；并且
e3)对由所述探测器提供的所述数据进行评估计算(130)，以用于提供考虑到所述校正系数的最终结果。
14.一种用于控制根据权利要求1至10中的一项所述的装置的计算机程序单元，所述计算机程序单元在由处理单元执行时，适于执行根据权利要求11至13中的一项所述的方法。
15.一种存储有根据权利要求14所述的程序单元的计算机可读介质。
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Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN107085000A (zh) * 2017-04-17 2017-08-22 深圳先进技术研究院 X射线光栅相衬成像自动校准系统及方法
CN107807139A (zh) * 2016-09-05 2018-03-16 天津工业大学 一种无步进装置的双能x射线相衬成像系统及其实现方法
CN110520049A (zh) * 2017-03-24 2019-11-29 皇家飞利浦有限公司 用于暗场x射线成像的灵敏度优化患者定位系统
CN110622256A (zh) * 2017-03-27 2019-12-27 皇家飞利浦有限公司 用于x射线相衬系统的探测器装置和用于x射线对比成像的方法

Families Citing this family (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2017212687A1 (ja) * 2016-06-10 2017-12-14 株式会社島津製作所 Ｘ線位相差撮像システム、ｘ線位相差撮像装置およびｘ線位相差撮像方法
US20200158662A1 (en) * 2016-07-20 2020-05-21 Shimadzu Corporation X-ray Phase Contrast Imaging Apparatus
WO2018053262A1 (en) * 2016-09-15 2018-03-22 Micro C, LLC Improved imaging systems and methods
JP6683118B2 (ja) 2016-12-20 2020-04-15 株式会社島津製作所 Ｘ線位相撮影装置
JP2021532960A (ja) 2018-08-01 2021-12-02 オクソス メディカル，インコーポレイテッド 改良された撮像システムおよび方法
WO2020054150A1 (ja) * 2018-09-11 2020-03-19 株式会社島津製作所 格子の調整方法
WO2020054151A1 (ja) * 2018-09-11 2020-03-19 株式会社島津製作所 Ｘ線位相イメージング装置
EP3705044A1 (en) * 2019-03-08 2020-09-09 Koninklijke Philips N.V. System for x-ray dark field; phase contrast and attenuation tomosynthesis image acquisition
EP3821810A1 (en) 2019-11-13 2021-05-19 Koninklijke Philips N.V. Active gratings position tracking in gratings-based phase-contrast and dark-field imaging
EP3922179A1 (en) * 2020-06-08 2021-12-15 Koninklijke Philips N.V. Stepping strategy for defect compensation in dax imaging

Citations (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5812629A (en) * 1997-04-30 1998-09-22 Clauser; John F. Ultrahigh resolution interferometric x-ray imaging
CN101257851A (zh) * 2005-06-06 2008-09-03 保罗·谢勒学院 用于利用不相干的多色x射线源进行定量相衬成像和断层照相术的干涉仪
CN101413905A (zh) * 2008-10-10 2009-04-22 深圳大学 X射线微分干涉相衬成像系统
US20090316857A1 (en) * 2006-07-12 2009-12-24 Paul Scherrer Institut X-Ray Interferometer for Phase Contrast Imaging
US20100074395A1 (en) * 2008-09-24 2010-03-25 Stefan Popescu Method to determine phase and/or amplitude between interfering, adjacent x-ray beams in a detector pixel in a talbot interferometer
WO2010134012A1 (en) * 2009-05-19 2010-11-25 Koninklijke Philips Electronics N.V. Grating for phase-contrast imaging
WO2011070519A1 (en) * 2009-12-10 2011-06-16 Koninklijke Philips Electronics N.V. Scanning system for differential phase contrast imaging
WO2011070521A1 (en) * 2009-12-10 2011-06-16 Koninklijke Philips Electronics N.V. Calibration of differential phase-contrast imaging systems
WO2011070493A1 (en) * 2009-12-10 2011-06-16 Koninklijke Philips Electronics N.V. Apparatus for phase-contrast imaging comprising a displaceable x-ray detector element and method
US20110243300A1 (en) * 2010-03-30 2011-10-06 Fujifilm Corporation Diffraction grating and alignment method thereof, and radiation imaging system

Family Cites Families (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2010164373A (ja) * 2009-01-14 2010-07-29 Konica Minolta Medical & Graphic Inc Ｘ線撮影装置、およびｘ線撮影方法
JP6281969B2 (ja) * 2009-06-16 2018-02-21 コーニンクレッカ フィリップス エヌ ヴェＫｏｎｉｎｋｌｉｊｋｅ Ｐｈｉｌｉｐｓ Ｎ．Ｖ． 傾けられた格子及び傾けられた格子の製造方法
JP2012130586A (ja) * 2010-12-22 2012-07-12 Fujifilm Corp 放射線画像検出装置、放射線撮影装置、及び放射線撮影システム
DE102013204604A1 (de) * 2013-03-15 2014-09-18 Siemens Aktiengesellschaft Röntgenaufnahmesystem zur differentiellen Phasenkontrast-Bildgebung eines Untersuchungsobjekts mit Phase-Stepping

Patent Citations (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5812629A (en) * 1997-04-30 1998-09-22 Clauser; John F. Ultrahigh resolution interferometric x-ray imaging
CN101257851A (zh) * 2005-06-06 2008-09-03 保罗·谢勒学院 用于利用不相干的多色x射线源进行定量相衬成像和断层照相术的干涉仪
US20090316857A1 (en) * 2006-07-12 2009-12-24 Paul Scherrer Institut X-Ray Interferometer for Phase Contrast Imaging
US20100074395A1 (en) * 2008-09-24 2010-03-25 Stefan Popescu Method to determine phase and/or amplitude between interfering, adjacent x-ray beams in a detector pixel in a talbot interferometer
CN101413905A (zh) * 2008-10-10 2009-04-22 深圳大学 X射线微分干涉相衬成像系统
WO2010134012A1 (en) * 2009-05-19 2010-11-25 Koninklijke Philips Electronics N.V. Grating for phase-contrast imaging
CN102428522A (zh) * 2009-05-19 2012-04-25 皇家飞利浦电子股份有限公司 用于相衬成像的光栅
WO2011070519A1 (en) * 2009-12-10 2011-06-16 Koninklijke Philips Electronics N.V. Scanning system for differential phase contrast imaging
WO2011070521A1 (en) * 2009-12-10 2011-06-16 Koninklijke Philips Electronics N.V. Calibration of differential phase-contrast imaging systems
WO2011070493A1 (en) * 2009-12-10 2011-06-16 Koninklijke Philips Electronics N.V. Apparatus for phase-contrast imaging comprising a displaceable x-ray detector element and method
US20110243300A1 (en) * 2010-03-30 2011-10-06 Fujifilm Corporation Diffraction grating and alignment method thereof, and radiation imaging system

Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN107807139A (zh) * 2016-09-05 2018-03-16 天津工业大学 一种无步进装置的双能x射线相衬成像系统及其实现方法
CN110520049A (zh) * 2017-03-24 2019-11-29 皇家飞利浦有限公司 用于暗场x射线成像的灵敏度优化患者定位系统
CN110520049B (zh) * 2017-03-24 2023-09-12 皇家飞利浦有限公司 用于暗场x射线成像的灵敏度优化患者定位系统
CN110622256A (zh) * 2017-03-27 2019-12-27 皇家飞利浦有限公司 用于x射线相衬系统的探测器装置和用于x射线对比成像的方法
CN107085000A (zh) * 2017-04-17 2017-08-22 深圳先进技术研究院 X射线光栅相衬成像自动校准系统及方法

Also Published As

Publication number Publication date
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