CN104534979B - 一种多波长相移显微成像系统及方法 - Google Patents

一种多波长相移显微成像系统及方法 Download PDF

Info

Publication number
CN104534979B
CN104534979B CN201410757875.6A CN201410757875A CN104534979B CN 104534979 B CN104534979 B CN 104534979B CN 201410757875 A CN201410757875 A CN 201410757875A CN 104534979 B CN104534979 B CN 104534979B
Authority
CN
China
Prior art keywords
phase
light
wavelength
piezoelectric ceramics
interference
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Active
Application number
CN201410757875.6A
Other languages
English (en)
Other versions
CN104534979A (zh
Inventor
赵晖
王翰林
刘满林
刘俊
张浠
安昕
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Suzhou Oupu Mandi Technology Co.,Ltd.
Original Assignee
FOSHAN CITY NANHAI DISTRICT OPTOMEDIC SCIENCE & TECHNOLOGY Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by FOSHAN CITY NANHAI DISTRICT OPTOMEDIC SCIENCE & TECHNOLOGY Co Ltd filed Critical FOSHAN CITY NANHAI DISTRICT OPTOMEDIC SCIENCE & TECHNOLOGY Co Ltd
Priority to CN201410757875.6A priority Critical patent/CN104534979B/zh
Publication of CN104534979A publication Critical patent/CN104534979A/zh
Application granted granted Critical
Publication of CN104534979B publication Critical patent/CN104534979B/zh
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Classifications

    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01BMEASURING LENGTH, THICKNESS OR SIMILAR LINEAR DIMENSIONS; MEASURING ANGLES; MEASURING AREAS; MEASURING IRREGULARITIES OF SURFACES OR CONTOURS
    • G01B9/00Measuring instruments characterised by the use of optical techniques
    • G01B9/02Interferometers
    • G01B9/02001Interferometers characterised by controlling or generating intrinsic radiation properties
    • G01B9/02007Two or more frequencies or sources used for interferometric measurement
    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01BMEASURING LENGTH, THICKNESS OR SIMILAR LINEAR DIMENSIONS; MEASURING ANGLES; MEASURING AREAS; MEASURING IRREGULARITIES OF SURFACES OR CONTOURS
    • G01B11/00Measuring arrangements characterised by the use of optical techniques
    • G01B11/24Measuring arrangements characterised by the use of optical techniques for measuring contours or curvatures
    • G01B11/2441Measuring arrangements characterised by the use of optical techniques for measuring contours or curvatures using interferometry
    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01BMEASURING LENGTH, THICKNESS OR SIMILAR LINEAR DIMENSIONS; MEASURING ANGLES; MEASURING AREAS; MEASURING IRREGULARITIES OF SURFACES OR CONTOURS
    • G01B9/00Measuring instruments characterised by the use of optical techniques
    • G01B9/04Measuring microscopes
    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B21/00Microscopes
    • G02B21/0004Microscopes specially adapted for specific applications
    • G02B21/002Scanning microscopes
    • G02B21/0024Confocal scanning microscopes (CSOMs) or confocal "macroscopes"; Accessories which are not restricted to use with CSOMs, e.g. sample holders
    • G02B21/0052Optical details of the image generation
    • G02B21/0056Optical details of the image generation based on optical coherence, e.g. phase-contrast arrangements, interference arrangements

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Analytical Chemistry (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Holo Graphy (AREA)
  • Length Measuring Devices By Optical Means (AREA)

Abstract

本发明公开了一种多波长相移显微成像系统及方法,包括米劳干涉装置,所述米劳干涉装置进一步包括至上而下依次设置的第一显微物镜、第二显微镜、反射镜和平面分光镜,所述准直透镜将白色光源的光扩束,送入分光平板中,所述分光平板一侧设置有米劳干涉装置,另一侧设置有成像透镜,所述成像透镜的后端设置图像接收装置,所述图像接收装置连接图像处理终端,所述图像处理终端连接压电陶瓷控制器,所述压电陶瓷控制器连接压电陶瓷,所述压电陶瓷设置在米劳干涉装置上,所述图像处理终端通过压电陶瓷控制器控制设置在米劳干涉装置上的压电陶瓷发生位移运动,实现获取多波长的干涉条纹信息,所述样品台设置在米劳干涉装置下方。采用本发明能够在紧凑的光路结构中,快速获取并分析物体的表面形貌和结构,获得物体更大范围,更高精度的结构形态。

Description

一种多波长相移显微成像系统及方法
技术领域
本发明涉及光学成像领域,尤其涉及的是一种多波长相移显微成像系统及方法。
背景技术
传统的光学显微镜,只能对微小物体进行二维成像,不能测量生物细胞等微结构的三维形貌;而共焦显微镜虽然分辨率高,但由于要对生物样品做标定,会对其产生影响,不利于无损观测的需要。
全息相位显微测量作为一种显微成像技术,具有无损、同时获取物体强度和相位分布的特点,而活体生物细胞一般为透明结构,因此其相位图像方能提供更多独特的信息。不同于已有的显微成像方法,全息相位测量技术不需要对活体生物样品进行标记、固定等处理就可获得观察对象定量的振幅和相位分布,从而实现对透明生物样品的成像并进行定量分析。此技术还可以实现对生物样品形态的动态监测,继而可能用于获取细胞动态特性、细胞间的相互作用以及细胞对药物的反应等信息,可以为早期医学诊断和药物设计等提供一定的分析评价依据。也可以用于定量测量微光机电系统的表面结构(如:区域轮廓、缺陷孔、突起、裂缝、面形误差等),为生产加工提供高精度、无损快捷的测量手段,具有广阔的应用前景。
然而这种全息相位测量技术仍然有其局限性,由于该技术光源使用的是单一波长的相干光源,单波长干涉全息图再现的复振幅光场中的解调相位信息是通过计算反正切函数得到的,即所得到的相位都折叠在(-π,π]之间,使得测量范围限制在光源波长的范围内,当光经过物体后产生的光程差大于所用的记录光波波长时,其真实的相位将超出此范围,引起包裹相位的混叠;当物体存在较大形变或者表面形貌复杂时,现有的一些解包裹方法不能很好的求解出包裹相位,将不能得到物体真实的相位信息。
因此,现有技术还有待于改进和发展。
发明内容
本发明的目的在于提供一种多波长相移显微成像系统及方法,旨在解决现有的全息显微镜结构复杂,采用单波长光源导致包裹相位的混叠,不能得到物体真实的相位信息的问题。
本发明的技术方案如下:
一种多波长相移显微成像方法,其利用米劳干涉装置采集样品信息的全息干涉条纹,并通过彩色图像传感器转换为数字图像;再通过图像处理终端控制压电陶瓷发生位移,使得米劳干涉装置内部两光束的光程差发生变化,从而使光波间发生相移干涉;然后,在短时间里采集多幅干涉全息图,通过计算获取只含有物体信息的重构像。
所述的方法,其中,所述光波间相位干涉具体为包含物体三维信息的物光波与经过米劳干涉装置内的反射镜的参考光波之间发生的干涉。
所述的方法,其中,发生干涉的干涉强度分布计算方法为:
其中,a(x,y)表示干涉全息图的背景强度,b(x,y)为干涉图对比度分布,为待测物光波的相位,为参考相位。
所述的方法,其中,采集四幅全息图,通过计算获取只含有物体信息的重构像的具体方法为:
Φ ( x , y ) = arctan I 4 ( x , y ) - I 2 ( x , y ) I 1 ( x , y ) - I 3 ( x , y )
其中,I1,I2,I3,I4分别表示相移量为0,π/2,π,3π/2的4幅全息图。
一种多波长相移显微成像系统,其包括米劳干涉装置、白光光源、准直透镜、分光平板、成像透镜、图像接收装置、图像处理终端、压电陶瓷、压电陶瓷控制器和样品台,所述米劳干涉装置包括至上而下依次设置的第一显微物镜、第二显微镜、反射镜和平面分光镜,所述准直透镜将白色光源的光扩束,送入分光平板中,所述分光平板一侧设置有米劳干涉装置,另一侧设置有成像透镜,所述成像透镜的后端设置图像接收装置,所述图像接收装置连接图像处理终端,所述图像处理终端连接压电陶瓷控制器,所述压电陶瓷控制器连接压电陶瓷,所述压电陶瓷设置在米劳干涉装置上,所述图像处理终端通过压电陶瓷控制器控制设置在米劳干涉装置上的压电陶瓷发生位移运动,实现获取多波长的干涉条纹信息,所述样品台设置在米劳干涉装置下方。
所述的系统,其中,所述图像接收装置为彩色图像传感器。
所述的系统,其中,所述白光光源可替换为多个单色光源组成,所述多个单色光源的光束通过分光棱镜后耦合成多波长光源。
所述的系统,其中,所述白光光源为白光LED光源。
本发明的有益效果:本发明通过多波长干涉测量可以克服单一波长干涉测量中的相位混叠问题,其实质是通过两个单波长下的包裹相位图合成新的相位图,而新相位图相当于一个更大的等效波长所得到的,因此当光经过物体产生跳变的最大光程差小于这个等效合成波长时,将不会出现混叠的包裹相位。
附图说明
图1是本发明中多波长相移显微成像系统示意图。
图2是本发明提供的成像系统另一种实施方式示意图。
具体实施方式
为使本发明的目的、技术方案及优点更加清楚、明确,以下参照附图并举实施例对本发明进一步详细说明。
现有的基于同轴干涉的多波长测量方法结构简单,通常需要对多个波长下的干涉全息图进行分别记录,也就是必须采集多次单波长的干涉条纹图,但是这种方法需要多次采图,每次采图的条件不一样的话必然会对测量的结果带来误差,因此不太实用,市面上没有基于此结构的显微镜产品;基于离轴干涉的测量方法通常要对全息图进行频域分解运算,然后再分别提取、计算出单波长下的包裹相位信息,来得到等效合成波长的相位信息,此离轴干涉系统可以同时采集多波长干涉全息图,但是系统结构、算法较为复杂,典型的产品如瑞士Lyncee Tec公司的R2100和R2200系列。
本发明结合上述两种系统结构的特点,提供了一种基于同轴干涉的多波长相移显微成像方法及系统,对于降低测量系统的复杂性、提高测量精度效果明显。
如图1所示,本发明提供的多波长相移显微成像系统包括米劳干涉显微装置9、白光光源1、准直透镜2、分光平板3、成像透镜10、图像接收装置11、图像处理终端14、压电陶瓷12、压电陶瓷控制器13和样品台8;所述米劳干涉装置包括至上而下依次设置的第一显微物镜4、第二显微镜5、反射镜6和平面分光镜7。所述准直透镜2将白色光源1的光扩束,送入分光平板3中,所述分光平板3一侧设置有米劳干涉显微装置9,另一侧设置有成像透镜10,所述成像透镜10的后端设置图像接收装置11,所述图像接收装置11连接图像处理终端14,所述图像处理终端连接压电陶瓷控制器13,所述压电陶瓷控制器13连接压电陶瓷12,所述压电陶瓷12设置在米劳干涉装置9上,所述样品台8设置在米劳干涉显微装置9下方。
其工作原理为:白光光源1发出的光束经过准直透镜2后,光束得到扩束准直后经过分光平板3进行分光,然后光束进入米劳干涉显微装置9一直经过样品台8反射回来,并携带样品信息的全息干涉条纹经成像透镜10传入图像接收装置11中记录为数字图像,最后通过图像处理终端14进行数值运算和图像处理。其中,所述图像接收装置为彩色图像传感器。
当接收到的图像需要调整时,图像处理终端14驱动压电陶瓷控制器13对压电陶瓷12进行控制,通过控制压电陶瓷12的微小位移,使米劳干涉显微装置9内部透镜的距离发生变化,从而引起两光束的光程差变化,最终产生相移干涉。所述样品台8还可进行三维调节,用于控制聚焦位置。由于米劳干涉显微装置9的使用,使得多波长干涉光路结构更加紧凑,小巧。
对于此同轴干涉全息光路,具体是包含物体三维信息的物光波与经过米劳干涉装置9内的反射镜6的参考光波之间发生的干涉,干涉强度分布可以表示为:
公式1可简写为:
其中(xH,yH)、(x,y)为位置坐标,OR*为物光像(实像),O*R与其共轭(虚像),a(x,y)表示干涉全息图的背景强度,也称为零级项,b(x,y)为干涉图对比度分布,为待测物光波的相位,为参考相位。
本发明采用相移的方法来提取待测物光波的相位,通过改变相位构造多个函数方程,从方程组可解出式中各未知量,其中就包含待测相位相移算法有很多种,以本发明中用到的四步相移算法为例,通过压电陶瓷调节参考光相位并在一个周期内采集四幅干涉全息图,每幅图中的参考光相位相差π/2,可消除零级项和共轭项,得到只含有物体信息的重构物光像,从而求得物光场相位,即物体包裹相位:
Φ ( x , y ) = arctan I 4 ( x , y ) - I 2 ( x , y ) I 1 ( x , y ) - I 3 ( x , y ) …………公式3
其中,I1,I2,I3,I4分别表示相移量为0,π/2,π,3π/2的4幅干涉全息图。
同轴光路结合相移技术从多幅相移全息图中提取物光,能很好的消除零级衍射像和共轭像(虚像)部分,解决离轴全息技术中再现像的分离与满足采样条件之间矛盾,而且同轴光路可以记录更大数值孔径全息图,充分利用CCD的空间带宽积,分辨率较离轴高。
结合上述同轴相移技术,针对两个波长干涉图像传感元件采集的光强分布可以表示为:
其中,A1,A2为零级项,B1,B2为调制项。设两波长分别为λ1,λ2,对于反射型光路,两单波长相位相减可得合成相位分布:
Φ 12 = Φ 1 - Φ 2 = 4 π ( 1 λ 1 - 1 λ 2 ) · d = 4 π λ 1 λ 2 / | λ 1 - λ 2 | · d …………公式5
其中等效波长为:d为经过物体的光程,一般情况下为高度信息,显然,等效波长要比任一单波长大,而且两波长的差值越小,等效波长越大。
经过相减后,对于其中的相位跳变进行相位补偿,以得到等效波长下的正确合成相位:
Φ12=Φ12+2π(Φ12<0)………公式6
由于等效波长的倒数等于两个单波长的倒数差,通过选取彩色图像传感器CCD记录的三色波长中的两个,使得等效波长大于光经过物体产生的最大光程差,相位图将不再出现包裹,即可得到物体正确的相位分布。通过相位我们可以得知物体的三维形貌等信息,如反射式光路物体的高度:
d = Φ 12 λ eq 4 π ………公式7
该系统的关键在于多波长光源,高性能彩色图像传感器与压电陶瓷的结合使用,使得压电陶瓷运动一次,即可由彩色图像传感器采集多波长的干涉条纹信息,经过电脑主机分离出RGB三色波长的干涉图信息,再结合多波长相移测量技术,在简化结构的同时能实现多波长相移干涉全息的测量。我们从中提取出多个波长的相位即可恢复出等效波长下的物体三维形貌,实现强度与相位的同时测量。
参见图2,本发明提供的多波长相移显微成像系统技术可采用另一种实施方案为:所述白光光源可替换为多个单色光源,第一单色光源1-1,第二单色光源1-2……,准直透镜更换为第一准直透镜2-1,第二准直透镜2-2……,多个光源的光束经过第二分光平板15和分光棱镜16后耦合在一起。实现多波长测量。
本发明提供的方法及系统适用对象不仅为生物细胞、微光机电系统的测量,也适用于其他微小结构的物体显微测量。
结构简便的多波长相移显微成像系统及方法,使之能够快速分析物体的表面形貌和结构,更加精确地获得物体的结构形态。本发明通过多波长干涉测量可以克服单一波长干涉测量中的相位混叠问题,其实质是通过两个单波长下的包裹相位图合成新的相位图,而新相位图相当于一个更大的等效波长所得到的,因此当光经过物体产生跳变的最大光程差小于这个合成波长时,将不会出现混叠的包裹相位。
应当理解的是,本发明的应用不限于上述的举例,对本领域普通技术人员来说,可以根据上述说明加以改进或变换,所有这些改进和变换都应属于本发明所附权利要求的保护范围。

Claims (3)

1.一种多波长相移显微成像方法,其特征在于,利用米劳干涉装置采集样品信息的全息干涉条纹,并通过彩色图像传感器转换为数字图像;再通过图像处理终端控制压电陶瓷发生位移,使得米劳干涉装置内部两光束的光程差发生变化,从而使光波间发生相移干涉;然后,在短时间里采集多幅干涉全息图,通过计算获取只含有物体信息的重构像;所述光波间相位干涉具体为包含物体三维信息的物光波与经过米劳干涉装置内的反射镜的参考光波之间发生的干涉,具体方法步骤如下:
使用彩色图像传感器采集的两个单波长的光强分布可以表示为:
其中,A1,A2为零级项,B1,B2为调制项;设两单波长分别为λ1,λ2,对于反射型光路,两单波长相位相减可得合成相位分布:
其中等效波长为:d为经过物体的光程,为高度信息,等效波长比任一单波长大,而且两单波长的差值越小,等效波长越大;
经过相减后,对于其中的相位跳变进行相位补偿,以得到等效波长下的正确合成相位:
Φ12=Φ12+2π(Φ12<0)………公式3
由于等效波长的倒数等于两个单波长的倒数差,通过选取彩色图像传感器记录的三色单波长中的两个,使得等效波长大于光经过物体产生的最大光程差,相位图将不再出现包裹,即可得到物体正确的相位分布。
2.一种多波长相移显微成像系统,其特征在于,包括米劳干涉装置、白光光源、准直透镜、分光平板、成像透镜、图像接收装置、图像处理终端、压电陶瓷、压电陶瓷控制器和样品台,所述米劳干涉装置包括至上而下依次设置的第一显微物镜、第二显微镜、反射镜和平面分光镜,所述准直透镜将白色光源的光扩束,送入分光平板中,所述分光平板一侧设置有米劳干涉装置,另一侧设置有成像透镜,所述成像透镜的后端设置图像接收装置,所述图像接收装置连接图像处理终端,所述图像处理终端连接压电陶瓷控制器,所述压电陶瓷控制器连接压电陶瓷,所述压电陶瓷设置在米劳干涉装置上,所述图像处理终端通过压电陶瓷控制器控制设置在米劳干涉装置上的压电陶瓷发生位移运动,实现获取多波长的干涉条纹信息,所述样品台设置在米劳干涉装置下方;所述图像接收装置为彩色图像传感器:利用米劳干涉装置采集样品信息的全息干涉条纹,并通过彩色图像传感器转换为数字图像;再通过图像处理终端控制压电陶瓷发生位移,使得米劳干涉装置内部两光束的光程差发生变化,从而使光波间发生相移干涉;然后,在短时间里采集多幅干涉全息图,通过计算获取只含有物体信息的重构像;所述光波间相位干涉具体为包含物体三维信息的物光波与经过米劳干涉装置内的反射镜的参考光波之间发生的干涉,具体方法步骤如下:
使用彩色图像传感器采集的两个单波长的光强分布可以表示为:
其中,A1,A2为零级项,B1,B2为调制项;设两单波长分别为λ1,λ2,对于反射型光路,两单波长相位相减可得合成相位分布:
其中等效波长为:d为经过物体的光程,为高度信息,等效波长比任一单波长大,而且两单波长的差值越小,等效波长越大;
经过相减后,对于其中的相位跳变进行相位补偿,以得到等效波长下的正确合成相位:
Φ12=Φ12+2π(Φ12<0)………公式3
由于等效波长的倒数等于两个单波长的倒数差,通过选取彩色图像传感器记录的三色单波长中的两个,使得等效波长大于光经过物体产生的最大光程差,相位图将不再出现包裹,即可得到物体正确的相位分布。
3.根据权利要求2所述的系统,其特征在于,所述白光光源可替换为多个单色光源组成,所述多个单色光源的光束通过分光棱镜后耦合成多波长光源;所述白光光源为白光LED光源。
CN201410757875.6A 2014-12-10 2014-12-10 一种多波长相移显微成像系统及方法 Active CN104534979B (zh)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN201410757875.6A CN104534979B (zh) 2014-12-10 2014-12-10 一种多波长相移显微成像系统及方法

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN201410757875.6A CN104534979B (zh) 2014-12-10 2014-12-10 一种多波长相移显微成像系统及方法

Publications (2)

Publication Number Publication Date
CN104534979A CN104534979A (zh) 2015-04-22
CN104534979B true CN104534979B (zh) 2016-10-19

Family

ID=52850554

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CN201410757875.6A Active CN104534979B (zh) 2014-12-10 2014-12-10 一种多波长相移显微成像系统及方法

Country Status (1)

Country Link
CN (1) CN104534979B (zh)

Families Citing this family (13)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN106247980A (zh) * 2016-08-22 2016-12-21 天津大学 基于白光干涉彩色条纹处理的多波长相移干涉测量方法
CN107966453B (zh) * 2016-10-20 2020-08-04 上海微电子装备(集团)股份有限公司 一种芯片缺陷检测装置及检测方法
CN106907987B (zh) * 2017-03-03 2018-06-29 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所 一种干涉成像光学系统
CN106937863B (zh) * 2017-03-21 2018-06-01 上海市第一妇婴保健院 一种内置式显微阴道镜
CN107702645B (zh) * 2017-10-10 2020-03-17 西安交通大学 一种用于点衍射测量系统的多波长干涉相位检测方法
CN108120393B (zh) * 2017-12-19 2020-03-20 中国科学院光电技术研究所 一种多光场调制的三维形貌测量方法
CN108344368A (zh) * 2018-05-22 2018-07-31 中国工程物理研究院机械制造工艺研究所 一种平板厚度均匀性的干涉测量装置及测量方法
CN109341571A (zh) * 2018-09-26 2019-02-15 中国工程物理研究院机械制造工艺研究所 一种双波长同步干涉的表面形貌测量装置和方法
CN110487223B (zh) * 2019-08-20 2021-04-23 大连海事大学 一种基于空间相关度与相位差值乘积的微塑料检测装置及方法
CN111063027A (zh) * 2019-12-27 2020-04-24 河北工程大学 一种数字全息显微成像设备三维重构数据传导系统
CN111811394B (zh) * 2020-06-02 2021-11-05 上海大学 基于3ccd或3cmos的动态三波长数字全息测量方法
CN112013791B (zh) * 2020-09-02 2021-05-28 常州机电职业技术学院 三波长可变尺度干涉显微成像系统、成像方法及三相位复原方法
CN114018150B (zh) * 2021-11-08 2023-08-15 河北荣众信息科技有限公司 一种数字全息显微测量装置及其控制方法

Family Cites Families (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN1064128C (zh) * 1996-02-29 2001-04-04 中国科学院上海光学精密机械研究所 表面微结构检测系统及其检测方法
CN1303396C (zh) * 2003-11-28 2007-03-07 天津大学 基于显微干涉技术的微机电系统的测试装置与方法
CN102305601B (zh) * 2011-05-18 2012-10-10 天津大学 光学自由曲面三维形貌高精度非接触测量方法及装置
CN102589463B (zh) * 2012-01-10 2014-01-15 合肥工业大学 二维和三维一体化成像测量系统
CN103115583B (zh) * 2013-01-29 2015-07-29 哈尔滨工业大学 基于受激辐射的Mirau荧光干涉显微测量装置
CN104122228B (zh) * 2014-07-14 2016-06-15 江苏大学 一种集成光干涉和散射信息分析的显微成像系统及方法
CN204388780U (zh) * 2014-12-10 2015-06-10 佛山市南海区欧谱曼迪科技有限责任公司 一种多波长相移显微成像系统

Non-Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Title
光纤干涉条纹投射相位测量轮廓术关键技术研究;张超;《全国学位论文全文库》;20130515;全文 *
双波长数字全息干涉及其在光学测量中的应用研究;郑箫逸;《全国学位论文全文库》;20130215;全文 *
基于散斑计量的材料内部缺陷检测及物体形貌测量;许星;《全国学位论文全文库》;20121201;全文 *

Also Published As

Publication number Publication date
CN104534979A (zh) 2015-04-22

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CN104534979B (zh) 一种多波长相移显微成像系统及方法
US20230392920A1 (en) Multiple channel locating
CN100582741C (zh) 光图像计测装置及光图像计测方法
EP2459958B1 (en) Apparatus for the absolute measurement of two dimensional optical path distributions using interferometry
CN101674770B (zh) 图像形成方法和光学相干层析成像设备
CN103630086B (zh) 一种基于单色ccd的双波长同时相移干涉测量方法
Kaufmann Advances in speckle metrology and related techniques
EP2914925B1 (en) Method and apparatus for processing the signal in spectral domain interferometry and method and apparatus for spectral domain optical coherence tomography
CN204388780U (zh) 一种多波长相移显微成像系统
CN107615005A (zh) 高分辨率3‑d谱域光学成像设备和方法
Upputuri et al. Multi-colour microscopic interferometry for optical metrology and imaging applications
CN102221342A (zh) 一种时域多波长外差散斑干涉测量物体变形的方法
CN105371777B (zh) 实时测量物体变形的方法和系统
Kumar et al. Single-shot common-path off-axis dual-wavelength digital holographic microscopy
CN109373927A (zh) 一种彩色共焦三维形貌测量方法与系统
CN109000781B (zh) 一种结构微振动线域测量装置及方法
CN106482839A (zh) 斐索式双波长干涉测试装置及其合成波长相位提取方法
CN208704671U (zh) 一种快照式全场白光干涉显微测量装置
CN102865810B (zh) 基于正交双光栅的同步相移共光路干涉检测装置及检测方法
CN109341571A (zh) 一种双波长同步干涉的表面形貌测量装置和方法
CN116659412A (zh) 四波长双正交数字全息成像装置及数字全息测量装置
Upputuri et al. Phase shifting white light interferometry using colour CCD for optical metrology and bio-imaging applications
CN102840823B (zh) 基于分光同步相移的共光路干涉检测装置及检测方法
Mekonnen et al. Wavelength-encoded multi-channel spectral domain optical coherence tomography (SD-OCT) for spatiotemporally resolved imaging
CN113946117A (zh) 散射光场全息范围三维位移测量装置、方法及介质

Legal Events

Date Code Title Description
PB01 Publication
C10 Entry into substantive examination
SE01 Entry into force of request for substantive examination
C14 Grant of patent or utility model
GR01 Patent grant
CP01 Change in the name or title of a patent holder
CP01 Change in the name or title of a patent holder

Address after: 528251 Guangdong city of Foshan province Yongan Road, Nanhai District No. 1 Jingu photoelectric A block 504

Patentee after: Guangdong euro Mandy Technology Co., Ltd.

Address before: 528251 Guangdong city of Foshan province Yongan Road, Nanhai District No. 1 Jingu photoelectric A block 504

Patentee before: FOSHAN CITY NANHAI DISTRICT OPTOMEDIC SCIENCE & TECHNOLOGY CO., LTD.

TR01 Transfer of patent right
TR01 Transfer of patent right

Effective date of registration: 20170913

Address after: Xinghu Street Industrial Park of Suzhou city in Jiangsu province 215000 No. 218 Biomedical Industry Park building 302 unit A6

Patentee after: Suzhou Jing Jing Medical Technology Co., Ltd.

Address before: 528251 Guangdong city of Foshan province Yongan Road, Nanhai District No. 1 Jingu photoelectric A block 504

Patentee before: Guangdong euro Mandy Technology Co., Ltd.

CP03 Change of name, title or address
CP03 Change of name, title or address

Address after: 215127 No. 104-106, Wanlong building, No. 29, Xinfa Road, Suzhou area, China (Jiangsu) pilot Free Trade Zone, Suzhou City, Jiangsu Province, 1st floor, auxiliary building (this address shall not be engaged in retail)

Patentee after: Suzhou Oupu Mandi Technology Co.,Ltd.

Address before: 215000 unit 302, building A6, biomedical industrial park, 218 Xinghu street, Suzhou Industrial Park, Jiangsu Province

Patentee before: SUZHOU JINGGUAN MEDICAL TECHNOLOGY CO.,LTD.