CN104511180A - 一种入液保持液面平稳度的气液分布槽装置 - Google Patents

一种入液保持液面平稳度的气液分布槽装置 Download PDF

Info

Publication number
CN104511180A
CN104511180A CN201310454053.6A CN201310454053A CN104511180A CN 104511180 A CN104511180 A CN 104511180A CN 201310454053 A CN201310454053 A CN 201310454053A CN 104511180 A CN104511180 A CN 104511180A
Authority
CN
China
Prior art keywords
liquid
gas
plate
distribution
distributing slot
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
CN201310454053.6A
Other languages
English (en)
Other versions
CN104511180B (zh
Inventor
肖波
简春贵
田桂林
肖庆融
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Tianda Jinkang (Tianjin) Science and Technology Co., Ltd.
Original Assignee
TIANJIN TIANDAJINKANG CHEMICAL EQUIPMENT Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by TIANJIN TIANDAJINKANG CHEMICAL EQUIPMENT Co Ltd filed Critical TIANJIN TIANDAJINKANG CHEMICAL EQUIPMENT Co Ltd
Priority to CN201310454053.6A priority Critical patent/CN104511180B/zh
Publication of CN104511180A publication Critical patent/CN104511180A/zh
Application granted granted Critical
Publication of CN104511180B publication Critical patent/CN104511180B/zh
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Landscapes

  • Devices And Processes Conducted In The Presence Of Fluids And Solid Particles (AREA)
  • Physical Or Chemical Processes And Apparatus (AREA)

Abstract

本发明公开了一种入液保持液面平稳度的气液分布槽装置,它设置多出口的进液管及防冲稳液槽,能够有效的提高分布槽的液面平稳度,同时减小了液面梯度,即液面落差;将多个支承双板组合,并安装多个分布槽,气体经分布槽之间形成均匀的空间均布上升;相对于现有技术,窄的分布槽能够增加气体上升的截面积,降低气体阻力,从而完成整个气液分布的过程,提高了整体气液分布槽装置的分布性能,本技术方案可广泛用于化工、石油化工、乙烯、炼油等工业领域。

Description

一种入液保持液面平稳度的气液分布槽装置
技术领域
本发明涉及气液分布槽技术领域,特别是涉及一种入液保持液面平稳度的气液分布槽装置。
背景技术
高性能的气液分布装置是充分发挥填料性能,提高填料传质效率和生产能力的保证。多年来对塔用气液分布装置的研究和开发取得很大进展,在设计和应用上日趋完善。现有的槽式气液分布装置虽然在液体分布点密度、布液方式和布液均匀性上很具特色,但仍不同程度存有这样或那样的不足,例如气体压降、液位平稳、抗堵能力等,当液体物料流入气液分布槽时,会对液面产生较大冲力,导致液面振荡是现在亟需解决的技术问题。
发明内容
本发明的目的是针对现有技术中存在的技术缺陷,而提供一种入液保持液面平稳度的气液分布槽装置。
为实现本发明的目的所采用的技术方案是:一种入液保持液面平稳度的气液分布槽装置,其特征在于包括平行排列的多个支承双板,所述支承双板的上方安装有与所述支承双板垂直的连接销轴,所述连接销轴的两端分别位于所述支承双板的两侧;所述支承双板与相邻的互相平行的支承双板之间安装有多个分布槽;所述连接销轴与所述分布槽连接;
所述分布槽由水平方向的纵槽板和竖直方向的端板组成;所述纵槽板长轴方向的下部等间隔设置有液体分布孔;所述纵槽板长轴方向的上部等间隔设置液体溢流孔;所述分布槽体的上方设有多出口的进液管;
所述分布槽体的内部设有形似分布槽体的由超薄钢带折、焊而成的防冲稳液槽,所述防冲稳液槽包括槽体,所述槽体的四周开有多行百叶窗孔,其上部与分布槽体焊接,所述槽体的底部均布有底孔;防冲稳液槽的设置,极大提高分布槽的液面平稳度和减小液面梯度,从而提高抗堵能力、操作弹性和分布性能。
所述分布孔的下方沿纵槽板长轴方向设有导液槽和挡液板,所述导液槽和挡液板呈垂直分布。
所述导液槽位于所述分布孔的下沿,导液槽包括底板和底板两侧的立板,所述底板的一端与分布槽的纵槽板焊接,底板的另一端的端部与两侧立板断开连接并向下方弯折,并与所述挡液板形成空隙;导液槽两侧立板与挡液板焊接,并使液体从开口处流到挡液板上散开流下。
优选的,所述槽体的底部两端头设有定位板支撑。
本发明的工作原理为:液体物料由多出口的进液管流入防冲稳液槽,经槽底的底孔流入分布槽后液面上升,随着液面的上升液体将经百叶窗孔溢出到分布槽,由进料管流入的液注对液面的扰动能量将被防冲稳液槽吸收,因而使分布槽的液面保持平稳;然后,液体物料经分布孔流出,经导液槽到挡液板流下。
与现有技术相比,本发明的有益效果是:
1.传统设备进液时会对液面产生很大的冲击,本发明设置多出口的进液管及防冲稳液槽,能够有效的提高分布槽的液面平稳度,同时减小了液面梯度,即液面落差。
2.传统设备中的分布槽是安装在横梁上,其整体体积和占用面积较大,影响了气体的流通,本发明的技术方案是将多个支承双板组合,并安装多个分布槽,气体经分布槽之间形成均匀的空间均布上升。相对于现有技术,窄的分布槽能够增加气体上升的截面积,降低气体阻力,从而完成整个气液分布的过程。
3.本发明提高了整体气液分布槽装置的分布性能,可广泛用于化工、石油化工、乙烯、炼油等工业领域。
附图说明
图1所示为本发明气液分布槽装置的结构示意图;
图2所示为图1中A向视图。
具体实施方式
以下结合具体实施例对本发明作进一步详细说明。应当理解,此处所描述的具体实施例仅仅用以解释本发明,并不用于限定本发明。
实施例:
如图1、2所示,一种入液保持液面平稳度的气液分布槽装置,包括平行排列的多个支承双板6,所述支承双板6的上方安装有与所述支承双板6垂直的连接销轴61,所述连接销轴61的两端分别位于所述支承双板的两侧;所述支承双板6与相邻的互相平行的支承双板6之间安装有多个分布槽1;所述连接销轴61与所述分布槽1连接。
所述分布槽1由水平方向的纵槽板11和竖直方向的端板12组成;所述纵槽板11长轴方向的下部等间隔设置有液体分布孔111;所述纵槽板11长轴方向的上部等间隔设置液体溢流孔112;所述分布槽体1的上方设有多出口的进液管7。
所述分布槽体1的内部设有形似分布槽体1的由超薄钢带折、焊而成的防冲稳液槽5,所述防冲稳液槽5包括槽体51,所述槽体51的四周开有多行百叶窗孔53,其上部与分布槽体1焊接,所述槽体51的底部均布有底孔54;防冲稳液槽5的设置,极大提高分布槽的液面平稳度和减小液面梯度,从而提高抗堵能力、操作弹性和分布性能。
所述分布孔111的下方沿纵槽板11长轴方向设有导液槽3和挡液板4,所述导液槽3和挡液板4呈垂直分布。
所述导液槽3位于所述分布孔111的下沿,导液槽3包括底板和底板两侧的立板,所述底板的一端与分布槽1的纵槽板11焊接,底板的另一端的端部与两侧立板断开连接并向下方弯折,并与所述挡液板4形成空隙;导液槽3两侧立板与挡液板4焊接,并使液体从开口处流到挡液板4上散开流下;空隙的大小可以根据喷淋量的大小来决定。
优选的,所述槽体51的底部两端头设有定位板52支撑。
本发明的工作原理为:液体物料由多出口的进液管7流入防冲稳液槽5,经槽底的底孔54流入分布槽1后液面上升,随着液面的上升液体将经百叶窗孔53溢出到分布槽1,由进料管7流入的液注对液面的扰动能量将被防冲稳液槽5吸收,因而使分布槽的液面保持平稳;然后,液体物料经分布孔111流出,经导液槽3到挡液板4流下;气体经分布槽之间自然形成均匀的空间均布上升,窄的分布槽1能够增加气体上升的截面积,降低气体阻力,从而完成整个气液分布的过程。
与现有技术相比,本发明的有益效果是:多出口的进液管7及防冲稳液槽5的设置,提高分布槽的液面平稳度和减小液面梯度(液面梯度即为液面落差),从而提高了整体气液分布槽装置的分布性能,可广泛用于化工、石油化工、乙烯、炼油等工业领域。
以上所述仅是本发明的优选实施方式,应当指出的是,对于本技术领域的普通技术人员来说,在不脱离本发明原理的前提下,还可以做出若干改进和润饰,这些改进和润饰也应视为本发明的保护范围。

Claims (4)

1.一种入液保持液面平稳度的气液分布槽装置,其特征在于:包括平行排列的多个支承双板,所述支承双板的上方安装有与所述支承双板垂直的连接销轴,所述连接销轴的两端分别位于所述支承双板的两侧;所述支承双板与相邻的互相平行的支承双板之间安装有多个分布槽;所述连接销轴与所述分布槽连接;所述分布槽由水平方向的纵槽板和竖直方向的端板组成;所述纵槽板长轴方向的下部等间隔设置有液体分布孔;所述纵槽板长轴方向的上部等间隔设置液体溢流孔;所述分布槽体的上方设有多出口的进液管;所述分布槽体的内部设有防冲稳液槽,所述防冲稳液槽包括槽体,所述槽体的四周开有多行百叶窗孔,其上部与分布槽体焊接,所述槽体的底部均布有底孔;防冲稳液槽的设置,极大提高分布槽的液面平稳度和减小液面梯度,从而提高抗堵能力、操作弹性和分布性能。
2.根据权利要求1所述的一种入液保持液面平稳度的气液分布槽装置,其特征在于所述分布孔的下方沿纵槽板长轴方向设有导液槽和挡液板,所述导液槽和挡液板呈垂直分布。
3.根据权利要求2所述的一种入液保持液面平稳度的气液分布槽装置,其特征在于所述导液槽位于所述分布孔的下沿,导液槽包括底板和底板两侧的立板,所述底板的一端与分布槽的纵槽板焊接,底板的另一端的端部与两侧立板断开连接并向下方弯折,并与所述挡液板形成空隙。
4.根据权利要求3所述的一种入液保持液面平稳度的气液分布槽装置,其特征在于所述槽体的底部两端头设有定位板支撑。
CN201310454053.6A 2013-09-27 2013-09-27 一种入液保持液面平稳度的气液分布槽装置 Active CN104511180B (zh)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN201310454053.6A CN104511180B (zh) 2013-09-27 2013-09-27 一种入液保持液面平稳度的气液分布槽装置

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN201310454053.6A CN104511180B (zh) 2013-09-27 2013-09-27 一种入液保持液面平稳度的气液分布槽装置

Publications (2)

Publication Number Publication Date
CN104511180A true CN104511180A (zh) 2015-04-15
CN104511180B CN104511180B (zh) 2016-08-17

Family

ID=52787401

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CN201310454053.6A Active CN104511180B (zh) 2013-09-27 2013-09-27 一种入液保持液面平稳度的气液分布槽装置

Country Status (1)

Country Link
CN (1) CN104511180B (zh)

Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5693293A (en) * 1993-06-17 1997-12-02 Das-Dunnschicht Anlagen Systeme Gmbh Dresden Apparatus for the purification of waste gas
CN2393611Y (zh) * 1999-07-30 2000-08-30 天津大学 斜板式液体收集再分布器
RU2266770C1 (ru) * 2004-10-07 2005-12-27 Зиберт Роман Генрихович Распределитель жидкости
CN201519545U (zh) * 2009-07-24 2010-07-07 中国石油化工集团公司 一种大型槽盘式液体分布器
CN203494196U (zh) * 2013-09-27 2014-03-26 天津市天大津康化工设备有限公司 一种入液保持液面平稳度的气液分布槽装置

Patent Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5693293A (en) * 1993-06-17 1997-12-02 Das-Dunnschicht Anlagen Systeme Gmbh Dresden Apparatus for the purification of waste gas
CN2393611Y (zh) * 1999-07-30 2000-08-30 天津大学 斜板式液体收集再分布器
RU2266770C1 (ru) * 2004-10-07 2005-12-27 Зиберт Роман Генрихович Распределитель жидкости
CN201519545U (zh) * 2009-07-24 2010-07-07 中国石油化工集团公司 一种大型槽盘式液体分布器
CN203494196U (zh) * 2013-09-27 2014-03-26 天津市天大津康化工设备有限公司 一种入液保持液面平稳度的气液分布槽装置

Also Published As

Publication number Publication date
CN104511180B (zh) 2016-08-17

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CN104524801B (zh) 一种分散降液筛板塔
CN209645880U (zh) 一种新型连续传质浮阀塔
CN209771759U (zh) 半圆弧喷射溢流式塔板
CN104083891B (zh) 一种立体膜喷穿流塔盘
CN203494196U (zh) 一种入液保持液面平稳度的气液分布槽装置
CN105783347A (zh) 降膜式蒸发器用制冷剂分配器
CN204996242U (zh) 导流挡板及其卧式气水分离器
CN103100291A (zh) 一种气液传质装置
CN211836933U (zh) 液体再分布器及填料塔
CN104511180A (zh) 一种入液保持液面平稳度的气液分布槽装置
CN204502586U (zh) 卧式撞击流气水分离器
CN202844647U (zh) 硼酸脱气塔
CN201304261Y (zh) 多孔立体气液接触元件
CN103143238B (zh) 应用于烟气脱硫塔的管槽式液体分布器
CN203170046U (zh) 一种适用于填料塔变径段的气液分布装置
CN203030028U (zh) 排管式液体分布器及使用该液体分布器的冷却塔
US20150202578A1 (en) Distributor tray for gas/liquid exchange column with liquid deflector
CN109433150A (zh) 一种自支撑组合塔盘
CN206508989U (zh) 一种无壁流规整波纹填料
CN206168436U (zh) 一种化工生产用液体分布器
CN107179014A (zh) 一种高均匀性多层次布水装置
CN203853088U (zh) 一种wm波中波规整塔填料
CN203286544U (zh) 实现锅筒内蒸汽流动均匀的装置
CN209501696U (zh) 一种自支撑组合塔盘
CN103480170B (zh) 一种气体折流喷射塔板

Legal Events

Date Code Title Description
C06 Publication
PB01 Publication
C10 Entry into substantive examination
SE01 Entry into force of request for substantive examination
C14 Grant of patent or utility model
GR01 Patent grant
CP01 Change in the name or title of a patent holder
CP01 Change in the name or title of a patent holder

Address after: 300 000 No. 4 workshop of Tengda Garden, Xiqing Economic and Technological Development Zone, Tianjin

Patentee after: Tianda Jinkang (Tianjin) Science and Technology Co., Ltd.

Address before: 300 000 No. 4 workshop of Tengda Garden, Xiqing Economic and Technological Development Zone, Tianjin

Patentee before: TIANJIN TIANDAJINKANG CHEMICAL EQUIPMENT CO., LTD.