CN104368560A - 一种大片晶片提篮 - Google Patents

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赵仑
杨志刚
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Dong Kang Jingrui (chengdu) Co Ltd Crystal
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    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B08—CLEANING
    • B08B—CLEANING IN GENERAL; PREVENTION OF FOULING IN GENERAL
    • B08B3/00—Cleaning by methods involving the use or presence of liquid or steam
    • B08B3/04—Cleaning involving contact with liquid
    • B08B3/10—Cleaning involving contact with liquid with additional treatment of the liquid or of the object being cleaned, e.g. by heat, by electricity or by vibration
    • B08B3/12—Cleaning involving contact with liquid with additional treatment of the liquid or of the object being cleaned, e.g. by heat, by electricity or by vibration by sonic or ultrasonic vibrations
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B08—CLEANING
    • B08B—CLEANING IN GENERAL; PREVENTION OF FOULING IN GENERAL
    • B08B13/00—Accessories or details of general applicability for machines or apparatus for cleaning

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  • Cleaning Or Drying Semiconductors (AREA)
  • Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)

Abstract

本发明公开了一种大片晶片提篮，它包括提篮架（5）和晶片放置架，所述的提篮架的两侧设置有挡板（1），所述的挡板（1）上下两层上均开设有多个通孔，通孔内套装有螺杆（2）且上下两层的螺杆（2）相互平行，位于挡板（1）之间的螺杆（2）上套装有一防滑滚筒（3），所述的晶片放置架由上层两个防滑滚筒（3）和与之对应的下层两个防滑滚筒（3）组成，所述的防滑滚筒（3）上开设有多个间隔分布的方形槽（4），方形槽（4）的宽度与晶片的宽度相同。本发明的有益效果是：超声波功率稳定、清洗质量好和减少晶片报废的优点。

Description

一种大片晶片提篮
技术领域
本发明涉及晶片放置装置，特别是一种大片晶片提篮。
背景技术
在生产和生活当中，需要清洁的东西很多，需要清洗的种类和环节也很多。因此，为了应对该众多需要清洁的东西，社会上已出现了多种清洗设备，采用了多种清洗工艺方法，譬如浸洗、刷洗、压力冲洗、振动清洗和蒸气清洗等等，但是当面对需要清洗的物品表面比较复杂，像一些表面凹凸不平、有盲孔的机械零部件，一些特别小而对清洁度有较高要求的产品，如：钟表和精密机械的零件、电子元器件、电路板组件等时；常规的清洗方法已无法达到要求，即使是蒸汽清洗和高压水射流清洗也无法满足对清洁度较高的需求。
目前超声波清洗机已作为一种清洗效果好的清洗装置，它已广泛地应用于电子电器、宝石、钟表、光学机械等领域。超声波清洗机一般由超声波清洗槽、超声波发生器以及包括有振动板和超声波换能器的超声波振板等构成，其中，超声波清洗槽一般采用弹性好、耐腐蚀的优质不锈钢制成，超声波振板可以采用侧挂式或者底置式安装于超声波清洗槽内，超声波换能器固定安装于振动板，超声波换能器通过连接线与超声波发生器电连接。
超声波清洗机原理主要是换能器将功率超声频源的声能转换成机械振动并通过清洗槽壁向槽子中的清洗液辐射超声波，使槽内液体中的微气泡能够在声波的作用下从而保持振动。当声压或者声强受到压力到达一定程度时候，气泡就会迅速膨胀，然后又突然闭合。在这段过程中，气泡闭合的瞬间产生冲击波，使气泡周围产生1012-1013pa 的压力及局调温，这种超声波空化所产生的巨大压力能破坏不溶性污物而使他们分化于溶液中，蒸汽型空化对污垢的直接反复冲击。一方面破坏污物与清洗件表面的吸附，另一方面能引起污物层的疲劳破坏而被驳离从而达到清洗物件表面的目的。
目前晶片清洗工艺为将晶片散放在清洗框中，在超声波机器中上下晃动清洗，经过多道超洗，一道漂洗，再用烤箱烘干，完成最终的工作，而目前的清洗篮，晶片放置在清洗篮内容易晃动，在搬运过程中，容易出现晶片折裂和掉落的现象，导致晶片报废，而且由于晶片放置在清洗篮中，晶片的四面并未被敞开，超声波在传递过程中，超声波功率降低较为严重，从而不能保证晶片的清洗质量。
发明内容
本发明的目的在于克服现有技术的缺点，提供一种超声波功率稳定、清洗质量好和减少晶片破碎的大片晶片提篮。
本发明的目的通过以下技术方案来实现：一种大片晶片提篮，它包括提篮架和晶片放置架，所述的提篮架的两侧设置有挡板，所述的挡板上下两层上均开设有多个通孔，通孔内套装有螺杆且上下两层的螺杆相互平行，位于挡板之间的螺杆上套装有一防滑滚筒，所述的晶片放置架由上层两个防滑滚筒和与之对应的下层两个防滑滚筒组成，所述的防滑滚筒上开设有多个间隔分布的方形槽，方形槽的宽度与晶片的宽度相同。
所述的提篮架上端横梁为不锈钢钢管。
所述的挡板上开设有方形孔。
本发明具有以下优点：本发明的晶片放置在提篮架内，四面均敞开，最大程度减少超声波功率的降低，保证了晶片的清洗质量，而且晶片放置在提篮架内，不能轻易晃动和滑动，降低了晶片的破碎，节约了成本。
附图说明
图1 为本发明的主视示意图；
图2 为本发明的俯视示意图；
图3 为本发明的左视示意图；
图中，1-挡板，2-螺杆，3-防滑滚筒，4-方形槽，5-提篮架，6-方形孔。 
具体实施方式
下面结合附图对本发明做进一步的描述，本发明的保护范围不局限于以下所述：
如图1所示，一种大片晶片提篮，它包括提篮架5和晶片放置架，所述的提篮架的两侧设置有挡板1，所述的挡板1上下两层上均开设有多个通孔，通孔内套装有螺杆2且上下两层的螺杆2相互平行，如图2和3所示，位于挡板1之间的螺杆2上套装有一防滑滚筒3，所述的晶片放置架由上层两个防滑滚筒3和与之对应的下层两个防滑滚筒3组成，所述的防滑滚筒3上开设有多个间隔分布的方形槽4，方形槽4的宽度与晶片的宽度相同，将晶片放置在方形槽4内，晶片不能晃动，避免了晶片因晃动而造成的破碎，而且提篮架5倾斜时，晶片在防滑滚筒3的作用下，也不会滑出，避免了提篮在搬运过程中晶片的损坏。
在本实施例中，所述的提篮架5上端横梁为不锈钢钢管，钢管便于手握，使提篮架5拿取方便，挡板1上开设有方形孔6，方形孔6降低了挡板的用材，节约了成本，而且也降低了提篮的重量，便于拿取，晶片放置在方形槽4内，晶片四面均敞开，最大程度减少超声波功率的降低，保证了晶片的清洗质量。 

Claims (3)

1.一种大片晶片提篮，其特征在于：它包括提篮架（5）和晶片放置架，所述的提篮架的两侧设置有挡板（1），所述的挡板（1）上下两层上均开设有多个通孔，通孔内套装有螺杆（2）且上下两层的螺杆（2）相互平行，位于挡板（1）之间的螺杆（2）上套装有一防滑滚筒（3），所述的晶片放置架由上层两个防滑滚筒（3）和与之对应的下层两个防滑滚筒（3）组成，所述的防滑滚筒（3）上开设有多个间隔分布的方形槽（4），方形槽（4）的宽度与晶片的宽度相同。
2.根据权利要求1所述的一种大片晶片提篮，其特征在于：所述的提篮架（5）上端横梁为不锈钢钢管。
3.根据权利要求1所述的一种大片晶片提篮，其特征在于：所述的挡板（1）上开设有方形孔（6）。
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