CN104360548B - 液晶喷墨涂布设备及参数调整方法、液晶涂布与检查系统 - Google Patents

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Abstract

本发明实施例提供一种液晶喷墨涂布设备及参数调整方法、液晶涂布与检查系统，涉及液晶显示技术领域，该方法可根据接收到的液晶涂布检查设备发送液晶涂布不良信息，灵活调整液晶喷墨涂布设备下次进行涂布时的涂布参数，避免后续的基板再出现相同的涂布不良。液晶喷墨涂布设备的涂布参数调整方法包括：在液晶喷墨涂布设备在第一基板上涂布液晶之后，接收液晶涂布检查设备发送的第一基板的液晶涂布不良信息；根据液晶涂布不良信息，调整液晶喷墨涂布设备进行液晶涂布的涂布参数，调整后的涂布参数用于在与第一基板尺寸相同的第二基板上涂布液晶时，补偿涂布不良区域发生的缺陷。用于液晶喷墨涂布设备及包含该设备的液晶涂布与检查系统的制备。

Description

液晶喷墨涂布设备及参数调整方法、液晶涂布与检查系统
技术领域
本发明涉及液晶显示技术领域，尤其涉及一种液晶喷墨涂布设备及参数调整方法、液晶涂布与检查系统。
背景技术
液晶的涂布与对盒工艺是液晶显示面板制造过程中的重要步骤，其中，液晶喷墨式涂布工艺通过液晶喷墨涂布设备(Liquid Crystal Inkjet，简称为LC Inkjet)在制程基板(如阵列基板或彩膜基板)上涂布液晶，然后通过对盒工艺在真空对合设备(VacuumAligner)中使涂布有液晶的制程基板与涂布有封框胶的对盒基板进行成盒，从而形成液晶显示面板。
由于对盒后的制程基板上液晶涂布后分布的准确性对成盒后的液晶显示面板的显示效果有直接影响，因此，在完成上述工艺后还需对成盒后的液晶显示面板进行液晶涂布状态的检测，具体的，即通过液晶涂布检查设备，如目视检查机(Visual Inspection，简称为VI)，对成盒后的液晶显示面板进行初步的检查，以检测出液晶在制程基板上的涂布不良：如图1A所示，在制程基板上某一区域发生涂布后的液晶扩散量过多，即液晶过充(OverFill)，由于发生Over Fill导致这一区域的液晶颜色较周边区域更深；或者，如图1B所示，在制程基板上某一区域发生涂布后的液晶扩散量过少或没有，即液晶欠充(Not Fill)，由于发生Not Fill导致这一区域的液晶颜色较周边区域更浅。
然而，在实际生产过程中，受到工艺进度的要求，难以做到对每一块液晶显示面板进行检测，只能对成盒后的液晶显示面板抽样进行上述的液晶涂布状态的检测，这样一来，由于通过LC Inkjet进行液晶涂布的基板尺寸均相同，因此，上述的Over Fill或Not Fill涂布不良存在一定的位置集中性，即如果检测出某一块液晶显示面板发生上述的涂布不良，那么采用与该液晶显示面板涂布参数同的所有基板，都会在相应的区域发生同样的涂布不良，导致对盒后的液晶显示面板出现连续性的液晶涂布不良，降低产品良率，增加生产成本。
发明内容
鉴于此，为解决现有技术的问题，本发明的实施例提供一种液晶喷墨涂布设备及参数调整方法、液晶涂布与检查系统，通过该参数调整方法可根据接收到的液晶涂布检查设备发送液晶涂布不良信息，灵活调整液晶喷墨涂布设备下次进行涂布时的涂布参数，避免后续的基板再出现相同的涂布不良。
为达到上述目的，本发明的实施例采用如下技术方案：
一方面、本发明实施例提供了一种液晶喷墨涂布设备的涂布参数调整方法，所述方法包括：在液晶喷墨涂布设备在第一基板上涂布液晶之后，接收液晶涂布检查设备发送的所述第一基板的液晶涂布不良信息；根据所述液晶涂布不良信息，调整所述液晶喷墨涂布设备进行液晶涂布的涂布参数，调整后的涂布参数用于在与所述第一基板尺寸相同的第二基板上涂布液晶时，补偿涂布不良区域发生的缺陷。
优选的，所述液晶涂布不良信息包括：涂布不良区域的参数和所述涂布不良区域的缺陷类型；所述调整后的涂布参数包括：在所述第二基板上进行至少一次液晶涂布时，每次涂布区域的参数和在所述每次涂布区域涂布的液晶量。
可选的，在所述根据所述液晶涂布不良信息，调整所述液晶喷墨涂布设备进行液晶涂布的涂布参数之前，所述方法还包括：获取修正量；所述修正量为用于补偿所述涂布不良区域发生所述缺陷的液晶量；所述根据所述液晶涂布不良信息，调整所述液晶喷墨涂布设备进行液晶涂布的涂布参数，具体包括：根据所述液晶涂布不良信息以及所述修正量，调整所述液晶喷墨涂布设备进行液晶涂布的涂布参数；所述调整后的涂布参数包括：进行一次液晶涂布时，所述涂布区域的参数为所述第二基板上需涂布液晶的整个区域的参数，所述涂布的液晶量为所述第二基板上需涂布的液晶总量与所述修正量之差；进行另一次液晶涂布时，在所述缺陷类型为液晶欠充的情况下，所述涂布区域的参数为所述涂布不良区域的参数，所述涂布的液晶量为所述修正量；或者，在所述缺陷类型为液晶过充的情况下，所述涂布区域的参数为其余区域的参数，所述涂布的液晶量为所述修正量；其中，所述其余区域为所述第二基板上需涂布液晶的整个区域中除所述涂布不艮区域之外的区域。
可选的，在所述缺陷类型为液晶过充的情况下，所述调整后的涂布参数包括：所述涂布区域的参数为其余区域的参数，所述涂布的液晶量为所述第二基板上需涂布的液晶总量；其中，所述其余区域为所述第二基板上需涂布液晶的整个区域中除所述涂布不良区域之外的区域。
进一步优选的，在所述缺陷类型为所述液晶过充的情况下，在所述根据所述液晶涂布不良信息，调整所述液晶喷墨涂布设备进行液晶涂布的涂布参数之前，所述方法还包括：获取修正量；所述修正量为用于补偿所述涂布不良区域发生所述缺陷的液晶量；将所述修正量与预设阈值进行比较；所述根据所述液晶涂布不良信息，调整所述液晶喷墨涂布设备进行液晶涂布的涂布参数，具体包括：在所述修正量的数值小于或等于所述预设阈值的情况下，根据所述液晶涂布不良信息，调整所述液晶喷墨涂布设备进行液晶涂布的涂布参数。
在上述基础上优选的，所述获取修正量包括：根据所述涂布不良区域的参数，获取所述涂布不良区域的面积；根据涂布不良区域的比例与所述第二基板上需涂布的液晶总量的乘积获取所述修正量；其中，所述涂布不良区域的比例为所述涂布不良区域的面积占所述第二基板上需涂布液晶的整个区域的面积的比例。
另一方面、本发明实施例提供了一种液晶喷墨涂布设备，所述设备包括：接收单元；所述接收单元用于接收液晶涂布检查设备发送的第一基板的液晶涂布不良信息；调整单元；所述调整单元用于根据所述液晶涂布不良信息，调整所述液晶喷墨涂布设备进行液晶涂布的涂布参数，调整后的涂布参数用于在与所述第一基板尺寸相同的第二基板上涂布液晶时，补偿涂布不良区域发生的缺陷。
优选的，所述液晶涂布不良信息包括：涂布不良区域的参数和所述涂布不良区域的缺陷类型；所述调整后的涂布参数包括：在所述第二基板上进行至少一次液晶涂布时，每次涂布区域的参数和在所述每次涂布区域涂布的液晶量。
可选的，所述设备还包括：获取单元，用于获取修正量；所述修正量为用于补偿所述涂布不良区域发生所述缺陷的液晶量；所述调整单元，具体用于根据所述液晶涂布不良信息以及所述修正量，调整所述液晶喷墨涂布设备进行液晶涂布的涂布参数；所述调整后的涂布参数包括：进行一次液晶涂布时，所述涂布的区域参数为所述第二基板上需涂布液晶的整个区域的参数，所述涂布的液晶量为所述第二基板上需涂布的液晶总量与所述修正量之差；进行另一次液晶涂布时，在所述缺陷类型为液晶欠充的情况下，所述涂布的区域参数为所述涂布不良区域的参数，所述涂布的液晶量为所述修正量；或者，在所述缺陷类型为液晶过充的情况下，所述涂布区域的参数为其余区域的参数，所述涂布的液晶量为所述修正量；其中，所述其余区域为所述第二基板上需涂布液晶的整个区域中除所述涂布不良区域之外的区域。
可选的，在所述缺陷类型为液晶过充的情况下，所述调整后的涂布参数包括：所述涂布区域的参数为其余区域的参数，所述涂布的液晶量为所述第二基板上需涂布的液晶总量；其中，所述其余区域为所述第二基板上需涂布液晶的整个区域中除所述涂布不良区域之外的区域。
进一步优选的，在所述缺陷类型为液晶过充的情况下，所述设备还包括：获取单元，用于获取修正量；所述修正量为用于补偿所述涂布不良区域发生所述缺陷的液晶量；比较单元，用于将所述修正量与预设阈值进行比较；所述调整单元，具体用于在所述修正量的数值小于或等于所述预设阈值的情况下，根据所述液晶涂布不良信息，调整所述液晶喷墨涂布设备进行液晶涂布的涂布参数。
在上述基础上优选的，所述获取单元具体包括：计算模块，用于根据所述涂布不良区域的参数，获取所述涂布不良区域的面积；换算模块，用于根据涂布不良区域的比例与所述第二基板上需涂布的液晶总量的乘积获取所述修正量；其中，所述涂布不良区域的比例为所述涂布不良区域的面积占所述第二基板上需涂布液晶的整个区域的面积的比例。
再一方面、本发明实施例还提供了一种液晶涂布与检查系统，所述系统包括：液晶涂布检查设备以及上述的所述的液晶喷墨涂布设备；其中，所述液晶涂布检查设备用于在所述液晶喷墨涂布设备在第一基板上涂布液晶之后，获取所述第一基板上的液晶涂布不良信息，并向所述液晶喷墨涂布设备发送所述液晶涂布不良信息。
优选的，所述液晶涂布不良信息包括：涂布不良区域的参数和所述涂布不良区域的缺陷类型。
优选的，所述液晶涂布检查设备具体包括：检查单元；所述检查单元用于在所述液晶喷墨涂布设备在第一基板上涂布液晶之后，对所述第一基板进行检查，获取所述涂布不良区域的缺陷类型；定位单元；所述定位单元用于获取所述涂布不良区域的参数；发送单元；所述发送单元用于向所述液晶喷墨涂布设备发送所述第一基板的液晶涂布不艮信息。
基于此，本发明实施例提供的上述涂布参数调整方法，一方面，首先通过获取液晶涂布检查设备发送的所述第一基板的液晶涂布不良信息，使得液晶涂布检查设备能够及时获取对基板进行涂布后发生的不良情况，提高了液晶涂布检查设备自身对涂布不良的应对速率；另一方面，通过之后的步骤，使得液晶涂布检查设备能够根据接收到所述液晶涂布不良信息，及时地调整所述液晶喷墨涂布设备进行下一次液晶涂布的涂布参数，使得调整后的涂布参数在对与前一块基板(即所述第一基板)尺寸相同的后一块基板(即所述第二基板)上涂布液晶时，能够补偿所述涂布不良区域发生的所述缺陷，避免后续的基板再出现相同的涂布不良缺陷，从而降低了对盒后的液晶显示面板出现连续性的液晶涂布不良，提高产品良率，降低生产成本。
附图说明
为了更清楚地说明本发明实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本发明的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。
图1A为现有技术中对盒后的制程基板上发生的涂布不良现象之液晶过充；
图1B为现有技术中对盒后的制程基板上发生的涂布不良现象之液晶欠充；
图2为本发明实施例提供的一种液晶喷墨涂布设备的涂布参数调整方法流程示意图；
图3A为本发明实施例提供的一种液晶喷墨涂布设备的涂布参数调整方法具体示意图一；
图3B为本发明实施例提供的一种液晶喷墨涂布设备的涂布参数调整方法具体示意图二；
图3C为本发明实施例提供的一种液晶喷墨涂布设备的涂布参数调整方法具体示意图三；
图4A为本发明实施例提供的一种液晶喷墨涂布设备的涂布参数调整方法具体示意图四；
图4B为本发明实施例提供的一种液晶喷墨涂布设备的涂布参数调整方法具体示意图五；
图5为本发明实施例提供的一种液晶喷墨涂布设备与液晶涂布检查设备建立循环交互的示意图；
图6为本发明实施例提供的一种液晶喷墨涂布设备的结构示意图；
图7为本发明实施例提供的一种液晶涂布与检查系统示意图。
附图标记：
01-液晶涂布与检查系统；10-液晶喷墨涂布设备；11-接收单元；12-调整单元；20-液晶涂布检查设备；21-检查单元；22-定位单元；23-发送单元；02-第二基板。
具体实施方式
下面将结合本发明实施例中的附图，对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本发明保护的范围。
本发明实施例提供了一种液晶喷墨涂布设备的涂布参数调整方法，如图2所示，所述方法包括：
S01、在液晶喷墨涂布设备在第一基板上涂布液晶之后，接收液晶涂布检查设备发送的所述第一基板的液晶涂布不良信息。
S02、根据所述液晶涂布不良信息，调整所述液晶喷墨涂布设备进行液晶涂布的涂布参数，调整后的涂布参数用于在与所述第一基板尺寸相同的第二基板上涂布液晶时，补偿所述涂布不良区域发生的所述缺陷。
需要说明的是，在现有技术中，由于液晶喷墨涂布设备的涂布参数通常包括有液晶量、涂布的区域等参数，因此，当液晶喷墨涂布设备的涂布参数按照相应的结构参数要求设定后，与该参数对应的待涂布的基板尺寸均应相同，若尺寸不相同则难以按照同一涂布参数进行涂布。这样一来，当通过液晶涂布检查设备(如目视检查机)检测出某一块抽样基板发生液晶过充(Over Fill)或液晶欠充(Not Fill)等涂布不良后，由于基板惯性的原因，在该基板之前完成涂布的基板、以及在该基板之后继续按照同一参数进行涂布的基板都会在相同的区域出现同样类型的缺陷，并且产生缺陷区域的大小相接近。
因此，在上述步骤S02中，所述补偿所述涂布不良区域发生的所述缺陷，是指对在所述第二基板上进行涂布的液晶与所述第一基板发生涂布不良区域相对应的区域进行的一种预先性的调整，以避免涂布后的所述第二基板上再次出现与所述第一基板上相同的涂布不良。
基于此，本发明实施例提供的上述涂布参数调整方法，一方面，首先通过步骤S01获取液晶涂布检查设备发送的所述第一基板的液晶涂布不良信息，使得液晶涂布检查设备能够及时获取对基板进行涂布后发生的不良情况，提高了液晶涂布检查设备自身对涂布不良的应对速率；另一方面，通过之后的步骤S02，使得液晶涂布检查设备能够根据接收到所述液晶涂布不良信息，及时地调整所述液晶喷墨涂布设备进行下一次液晶涂布的涂布参数，使得调整后的涂布参数在对与前一块基板(即所述第一基板)尺寸相同的后一块基板(即所述第二基板)上涂布液晶时，能够补偿所述涂布不良区域发生的所述缺陷，避免后续的基板再出现相同的涂布不良缺陷，从而降低了对盒后的液晶显示面板出现连续性的液晶涂布不良，提高产品良率，降低生产成本。
在上述基础上，由于液晶喷墨涂布设备的涂布参数通常包括有液晶量、涂布的区域等参数，因此，优选的，所述液晶涂布不良信息包括：涂布不良区域的参数和所述涂布不良区域的缺陷类型。
与上述的液晶涂布不良信息相对应的，所述调整后的涂布参数包括：在所述第二基板上进行至少一次液晶涂布时，每次涂布区域的参数和在所述每次涂布区域涂布的液晶量。
这样一来，通过上述步骤S02，提高了液晶喷墨涂布设备对涂布区域的精细化调整，使对应于涂布不良区域实现定量的补充，有效减小了液晶涂布不良的发生。
需要说明的是，基板上单位面积内的液晶量将直接影响该基板对盒后形成的液晶显示面板的显示效果，而对于具有一定尺寸的基板，其单位面积上的液晶量是由在其上进行涂布的液晶总量决定的。因此，在连续性生产过程中，对于尺寸相同的基板，在其上进行涂布的液晶总量均是相同的，或是几乎相同(总量的偏差在相关性能参数的允许范围内)。
基于此，针对调整后的涂布参数是在所述第二基板上进行多次涂布的情况，在所述第二基板上进行涂布的液晶总量与在所述第一基板上进行涂布的液晶总量相同或几乎相同，从而使得所述第一基板上单位面积内的液晶量与所述第二基板上单位面积内的液晶量相同或几乎相同，即所述第一基板、所述第二基板对盒后形成的液晶显示面板与液晶量有关的各项性能均相同，符合实际生产中，连续性工艺作业的要求。
优选的，在进行上述步骤S02之前，所述涂布参数调整方法还包括：
获取修正量；所述修正量为用于补偿所述涂布不良区域发生所述缺陷的液晶量。
在上述基础上，在进行上述步骤之后，所述步骤S02进一步包括根据所述液晶涂布不良信息以及所述修正量，调整所述液晶喷墨涂布设备进行液晶涂布的涂布参数。
其中，根据所述涂布不良的具体类型，所述调整后的涂布参数可通过例如以下两种方式实现：
方式一：如图3A所示，在所述缺陷类型为液晶欠充的情况下，进行一次液晶涂布时，所述涂布区域的参数为所述第二基板02上需涂布液晶的整个区域(图中及下文中均标记为S总)的参数，所述涂布的液晶量(图中及下文中标记为V′)为所述第二基板02上需涂布的液晶总量(图中及下文中标记为V总)与所述修正量(图中及下文中标记为V修)之差。
进行另一次液晶涂布时，所述涂布区域的参数为所述涂布不良区域(图中及下文中均标记为S缺)的参数，所述涂布的液晶量为所述修正量V修。
需要说明的是，第一、图3A仅以调整后的涂布参数对应于第一次在所述第二基板02上的整个区域涂布V′量的液晶，第二次在所述涂布不良区域S缺涂布V修量的液晶为例进行说明，上述前后顺序不作限定，也可以是调整后的涂布参数对应于第一次在所述第二基板02上的所述涂布不良区域S缺涂布V修量的液晶，第二次在所述第二基板02上的整个区域S总涂布V′量的液晶，只要使得所述第二基板02上最终涂布的液晶总量V总不变即可。
第二、以图3A为例，由于在所述第一基板中检测出的所述涂布不良的类型为液晶欠充的情况，因此，调整后的涂布参数对应于第二次在所述第二基板上的所述涂布不良区域涂布V修量的液晶，从而能够预先性地补充所述第二基板上发生的同样类型的缺陷。
方式二：如图3B所示，在所述缺陷类型为液晶过充的情况下，进行一次液晶涂布时，所述涂布区域的参数为所述第二基板02上需涂布液晶的整个区域S总的参数，所述涂布的液晶量V′为所述第二基板02上需涂布的液晶总量V总与所述修正量V修之差。
进行另一次液晶涂布时，所述涂布区域的参数为其余区域(图中及下文中均标记为S′)的参数，所述涂布的液晶量为所述修正量V修；其中，所述其余区域S′为所述第二基板02上需涂布液晶的整个区域S总中除所述涂布不良区域S缺之外的区域。
优选的，在所述缺陷类型为液晶过充的情况下，所述步骤S02中的调整后的涂布参数具体的，如图3C所示，可包括：所述涂布区域的参数为其余区域S′的参数，所述涂布的液晶量为所述第二基板02上需涂布的液晶总量V总；其中，所述其余区域S′为所述第二基板02上需涂布液晶的整个区域S总中除所述涂布不良区域S缺之外的区域。
需要说明的是，上述这种情况是指，在所述缺陷类型为液晶过充，且在所述第一基板上发生的液晶过充的区域较小的情况时，可以仅在所述第二基板上除所述涂布不良区域之外的区域上涂布V总的液晶量，由于所述第二基板涂布液晶后还需与对盒基板进行成盒形成液晶显示面板，受到液晶的扩散流动，包围所述涂布不良区域周边的液晶会自发地向没有涂布液晶的所述涂布不良区域中扩散，从而保证成盒后的所述第二基板上的所有区域中都涂布有液晶，不会出现液晶欠充的现象。
此外，在上述图3A～图3C中，发生液晶欠充或液晶过充区域的图形仅以矩形为示例，对此不作限定。
在上述基础上，在所述缺陷类型为所述液晶过充的情况下，进行上述步骤S02之前，所述涂布参数调整方法还可以包括以下步骤：
首先、获取修正量；所述修正量为用于补偿所述涂布不良区域发生所述缺陷的液晶量。
其次、将所述修正量与预设阈值进行比较。
这里，所述预设阈值可以是预先设定在所述液晶涂布设备中的发生液晶过充的一个阈值。
进一步的，所述调整后的涂布参数可具体包括：
在所述修正量的数值小于或等于所述预设阈值的情况下，参考图3C所示，根据所述液晶涂布不良信息，调整所述液晶喷墨涂布设备进行液晶涂布的涂布参数。
也就是说，通过比对所述修正量与所述预设阈值的大小关系，当所述修正量小于或等于所述预设阈值时，也就是在所述第一基板上发生液晶过充的区域比较小，此时，可以仅在所述第二基板上除所述涂布不良区域之外的区域上涂布V总的液晶量。
在上述基础上，所述获取修正量的步骤具体包括：
首先、根据所述涂布不良区域的参数，获取所述涂布不良区域的面积。
其次、根据涂布不良区域的比例与所述第二基板上需涂布的液晶总量的乘积获取所述修正量；其中，所述涂布不良区域的比例为所述涂布不良区域的面积占所述第二基板上需涂布液晶的整个区域的面积的比例。
需要说明的是，第一、所述液晶涂布检查设备(如目视检查机)向所述液晶喷墨涂布设备发生的所述涂布不良区域的参数，是指能够界定出所述涂布不良区域在所述第一基板上的方位。
示例的，如图4A或图4B所示，所述液晶涂布检查设备在对涂布有液晶的所述第一基板进行检测时，以所述第一基板的中心点为坐标原点，将所述第一基板划分为X与Y轴，定位出发生液晶欠充或液晶过充区域的中心点O的坐标(x′，y′)，通过计算涂布不良区域的边界分别在X、Y轴方向上的长度a、b，可以获取涂布不良区域在所述第一基板上的大小；或者，以涂布不良区域的中心点O为圆心，通过计算涂布不良区域的近似半径来获取涂布不良区域在所述第一基板上的大小。
所述液晶喷墨涂布设备根据获取的所述涂布不良区域的参数，例如为涂布不良区域的边界分别在X、Y轴方向上的长度a、b，即可计算出在所述第一基板上发生涂布不良区域S缺的面积的数值为a×b。
第二、所述根据涂布不良区域的比例与所述第二基板上需涂布的液晶总量的乘积获取所述修正量；其中，所述涂布不良区域的比例为所述涂布不良区域的面积占所述第二基板上需涂布液晶的整个区域S总的面积的比例，具体地，即通过以下公式得到上述的所述修正量V修：
公式(1)
在上述基础上，如图5所示，当所述液晶喷墨涂布设备调整完参数对所述第二基板完成涂布后，可再次与液晶涂布检查设备相连接，通过所述液晶涂布检查设备对涂布后的所述第二基板进行检测，以验证涂布参数调整的是否合适，若不合适在所述第二基板上仍出现液晶欠充或液晶过充的涂布不良，则所述液晶喷墨涂布设备继续接收所述液晶涂布检查设备发送的涂布不良信息，对在所述第二基板涂布之后的第三基板进行涂布参数的调整。
参考图2-图5所示，本发明实施例提供的上述涂布参数调整方法，可以采用软件实现，也可以采用硬件实现，或采用软件和硬件组合的方式实现，本发明在此不作限定。
在上述基础上，本发明实施例还提供了一种采用上述涂布参数调整方法的液晶喷墨涂布设备10，如图6所示，所述液晶喷墨涂布设备10包括：
接收单元11；所述接收单元11用于接收液晶涂布检查设备20发送的第一基板的液晶涂布不良信息；调整单元12；所述调整单元12用于根据所述液晶涂布不良信息，调整所述液晶喷墨涂布设备10进行液晶涂布的涂布参数，调整后的涂布参数用于在与所述第一基板尺寸相同的第二基板上涂布液晶时，补偿所述涂布不良区域发生的所述缺陷。
需要说明的是，所述接收单元11通过接收液晶涂布检查设备20发送的第一基板的液晶涂布不良信息，实现所述液晶喷墨涂布设备10与所述液晶涂布检查设备20的信息交互。上述的信息交互可以通过有线连接或无线连接的方式实现。
具体的，针对所述液晶喷墨涂布设备10与所述液晶涂布检查设备20的信息交互为有线连接的方式，所述接收单元11可以包括有连接网线、光导纤维的接收端口等结构；针对所述液晶喷墨涂布设备10与所述液晶涂布检查设备20的信息交互为无线连接的方式，所述接收单元11可以包括有接收所述液晶涂布检查设备20发出的无线电信号，如蓝牙、Wi-Fi的接收模块。
考虑到无线连接时存在一定的信号不稳定，影响上述两者的信息交互准确性，因此，较优地采用有线连接的方式实现所述液晶喷墨涂布设备10与所述液晶涂布检查设备20的上述信息交互。
在上述基础上，由于液晶喷墨涂布设备的涂布参数通常包括有液晶量、涂布的区域等参数，因此，优选的，所述液晶涂布不良信息包括：涂布不良区域的参数和所述涂布不良区域的缺陷类型。
与上述的液晶涂布不良信息相对应的，所述调整后的涂布参数包括：在所述第二基板上进行至少一次液晶涂布时，每次涂布区域的参数和在所述每次涂布区域涂布的液晶量。
优选的，如图6所示，所述液晶喷墨涂布设备10还包括：
获取单元，用于获取修正量；所述修正量为用于补偿所述涂布不良区域发生所述缺陷的液晶量。
因此，所述调整单元12，具体用于根据所述液晶涂布不良信息以及所述修正量，调整所述液晶喷墨涂布设备10进行液晶涂布的涂布参数。
具体的，根据所述涂布不良的具体类型，所述调整后的涂布参数可通过例如以下两种方式实现：
方式一：参考图3A所示，在所述缺陷类型为液晶欠充的情况下，进行一次液晶涂布时，所述涂布区域的参数为所述第二基板02上需涂布液晶的整个区域S总的参数，所述涂布的液晶量V′为所述第二基板02上需涂布的液晶总量V总与所述修正量V修之差。
进行另一次液晶涂布时，所述涂布区域的参数为所述涂布不良区域S缺的参数，所述涂布的液晶量为所述修正量。
需要说明的是，所述液晶喷墨涂布设备实现上述的对所述第二基板的多次涂布例如可以通过以下方式实现：通过所述液晶喷墨涂布设备10向进行涂布操作的执行单元(如涂布喷头等结构)发送bit代码，例如以1代表涂布，0代表不涂布，来实现上述的多次涂布区域和涂布量不同的涂布。
方式二：参考图3B所示，在所述缺陷类型为液晶过充的情况下，进行一次液晶涂布时，所述涂布区域的参数为所述第二基板02上需涂布液晶的整个区域S总的参数，所述涂布的液晶量V′为所述第二基板02上需涂布的液晶总量V总与所述修正量V修之差。
进行另一次液晶涂布时，所述涂布区域的参数为其余区域S′的参数，所述涂布的液晶量为所述修正量V修；其中，所述其余区域S′为所述第二基板02上需涂布液晶的整个区域S总中除所述涂布不良区域S缺之外的区域。
方式二：参考图3B所示，在所述缺陷类型为液晶过充的情况下，进行一次液晶涂布时，所述涂布区域的参数为所述第二基板02上需涂布液晶的整个区域S总的参数，所述涂布的液晶量V′为所述第二基板02上需涂布的液晶总量V总与所述修正量V修之差。
进行另一次液晶涂布时，所述涂布区域的参数为其余区域S′的参数，所述涂布的液晶量为所述修正量V修；其中，所述其余区域S′为所述第二基板02上需涂布液晶的整个区域S总中除所述涂布不良区域S缺之外的区域。
在上述基础上，在所述缺陷类型为所述液晶过充的情况下，参考图3C所示，所述调整后的涂布参数包括：所述涂布区域的参数为其余区域S′的参数，所述涂布的液晶量为所述第二基板02上需涂布的液晶总量V总；其中，所述其余区域S′为所述第二基板02上需涂布液晶的整个区域S总中除所述涂布不良区域S缺之外的区域。
在上述的所述缺陷类型为液晶过充的情况下，所述液晶喷墨涂布设备10还包括：
获取单元，用于获取修正量；所述修正量为用于补偿所述涂布不良区域发生所述缺陷的液晶量。
比较单元，用于将所述修正量与预设阈值进行比较。
这里，所述预设阈值可以是预先设定在所述液晶涂布设备中的发生液晶过充的一个阈值。
在此基础上，参考图3C所示，所述调整单元12，具体用于在所述修正量的数值小于或等于所述预设阈值的情况下，根据所述液晶涂布不良信息，调整所述液晶喷墨涂布设备10进行液晶涂布的涂布参数。
也就是说，通过比对所述修正量与所述预设阈值的大小关系，当所述修正量小于或等于所述预设阈值时，也就是在所述第一基板上发生液晶过充的区域比较小，此时，可以仅在所述第二基板上除所述涂布不良区域之外的区域上涂布V总的液晶量。
在上述基础上，所述获取单元具体包括：
计算模块，用于根据所述涂布不良区域的参数，获取所述涂布不艮区域的面积。
这里，所述计算模块根据获取的所述涂布不良区域的参数，例如为涂布不良区域的边界分别在X、Y轴方向上的长度a、b，即可计算出在所述第一基板上发生涂布不良区域的面积的数值S缺为a×b。
换算模块，用于根据涂布不良区域的比例与所述第二基板上需涂布的液晶总量的乘积获取所述修正量；其中，所述涂布不良区域的比例为所述涂布不良区域的面积占所述第二基板上需涂布液晶的整个区域的面积的比例，即通过上述公式(1)可计算出所述修正量的数值。
在上述基础上，本发明实施例还提供了一种液晶涂布与检查系统01，如图7所示，所述液晶涂布与检查系统01包括：液晶涂布检查设备20以及上述的参考图6所示的液晶喷墨涂布设备10。
其中，所述液晶涂布检查设备20用于在所述液晶喷墨涂布设备在第一基板上涂布液晶之后，获取所述第一基板上的液晶涂布不良信息，并向所述液晶喷墨涂布设备10发送所述液晶涂布不良信息。
进一步的，所述液晶涂布不良信息包括：涂布不良区域的参数和所述涂布不良区域的缺陷类型。
在上述基础上，参考图7所示，所述液晶涂布检查设备20具体包括：
检查单元21；所述检查单元21用于在所述液晶喷墨涂布设备10在第一基板上涂布液晶之后，对所述第一基板进行检查，获取所述涂布不良区域的缺陷类型。
定位单元22；所述定位单元22用于获取所述涂布不良区域的参数。
发送单元23；所述发送单元23用于向所述液晶喷墨涂布设备10发送所述第一基板的液晶涂布不良信息。
通过上述的液晶涂布与检查系统01，通过所述液晶喷墨涂布设备10与所述液晶涂布检查设备20的信息交互，使得所述液晶喷墨涂布设备10能够根据接收到所述液晶涂布不良信息，及时地调整所述液晶喷墨涂布设备进行下一次液晶涂布的涂布参数，避免后续的基板再出现相同的涂布不良缺陷，从而降低了对盒后的液晶显示面板出现连续性的液晶涂布不良，提高产品良率，降低生产成本。
需要说明的是，本发明所有附图是上述液晶喷墨涂布设备及其涂布参数调整方法的简略的示意图，只为清楚描述本方案体现了与发明点相关的结构，对于其他的与发明点无关的结构是现有结构，在附图中并未体现或只体现部分。
以上所述，仅为本发明的具体实施方式，但本发明的保护范围并不局限于此，任何熟悉本技术领域的技术人员在本发明揭露的技术范围内，可轻易想到变化或替换，都应涵盖在本发明的保护范围之内。因此，本发明的保护范围应以所述权利要求的保护范围为准。

Claims (8)

1.一种液晶喷墨涂布设备的涂布参数调整方法，其特征在于，所述方法包括：
在液晶喷墨涂布设备在第一基板上涂布液晶之后，接收液晶涂布检查设备发送的所述第一基板的液晶涂布不良信息；所述液晶涂布不良信息包括：涂布不良区域的参数和所述涂布不良区域的缺陷类型；
根据所述液晶涂布不良信息，调整所述液晶喷墨涂布设备进行液晶涂布的涂布参数，调整后的涂布参数用于在与所述第一基板尺寸相同的第二基板上涂布液晶时，补偿涂布不良区域发生的缺陷；所述调整后的涂布参数包括：在所述第二基板上进行至少一次液晶涂布时，每次涂布区域的参数和在所述每次涂布区域涂布的液晶量；
其中，
在所述缺陷类型为液晶过充的情况下，所述调整后的涂布参数包括：所述涂布区域的参数为其余区域的参数，所述涂布的液晶量为所述第二基板上需涂布的液晶总量；所述其余区域为所述第二基板上需涂布液晶的整个区域中除所述涂布不良区域之外的区域；
或者，
在所述根据所述液晶涂布不良信息，调整所述液晶喷墨涂布设备进行液晶涂布的涂布参数之前，所述方法还包括：
获取修正量；所述修正量为用于补偿所述涂布不良区域发生所述缺陷的液晶量；
所述根据所述液晶涂布不良信息，调整所述液晶喷墨涂布设备进行液晶涂布的涂布参数，具体包括：根据所述液晶涂布不良信息以及所述修正量，调整所述液晶喷墨涂布设备进行液晶涂布的涂布参数；
所述调整后的涂布参数包括：
进行一次液晶涂布时，所述涂布区域的参数为所述第二基板上需涂布液晶的整个区域的参数，所述涂布的液晶量为所述第二基板上需涂布的液晶总量与所述修正量之差；进行另一次液晶涂布时，在所述缺陷类型为液晶欠充的情况下，所述涂布区域的参数为所述涂布不良区域的参数，所述涂布的液晶量为所述修正量；或者，在所述缺陷类型为液晶过充的情况下，所述涂布区域的参数为其余区域的参数，所述涂布的液晶量为所述修正量；其中，所述其余区域为所述第二基板上需涂布液晶的整个区域中除所述涂布不良区域之外的区域。
2.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，在所述缺陷类型为所述液晶过充的情况下，在所述根据所述液晶涂布不良信息，调整所述液晶喷墨涂布设备进行液晶涂布的涂布参数之前，所述方法还包括：
获取修正量；所述修正量为用于补偿所述涂布不良区域发生所述缺陷的液晶量；
将所述修正量与预设阈值进行比较；
所述根据所述液晶涂布不良信息，调整所述液晶喷墨涂布设备进行液晶涂布的涂布参数，具体包括：
在所述修正量的数值小于或等于所述预设阈值的情况下，根据所述液晶涂布不良信息，调整所述液晶喷墨涂布设备进行液晶涂布的涂布参数。
3.根据权利要求1或2所述的方法，其特征在于，所述获取修正量包括：
根据所述涂布不良区域的参数，获取所述涂布不良区域的面积；
根据涂布不良区域的比例与所述第二基板上需涂布的液晶总量的乘积获取所述修正量；其中，所述涂布不良区域的比例为所述涂布不良区域的面积占所述第二基板上需涂布液晶的整个区域的面积的比例。
4.一种液晶喷墨涂布设备，其特征在于，所述设备包括：
接收单元；所述接收单元用于接收液晶涂布检查设备发送的第一基板的液晶涂布不良信息；所述液晶涂布不良信息包括：涂布不良区域的参数和所述涂布不良区域的缺陷类型；
调整单元；所述调整单元用于根据所述液晶涂布不良信息，调整所述液晶喷墨涂布设备进行液晶涂布的涂布参数，调整后的涂布参数用于在与所述第一基板尺寸相同的第二基板上涂布液晶时，补偿涂布不良区域发生的缺陷；所述调整后的涂布参数包括：在所述第二基板上进行至少一次液晶涂布时，每次涂布区域的参数和在所述每次涂布区域涂布的液晶量；
获取单元，用于获取修正量；所述修正量为用于补偿所述涂布不良区域发生所述缺陷的液晶量；所述调整单元，具体用于根据所述液晶涂布不良信息以及所述修正量，调整所述液晶喷墨涂布设备进行液晶涂布的涂布参数；
其中，
在所述缺陷类型为液晶过充的情况下，所述调整后的涂布参数包括：所述涂布区域的参数为其余区域的参数，所述涂布的液晶量为所述第二基板上需涂布的液晶总量；其中，所述其余区域为所述第二基板上需涂布液晶的整个区域中除所述涂布不良区域之外的区域；
或者，
所述调整后的涂布参数包括：
进行一次液晶涂布时，所述涂布的区域参数为所述第二基板上需涂布液晶的整个区域的参数，所述涂布的液晶量为所述第二基板上需涂布的液晶总量与所述修正量之差；
进行另一次液晶涂布时，在所述缺陷类型为液晶欠充的情况下，所述涂布的区域参数为所述涂布不良区域的参数，所述涂布的液晶量为所述修正量；或者，在所述缺陷类型为液晶过充的情况下，所述涂布区域的参数为其余区域的参数，所述涂布的液晶量为所述修正量；其中，所述其余区域为所述第二基板上需涂布液晶的整个区域中除所述涂布不良区域之外的区域。
5.根据权利要求4所述的设备，其特征在于，在所述缺陷类型为液晶过充的情况下，所述设备还包括：
获取单元，用于获取修正量；所述修正量为用于补偿所述涂布不良区域发生所述缺陷的液晶量；
比较单元，用于将所述修正量与预设阈值进行比较；
所述调整单元，具体用于在所述修正量的数值小于或等于所述预设阈值的情况下，根据所述液晶涂布不良信息，调整所述液晶喷墨涂布设备进行液晶涂布的涂布参数。
6.根据权利要求4或5所述的设备，其特征在于，所述获取单元具体包括：
计算模块，用于根据所述涂布不良区域的参数，获取所述涂布不良区域的面积；
换算模块，用于根据涂布不良区域的比例与所述第二基板上需涂布的液晶总量的乘积获取所述修正量；其中，所述涂布不良区域的比例为所述涂布不良区域的面积占所述第二基板上需涂布液晶的整个区域的面积的比例。
7.一种液晶涂布与检查系统，其特征在于，所述系统包括：液晶涂布检查设备以及如权利要求4至6任一项所述的液晶喷墨涂布设备；
其中，所述液晶涂布检查设备用于在所述液晶喷墨涂布设备在第一基板上涂布液晶之后，获取所述第一基板上的液晶涂布不良信息，并向所述液晶喷墨涂布设备发送所述液晶涂布不良信息；所述液晶涂布不良信息包括：涂布不良区域的参数和所述涂布不良区域的缺陷类型。
8.根据权利要求7所述的系统，其特征在于，所述液晶涂布检查设备具体包括：
检查单元；所述检查单元用于在所述液晶喷墨涂布设备在第一基板上涂布液晶之后，对所述第一基板进行检查，获取所述涂布不良区域的缺陷类型；
定位单元；所述定位单元用于获取所述涂布不良区域的参数；
发送单元；所述发送单元用于向所述液晶喷墨涂布设备发送所述第一基板的液晶涂布不良信息。
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