CN104298080B - 一种无掩膜激光直写叠加曝光方法 - Google Patents
一种无掩膜激光直写叠加曝光方法 Download PDFInfo
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Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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CN201410621284.6A CN104298080B (zh) | 2014-11-06 | 2014-11-06 | 一种无掩膜激光直写叠加曝光方法 |
Applications Claiming Priority (1)
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CN201410621284.6A CN104298080B (zh) | 2014-11-06 | 2014-11-06 | 一种无掩膜激光直写叠加曝光方法 |
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Publication Number | Publication Date |
---|---|
CN104298080A CN104298080A (zh) | 2015-01-21 |
CN104298080B true CN104298080B (zh) | 2016-08-31 |
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ID=52317866
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Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
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CN201410621284.6A Active CN104298080B (zh) | 2014-11-06 | 2014-11-06 | 一种无掩膜激光直写叠加曝光方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
CN (1) | CN104298080B (zh) |
Families Citing this family (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP7023601B2 (ja) * | 2016-11-14 | 2022-02-22 | 株式会社アドテックエンジニアリング | ダイレクトイメージング露光装置及びダイレクトイメージング露光方法 |
CN106842826B (zh) * | 2017-03-27 | 2018-08-28 | 上海华力微电子有限公司 | 一种大尺寸拼接产品曝光方法 |
CN108681213B (zh) * | 2018-05-14 | 2020-01-31 | 中山新诺科技股份有限公司 | 数字化光刻系统和方法 |
CN108648166A (zh) * | 2018-06-06 | 2018-10-12 | 中山新诺科技股份有限公司 | 曝光图形处理的方法和系统 |
CN108873620B (zh) * | 2018-07-25 | 2020-09-25 | 江苏影速集成电路装备股份有限公司 | 一种直写式光刻机中改善能量均匀性的方法 |
NO20190617A1 (en) * | 2019-05-16 | 2020-11-17 | Visitech As | System and method for exposing a material with images |
CN113296364B (zh) * | 2020-02-24 | 2022-07-26 | 苏州苏大维格科技集团股份有限公司 | 光刻控制方法、装置及存储介质 |
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2014
- 2014-11-06 CN CN201410621284.6A patent/CN104298080B/zh active Active
Patent Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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Publication number | Publication date |
---|---|
CN104298080A (zh) | 2015-01-21 |
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C06 | Publication | ||
PB01 | Publication | ||
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