CN104210871A - 收卷轴压板 - Google Patents

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许建红
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Abstract

本发明公开了一种收卷轴压板，包括本体，本体下底面中间位置开设有凹槽，凹槽内设有通过螺钉固定在本体上的压块，压块下底面开设有和简易薄膜分切机墙板上第一弧形凹槽相对的第二弧形凹槽，第二弧形凹槽和收卷轴相配，本体一端开设有用于和简易薄膜分切机墙板铰接的水平通孔，本体另一端开设有用于通过螺栓将本体固定在简易薄膜分切机墙板上的竖向通孔。

Description

收卷轴压板
技术领域
本发明涉及一种收卷轴压板。
背景技术
一种简易薄膜分切机包括机架和收卷轴，该机架包括一对相对设置的墙板，收卷轴两端分别安装在两墙板上开设的与收卷轴相配的第一弧形凹槽内由驱动装置驱动，第一弧形凹槽上方设有将收卷轴压向弧形凹槽的压板，压板上开设有与第一弧形凹槽相对的第二弧形凹槽，第二弧形凹槽和收卷轴相配，长时间工作后，第二弧形凹槽磨损严重，修复工作量大，造成收卷轴工作时径向跳动大，影响到薄膜的收卷质量。
发明内容
本发明要解决的技术问题是：克服现有技术中之不足，提供一种便于维修的收卷轴压板。
本发明解决其技术问题所采用的技术方案是：一种收卷轴压板，包括本体，本体下底面中间位置开设有凹槽，凹槽内设有通过螺钉固定在本体上的压块，压块下底面开设有和简易薄膜分切机墙板上第一弧形凹槽相对的第二弧形凹槽，第二弧形凹槽和收卷轴相配，本体一端开设有用于和简易薄膜分切机墙板铰接的水平通孔，本体另一端开设有用于通过螺栓将本体固定在简易薄膜分切机墙板上的竖向通孔。
本发明的有益效果是：本发明设有可更换的压块，当压块的弧形凹槽磨损时，通过更换压块即可解决问题。
附图说明
下面结合附图和实施方式对本发明进一步说明。
图1是本发明的结构示意图。
图中：1.水平通孔；2.压块；3.第二弧形凹槽；4.竖向通孔。
具体实施方式
现在结合附图对本发明作进一步的说明。这些附图均为简化的示意图，仅以示意方式说明本发明的基本结构，因此其仅显示与本发明有关的构成。
如图1所示的一种收卷轴压板，包括本体，本体下底面中间位置开设有凹槽，凹槽内设有通过螺钉固定在本体上的压块2，压块2下底面开设有和简易薄膜分切机墙板上第一弧形凹槽相对的第二弧形凹槽3，第二弧形凹槽3和收卷轴相配，本体一端开设有用于和简易薄膜分切机墙板铰接的水平通孔1，本体另一端开设有用于通过螺栓将本体固定在简易薄膜分切机墙板上的竖向通孔4。
上述实施方式只为说明本发明的技术构思及特点，其目的在于让熟悉此项技术的人士能够了解本发明的内容并加以实施，并不能以此限制本发明的保护范围，凡根据本发明精神实质所作的等效变化或修饰，都应涵盖在本发明的保护范围内。

Claims (1)

1.一种收卷轴压板，其特征是：包括本体，本体下底面中间位置开设有凹槽，凹槽内设有通过螺钉固定在本体上的压块，压块下底面开设有和简易薄膜分切机墙板上第一弧形凹槽相对的第二弧形凹槽，第二弧形凹槽和收卷轴相配，本体一端开设有用于和简易薄膜分切机墙板铰接的水平通孔，本体另一端开设有用于通过螺栓将本体固定在简易薄膜分切机墙板上的竖向通孔。
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Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP0611715B1 (fr) * 1993-02-09 1998-05-20 ETS. CHRISTIAN GUTTIN Sarl Palier destiné à porter l'une des extrémités d'une barre enrouleuse, en vue de l'enroulement ou du déroulement de nappes de matériaux
US20040200922A1 (en) * 2003-04-09 2004-10-14 Kabushiki Kaisha Tokyo Kikai Seisakusho Paper roll supporting device
CN202016763U (zh) * 2011-02-15 2011-10-26 江苏立富电极箔有限公司 改进的收箔轴机构
CN202030348U (zh) * 2011-04-21 2011-11-09 佛冈建滔实业有限公司 气胀轴安全卡座
CN202558311U (zh) * 2012-05-28 2012-11-28 温州国伟印刷机械有限公司 套筒式收放料装置

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PB01 Publication
C10 Entry into substantive examination
SE01 Entry into force of request for substantive examination
C02 Deemed withdrawal of patent application after publication (patent law 2001)
WD01 Invention patent application deemed withdrawn after publication

Application publication date: 20141217