CN104210169A - 硅基单银可钢化低辐射镀膜玻璃 - Google Patents

Abstract

本发明是关于一种硅基单银可钢化低辐射镀膜玻璃,其包括玻璃基片和镀膜层，镀膜层设置于玻璃基片的表面，且镀膜层从底层向上依次包括：氮化硅膜层、镍铬膜层、银膜层、镍铬膜层、氧化锡膜层、氮化硅膜层。本发明的硅基单银可钢化低辐射镀膜玻璃可见光透过率为50％，具有生产成本低、耐磨性能好、耐高温、不褪色、玻璃面反射色中性的优点。

Description

硅基单银可钢化低辐射镀膜玻璃

技术领域

本发明是有关于一种镀膜玻璃，尤其是关于一种含有用氮化硅薄膜作为附着层的硅基单银可钢化低辐射镀膜玻璃。

背景技术

低辐射镀膜玻璃是指在浮法玻璃表面沉积一层金属银作为功能层，对太阳光中的近红外线和生活环境中的远红外线起反射作用，从而降低玻璃对红外线的吸收和辐射率，所以称之为低辐射镀膜玻璃。此种玻璃既可用于家庭窗户，也可用于商店、写字楼和高档宾馆的玻璃幕墙及其它需要的场所。夏天它可以有效阻止太阳光中的近红外线进入室内，避免室内温度升高，节约空调费用；冬天它可阻止室内暖气等产生的远红外线逸出室外，保持室内温度，节约取暖费用。

现在市场上已经有很多低辐射镀膜玻璃，有单银低辐射镀膜玻璃，也有双银和三银低辐射镀膜玻璃。所用的薄膜材料除功能层用金属银之外，附着层材料有采用氧化锡、氧化钛、氧化锌等。氮化硅材料结构与玻璃材料结构相近，其薄膜更易于和玻璃结合，其薄膜光学折射率高，玻璃面反射颜色选择性好、靶材成本低廉。用氮化硅作为附着层材料是行业发展趋势。

由此可见，上述现有的低辐射镀膜玻璃在结构与使用上，显然仍存在有不便与缺陷，而亟待加以进一步改进。为了解决上述存在的问题，相关厂商莫不费尽心思来谋求解决之道，但长久以来一直未见适用的设计被发展完成，而一般产品又没有适切结构能够解决上述问题，此显然是相关业者急欲解决的问题。

发明内容

本发明的目的在于提供一种以氮化硅薄膜作为附着层的硅基单银可钢化低辐射镀膜玻璃，其可见光透过率为50％，具有生产成本低、耐磨性能好、耐高温的特点。

本发明的目的是采用以下技术方案来实现的。本发明提出一种硅基单银可钢化低辐射镀膜玻璃,其包括玻璃基片和镀膜层，镀膜层设置于玻璃基片表面，且镀膜层从底层向上依次包括：氮化硅膜层、镍铬膜层、银膜层、镍铬膜层、氧化锡膜层、氮化硅膜层。

本发明的目的还可采用以下技术措施进一步实现。

较佳的，前述的硅基单银可钢化低辐射镀膜玻璃,其中所述的氮化硅膜层的厚度为20～40纳米；所述的镍铬膜层的厚度为3～6纳米；所述的银膜层的厚度为8～12纳米；所述的氧化锡膜层的厚度为20～40纳米。

借由上述技术方案，本发明硅基单银可钢化低辐射镀膜玻璃至少具有下列优点及有益效果：本发明的硅基单银可钢化低辐射镀膜玻璃可见光透过率为50％，具有生产成本低、耐磨性能好、耐高温、不褪色、玻璃面反射色中性的优点。

上述说明仅是本发明技术方案的概述，为了能够+更清楚了解本发明的技术手段，而可依照说明书的内容予以实施，并且为了让本发明的上述和其他目的、特征和优点能够更明显易懂，以下特举较佳实施例，并配合附图,详细说明如下。

附图说明

图1是本发明的硅基单银可钢化低辐射镀膜玻璃的结构示意图。

【主要元件符号说明】

1：玻璃基片                          2：镀膜层

21：氮化硅膜层                       22：镍铬膜层

23：银膜层                           24：镍铬膜层

25：氧化锡膜层                       26：氮化硅膜层

具体实施方式

为更进一步阐述本发明为达成预定发明目的所采取的技术手段及功效,以下结合附图及较佳实施例，对依据本发明提出的一种硅基单银可钢化低辐射镀膜玻璃的具体实施方式、结构、特征及其功效，详细说明如后。

请参阅图1，为本发明的结构示意图，本发明的硅基单银可钢化低辐射镀膜玻璃包括：玻璃基板1和镀膜层2，镀膜层2设置于玻璃基片1的表面，且镀膜层2从底层向上依次包括：氮化硅膜层21、镍铬膜层22、银膜层23、镍铬膜层24、氧化锡膜层25、氮化硅膜层26，从而构成六层膜结构的硅基单银可钢化低辐射镀膜玻璃。

本发明是在高真空环境下，用磁控溅射镀膜机在浮法玻璃表面上镀制六层纳米材料膜的方法，生产一种具有低辐射率、高透光性、包含有一个银层的硅基低辐射镀膜玻璃。

本发明的硅基单银可钢化低辐射镀膜玻璃是在工厂镀膜机上按如下方法完成：首先镀膜室抽真空至本底真空度5×10^﹣4Pa以下，充入工艺气体(氩气、氮气、氧气)，使镀膜室内工艺气体压力稳定在2.5×10^﹣1Pa左右，接通溅射电源，靶材开始溅射，玻璃经清洗机清洗合格后进入真空室，经过靶材时，靶材原子或其化合物就会沉积到玻璃基片1的表面。第一个靶靶材为硅，工艺气体为氮气，将氮化硅膜层21沉积到玻璃基片1的表面成为第一层膜，厚度20至40纳米；第二个靶靶材为镍铬合金，工艺气体为氩气，将镍铬膜层22沉积到氮化硅膜层21表面成为第二层膜，厚度3至6纳米；第三个靶靶材为金属银，工艺气体为氩气，将银膜层23沉积到镍铬膜层22的表面成为第三层膜，厚度8至12纳米；第四个靶靶材为镍铬合金，工艺气体为氩气，将镍铬膜层24沉积到银膜层23表面成为第四层膜，厚度3至6纳米；第五个靶靶材为金属锡，工艺气体为氩气，将氧化锡膜层25沉积到镍铬膜层24表面成为第五层膜，厚度20至40纳米；第六个靶靶材为氮化硅，工艺气体为氩气，将氮化硅膜层26沉积到氧化锡膜层25的表面成为第六层膜，厚度20至40纳米。

第一层氮化硅膜层21会增加膜与玻璃基片1的结合力，起到减反射、调节玻璃面反射色的作用，第三层银膜层23主要起降低玻璃辐射率的作用，第二层镍铬膜层22和第四层镍铬膜层24起到钢化过程中保护银膜层23的作用，第五层氧化锡膜层25和第六层氮化硅膜层26起到保护银膜层23不被大气氧化的作用。

以上所述，仅是本发明的较佳实施例而已，并非对本发明作任何形式上的限制，虽然本发明已以较佳实施例揭露如上，然而并非用以限定本发明,任何熟悉本专业的技术人员，在不脱离本发明技术方案范围内,当可利用上述揭示的技术内容作出些许更动或修饰为等同变化的等效实施例,但凡是未脱离本发明技术方案的内容，依据本发明的技术实质对以上实施例所作的任何简单修改、等同变化与修饰，均仍属于本发明技术方案的范围内。

Claims (2)

1.一种硅基单银可钢化低辐射镀膜玻璃,其特征在于，包括玻璃基片(1)和镀膜层(2)，镀膜层(2)设置于玻璃基片(1)的表面，且镀膜层(2)从底层向上依次包括：氮化硅膜层(21)、镍铬膜层(22)、银膜层(23)、镍铬膜层(24)、氧化锡膜层(25)、氮化硅膜层(26)。

2.根据权利要求1所述的硅基单银可钢化低辐射镀膜玻璃,其特征在于，所述的氮化硅膜层(21)的厚度为20～40纳米；所述的镍铬膜层(22)的厚度为3～6纳米；所述的银膜层(23)的厚度为8～12纳米；所述的镍铬膜层(24)的厚度为3～6纳米；所述的氧化锡膜层(25)的厚度为20～40纳米；所述的氮化硅膜层(26)的厚度为20～40纳米。