CN104191345A - 抛光工艺 - Google Patents

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    • B24B1/00—Processes of grinding or polishing; Use of auxiliary equipment in connection with such processes
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
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    • B24B31/00—Machines or devices designed for polishing or abrading surfaces on work by means of tumbling apparatus or other apparatus in which the work and/or the abrasive material is loose; Accessories therefor
    • B24B31/06—Machines or devices designed for polishing or abrading surfaces on work by means of tumbling apparatus or other apparatus in which the work and/or the abrasive material is loose; Accessories therefor involving oscillating or vibrating containers

Abstract

本发明是关于一种抛光工艺，涉及玉器抛光领域，主要目的在于解决现有技术中的待抛光件在抛光过程中表面附着有淤泥导致抛光效果较差的技术问题。主要采用的技术方案为：抛光工艺，包括以下步骤：在抛光机内加入待抛光件和金刚砂，对待抛光件第一次密封抛光；向抛光机内加入第一次抛光后的待抛光件、金刚砂以及低泡洗衣粉，对待抛光件第二次密封抛光；向抛光机内加入第二次抛光后的待抛光件、金刚砂以及低泡洗衣粉，对待抛光件第三次密封抛光；向抛光机内加入第三次抛光后的待抛光件、金刚砂以及低泡洗衣粉，对待抛光件第四次密封抛光；向抛光机内加入第四次抛光后的待抛光件、抛光粉以及低泡洗衣粉，对待抛光件精抛光。

Description

抛光工艺
技术领域
本发明涉及玉器抛光技术领域，特别是涉及一种抛光工艺。
背景技术
玉石分为硬玉和软玉，硬度在5.0以下为软玉，5.0以上为硬玉，金丝玉的硬度在6.8，抛光过程中费时长，湿度温度要求高。因为硬度高的玉石工艺品必须达到镜面效果，才能展现玉石的通透性和美感，三分雕七分抛，可见抛光的重要性，所以抛光技术的提高，极大提高了玉石的自然之美，提升了玉石的附加值。
新疆金丝玉在过去的抛光工艺流程中，玉雕的抛光总是达不到完全镜面效果。其中，金丝玉的抛光有多道工序，每道工序研磨时间平均长达14小时左右，在每道工序长时间研磨过程中，金刚砂、研磨石以及玉件之间总会产生淤泥，并附着在玉石表面，使金刚砂、研磨石不能保持与玉件表面的接触和磨砂，从而达不到预期的效果。
发明内容
有鉴于此，本发明提供一种抛光工艺，主要目的在于解决现有技术中的待抛光件在抛光过程中表面附着有淤泥导致抛光效果较差的技术问题。
为达到上述目的，本发明主要提供如下技术方案：
本发明的实施例提供一种抛光工艺，包括以下步骤：
(1)在振动抛光机内加入研磨石和待抛光件，向振动抛光机内加入110#～130#金刚砂70克～90克，加入190ml～210ml水，对待抛光件进行第一次密封抛光1～3小时；
(2)将第一次密封抛光后的待抛光件进行清洗，将清洗后的待抛光件放入振动抛光机内，向振动抛光机内加入研磨石、390#～410#金刚砂50克～70克、2.8克～3.2克低泡洗衣粉以及190ml～210ml水，对待抛光件第二次密封抛光11～13小时；
(3)将第二次密封抛光后的待抛光件进行清洗，将清洗后的待抛光件放入振动抛光机内，向振动抛光机内加入研磨石、990#～1100#金刚砂90克～110克、3.8克～4.2克低泡洗衣粉以及190ml～210ml水，对待抛光件第三次密封抛光13～15小时；
(4)将第三次密封抛光后的待抛光件进行清洗，将清洗后的待抛光件放入振动抛光机内，向振动抛光机内加入研磨石、293#～313#金刚砂30克～50克、3.8克～4.2克低泡洗衣粉以及190ml～210ml水，对待抛光件第四次密封抛光14～16小时；
(5)将第四次密封抛光后的待抛光件进行清洗，将清洗后的待抛光件放入振动抛光机内，向振动抛光机内加入研磨石、抛光粉、2.8克～3.2克低泡洗衣粉以及190ml～210ml水，对待抛光件精抛光。
本发明的目的及解决其技术问题还可采用以下技术措施进一步实现。
前述的抛光工艺，所述研磨石为树脂石、棕刚玉、高铝瓷石、陶瓷石、钢珠和钢针中的一种或任意多种的组合。
前述的抛光工艺，所述待抛光件通过水或者超声波进行清洗。
前述的抛光工艺，所述研磨石的硬度比所述待抛光件的硬度要高。
前述的抛光工艺，所述待抛光件为玉件。
前述的抛光工艺，所述玉件为金丝玉。
前述的抛光工艺，所述待抛光件为金丝玉。
借由上述技术方案，本发明抛光工艺至少具有下列优点：
因为在待抛光件的抛光工艺中加入了低泡洗衣粉，低泡洗衣粉具有较好的洗涤去污效果，待抛光件在抛光过程中，在低泡洗衣粉的作用下，附着在待抛光件表面的淤泥快速脱落，使金刚砂、研磨石能保持和待抛光件表面正常研磨，从而提高了待抛光件的抛光效果。
上述说明仅是本发明技术方案的概述，为了能够更清楚了解本发明的技术手段，并可依照说明书的内容予以实施，以下以本发明的较佳实施例并配合附图详细说明如后。
附图说明
图1是本发明的实施例提供的一种抛光工艺的工艺框图。
具体实施方式
为更进一步阐述本发明为达成预定发明目的所采取的技术手段及功效,以下结合附图及较佳实施例，对依据本发明申请的具体实施方式、结构、特征及其功效，详细说明如后。在下述说明中，不同的“一实施例”或“实施例”指的不一定是同一实施例。此外，一或多个实施例中的特定特征、结构、或特点可由任何合适形式组合。
如图1所示，本发明的一个实施例提出的一种抛光工艺，包括以下步骤：
(1)在振动抛光机内加入研磨石和待抛光件，向振动抛光机内加入120#金刚砂80克，加入200ml水，对待抛光件进行第一次密封抛光2小时；
(2)将第一次密封抛光后的待抛光件进行清洗，将清洗后的待抛光件放入振动抛光机内，向振动抛光机内加入研磨石、400#金刚砂60克、3克低泡洗衣粉以及200ml水，对待抛光件第二次密封抛光12小时；
(3)将第二次密封抛光后的待抛光件进行清洗，将清洗后的待抛光件放入振动抛光机内，向振动抛光机内加入研磨石、1000#金刚砂100克、4克低泡洗衣粉以及200ml水，对待抛光件第三次密封抛光14小时；
(4)将第三次密封抛光后的待抛光件进行清洗，将清洗后的待抛光件放入振动抛光机内，向振动抛光机内加入研磨石、303#金刚砂40克、4克低泡洗衣粉以及200ml水，对待抛光件第四次密封抛光15小时；
(5)将第四次密封抛光后的待抛光件进行清洗，将清洗后的待抛光件放入振动抛光机内，向振动抛光机内加入研磨石、抛光粉、3克低泡洗衣粉以及200ml水，对待抛光件精抛光，使待抛光件表面达到镜面效果。
其中，由于低泡洗衣粉中的非离子表面活性剂悬浮作用和生物酶素的抗污能力，在抛光工序中加入低泡洗衣粉，可使玉石在抛光过程中，附着在玉石表面的淤泥快速脱落，使金刚砂、研磨石能保持和待抛光件表面正常研磨，从而提高了待抛光件的抛光效果。在本实施例中，待抛光件可以达到镜面的抛光效果。
进一步的，在步骤(1)中，金刚砂还可以为110#、115#、125#、130#或110#～130#之间的其它数值，金刚砂的重量可以为70克、75克、85克、90克或70克～90克之间的其它数值，这样也可以满足对金刚砂粗细和重量的要求。其中，对待抛光件密封抛光还可以为1小时、1.5小时、2.5小时、3小时或1～3小时之间其它的数值，这样也可以满足在步骤(1)中对待抛光件抛光的时间要求。其中，具体的数值可以根据用户的实际需求设置。
进一步的，在步骤(2)中，金刚砂还可以为390#、395#、405#、410#或390#～410#之间的其它数值，金刚砂的重量可以为50克、55克、65克、70克或50克～70克之间的其它数值，这样也可以满足对金刚砂粗细和重量的要求。低泡洗衣粉还可以为2.8克、2.9克、3.1克、3.2克或2.8克～3.2克之间其它的数值，这样也能够达到去除待抛光件表面淤泥的技术效果。其中，对待抛光件密封抛光还可以为11小时、11.5小时、12.5小时、13小时或11～13小时之间其它的数值，这样也可以满足在步骤(2)中对待抛光件抛光的时间要求。其中，具体的数值可以根据用户的实际需求设置。
进一步的，在步骤(3)中，金刚砂还可以为990#、995#、1005#、1010#或990#～1100#之间的其它数值，金刚砂的重量可以为90克、95克、105克、110克或90克～110克之间的其它数值，这样也可以满足对金刚砂粗细和重量的要求。低泡洗衣粉还可以为3.8克、3.9克、4.1克、4.2克或3.8克～4.2克之间其它的数值，这样也能够达到去除待抛光件表面淤泥的技术效果。其中，对待抛光件密封抛光还可以为13小时、13.5小时、14.5小时、15小时或13～15小时之间其它的数值，这样也可以满足在步骤(3)中对待抛光件抛光的时间要求。其中，具体的数值可以根据用户的实际需求设置。
进一步的，在步骤(4)中，金刚砂还可以为293#、298#、308#、313#或293#～313#之间的其它数值，金刚砂的重量可以为30克、35克、45克、50克或30克～50克之间的其它数值，这样也可以满足对金刚砂粗细和重量的要求。低泡洗衣粉还可以为3.8克、3.9克、4.1克、4.2克或3.8克～4.2克之间其它的数值，这样也能够达到去除待抛光件表面淤泥的技术效果。其中，对待抛光件密封抛光还可以为14小时、14.5小时、15.5小时、16小时或14～16小时之间其它的数值，这样也可以满足在步骤(4)中对待抛光件抛光的时间要求。其中，具体的数值可以根据用户的实际需求设置。
进一步的，在步骤(5)中，低泡洗衣粉还可以为2.8克、2.9克、3.1克、3.2克或2.8克～3.2克之间其它的数值，这样也能够达到去除待抛光件表面淤泥的技术效果。其中，具体的数值可以根据用户的实际需求设置。
进一步的，在步骤(1)至步骤(5)中的任一道工序中，水的含量还可以为190ml、195ml、205ml、210ml或190ml～210ml之间的其它数值，这样也能够满足在抛光过程中对水的需求。其中，具体的数值可以根据用户的实际需求设置。
进一步的，上述的研磨石为树脂石、棕刚玉、高铝瓷石、陶瓷石、钢珠和钢针中的一种或任意多种的组合。其中，具体可根据用户的实际需求设置。
进一步的，待抛光件通过水或者超声波进行清洗。具体可根据用户的实际需求设置。
进一步的，研磨石的硬度比待抛光件的硬度要高。其中，在每道抛光工序中，研磨石和金刚砂共同作用并对待抛光件进行抛光研磨，待抛光件的表面抛光效果较好。
进一步的，上述的待抛光件为玉件。进一步的，该玉件为金丝玉。
以上所述，仅是本发明的较佳实施例而已，并非对本发明作任何形式上的限制，依据本发明的技术实质对以上实施例所作的任何简单修改、等同变化与修饰，均仍属于本发明技术方案的范围内。

Claims (6)

1.一种抛光工艺，其特征在于，包括以下步骤：
(1)在振动抛光机内加入研磨石和待抛光件，向振动抛光机内加入110#～130#金刚砂70克～90克，加入190ml～210ml水，对待抛光件进行第一次密封抛光1～3小时；
(2)将第一次密封抛光后的待抛光件进行清洗，将清洗后的待抛光件放入振动抛光机内，向振动抛光机内加入研磨石、390#～410#金刚砂50克～70克、2.8克～3.2克低泡洗衣粉以及190ml～210ml水，对待抛光件第二次密封抛光11～13小时；
(3)将第二次密封抛光后的待抛光件进行清洗，将清洗后的待抛光件放入振动抛光机内，向振动抛光机内加入研磨石、990#～1100#金刚砂90克～110克、3.8克～4.2克低泡洗衣粉以及190ml～210ml水，对待抛光件第三次密封抛光13～15小时；
(4)将第三次密封抛光后的待抛光件进行清洗，将清洗后的待抛光件放入振动抛光机内，向振动抛光机内加入研磨石、293#～313#金刚砂30克～50克、3.8克～4.2克低泡洗衣粉以及190ml～210ml水，对待抛光件第四次密封抛光14～16小时；
(5)将第四次密封抛光后的待抛光件进行清洗，将清洗后的待抛光件放入振动抛光机内，向振动抛光机内加入研磨石、抛光粉、2.8克～3.2克低泡洗衣粉以及190ml～210ml水，对待抛光件精抛光。
2.如权利要求1所述的抛光工艺，其特征在于，所述研磨石为树脂石、棕刚玉、高铝瓷石、陶瓷石、钢珠和钢针中的一种或任意多种的组合。
3.如权利要求1所述的抛光工艺，其特征在于，所述待抛光件通过水或者超声波进行清洗。
4.如权利要求1所述的抛光工艺，其特征在于，所述研磨石的硬度比所述待抛光件的硬度高。
5.如权利要求1至4任一项所述的抛光工艺，其特征在于，所述待抛光件为玉件。
6.如权利要求5所述的抛光工艺，其特征在于，所述玉件为金丝玉。
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