CN104183689A - 一种用于led倒装固晶的基板及利用其固晶制备led的方法 - Google Patents

一种用于led倒装固晶的基板及利用其固晶制备led的方法 Download PDF

Info

Publication number
CN104183689A
CN104183689A CN201410465593.9A CN201410465593A CN104183689A CN 104183689 A CN104183689 A CN 104183689A CN 201410465593 A CN201410465593 A CN 201410465593A CN 104183689 A CN104183689 A CN 104183689A
Authority
CN
China
Prior art keywords
led
substrate
metal layer
die bond
down mounting
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
CN201410465593.9A
Other languages
English (en)
Inventor
刘洋
孙凤莲
张洪林
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Harbin University of Science and Technology
Original Assignee
Harbin University of Science and Technology
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Harbin University of Science and Technology filed Critical Harbin University of Science and Technology
Priority to CN201410465593.9A priority Critical patent/CN104183689A/zh
Publication of CN104183689A publication Critical patent/CN104183689A/zh
Pending legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L33/00Semiconductor devices having potential barriers specially adapted for light emission; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof
    • H01L33/005Processes
    • H01L33/0095Post-treatment of devices, e.g. annealing, recrystallisation or short-circuit elimination
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L33/00Semiconductor devices having potential barriers specially adapted for light emission; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof
    • H01L33/48Semiconductor devices having potential barriers specially adapted for light emission; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof characterised by the semiconductor body packages
    • H01L33/58Optical field-shaping elements
    • H01L33/60Reflective elements
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L33/00Semiconductor devices having potential barriers specially adapted for light emission; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof
    • H01L33/48Semiconductor devices having potential barriers specially adapted for light emission; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof characterised by the semiconductor body packages
    • H01L33/62Arrangements for conducting electric current to or from the semiconductor body, e.g. lead-frames, wire-bonds or solder balls
    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K1/00Printed circuits
    • H05K1/02Details
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2933/00Details relating to devices covered by the group H01L33/00 but not provided for in its subgroups
    • H01L2933/0008Processes
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2933/00Details relating to devices covered by the group H01L33/00 but not provided for in its subgroups
    • H01L2933/0008Processes
    • H01L2933/0033Processes relating to semiconductor body packages
    • H01L2933/0066Processes relating to semiconductor body packages relating to arrangements for conducting electric current to or from the semiconductor body

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • Led Device Packages (AREA)

Abstract

一种用于LED倒装固晶的基板及利用其固晶制备LED的方法,涉及用于LED倒装固晶的基板及利用其固晶制备LED的方法。本发明解决现有用于LED倒装固晶的基板使用过程中会出现孔洞及断层的问题。基板由绝缘载体、导电金属层、反应金属层及反光金属层组成。利用其固晶制备LED的方法:将锡膏分别涂覆至间隙两侧,并放置LED芯片,加热至锡膏熔化,冷却至室温,得到利用一种用于LED倒装固晶的基板固晶制备的LED。本发明用于一种用于LED倒装固晶的基板及利用其固晶制备LED。

Description

一种用于LED倒装固晶的基板及利用其固晶制备LED的方法
技术领域
本发明涉及用于LED倒装固晶的基板及利用其固晶制备LED的方法。
背景技术
随着发光二极管(LED)的日益普及,人们对其光品质、性能、可靠性等方面的要求越来越高。现有LED倒装固晶工艺如AuSn共晶焊、Ag浆烧结等存在效率低、成本高、可靠性差等缺点。相比之下,以Sn-Ag-Cu等锡膏回流焊的固晶工艺前景最好,可广泛应用于倒装LED支架封装,Chip on Board(COB)封装、Chip on Flexible(COF)封装等。但是由于Ag反射率较高,在传统正装支架封装和COB封装中普遍用于基板表层反光材料。其做法是在作为电路联通的Cu表层通过电镀、溅射等方式覆一厚度1-5微米的Ag层。随着LED倒装固晶工艺的进展,这种基板金属层结构被用于采用锡膏回流焊的固晶工艺的倒装LED封装。常见的结构如支架封装结构中的Ag/Cu/环氧树脂,COB封装结构中的Ag/Cu/AlN及Ag/Cu/Al2O3等。相应地,需要更加优化的固晶及封装工艺。通过一系列研究,现有用于LED倒装固晶的基板金属,Cu表面Ag层厚度约为2μm。当采用Sn-Ag-Cu锡膏回流焊时,根据锡膏量及焊接工艺的不同,焊点界面组织存在两种情况。一是锡膏量少,焊接时间短的情况下。焊接过程中焊点界面处的Ag未完全溶解至液态焊料内。此时在焊料与基板表面的Ag层间形成Ag3Sn金属间化合物。在LED服役过程中,Ag层逐渐向焊料内扩散,并使Ag3Sn金属间化合物厚度增长。当Ag层由于扩散而完全消耗时,在Ag3Sn金属间化合物与Cu层间出现孔洞及断层。另一种情况是锡膏量多,焊接时间较长的情况下。基板Cu表面Ag层在焊接过程中完全溶解至液态焊料内。此时在焊料与基板Cu层间形成的金属间化合物为Cu6Sn5。在LED服役过程中,Cu层逐渐向焊料内扩散,并使Cu6Sn5金属间化合物厚度增长。同时在Cu6Sn5金属间化合物于基板Cu层间形成新的化合物层Cu3Sn。Cu3Sn金属间化合物的出现及粗化会导致大量孔洞的出现并造成断层。发现此种Ag/Cu金属层结构在回流焊过程中与焊料间接头抗高温时效性能差,极易在界面处形成孔洞及脱层,严重影响其长期可靠性。
发明内容
本发明是要解决现有用于LED倒装固晶的基板使用过程中会出现孔洞及断层的问题,而提供了一种用于LED倒装固晶的基板及利用其固晶制备LED的方法。
一种用于LED倒装固晶的基板由绝缘载体、导电金属层、反应金属层及反光金属层组成;绝缘载体上层设有导电金属层,导电金属层上设有反应金属层,反应金属层上设有反光金属层,且导电金属层、反应金属层及反光金属层的中间位置设有贯通的间隙。
利用一种用于LED倒装固晶的基板固晶制备LED的方法步骤如下:
将锡膏通过印刷或点胶方式分别涂覆至用于LED倒装固晶的基板上层的间隙两侧,然后在锡膏处放置LED芯片,并将涂覆有锡膏的用于LED倒装固晶的基板加热至锡膏熔化,熔化5s以上后冷却至室温,得到利用一种用于LED倒装固晶的基板固晶制备的LED。
本发明的优点:本发明通过基板表层金属结构与成分设计,结合优化的焊接工艺,在保障基板高反射率的同时,实现了焊接接头界面组织结构的控制,有效抑制LED长期服役过程中界面孔洞及脱层。焊后的LED结构内锡膏所处位置的Ag完全溶解于焊料内部,避免了由于残留Ag层扩散形成的孔洞及断层。此时的焊料与基板金属层的界面反应主要基于焊料内的Sn与基板上的反应金属层。以该反应金属层为Ni为例,该界面反应形成的金属间化合物具有很高的稳定性,可以避免LED长期服役过程中由于Cu3Sn的形成及粗化造成的孔洞问题。从而使LED寿命大幅提升。此外,除了与焊料接触的位置以外,基板表层的Ag并未溶解。可以为LED提供极高的光反射率,从而提升LED的光效。
附图说明
图1为本发明一种用于LED倒装固晶的基板结构示意图;
图2为本发明在基板相应位置涂覆锡膏后结构示意图;
图3为本发明在涂覆锡膏位置上放置LED芯片未焊接结构示意图;
图4为本发明在涂覆锡膏位置上放置LED芯片焊接后结构示意图。
具体实施方式
具体实施方式一:结合图1,本实施方式是一种用于LED倒装固晶的基板由绝缘载体1、导电金属层2、反应金属层3及反光金属层4组成;绝缘载体1上层设有导电金属层2,导电金属层2上设有反应金属层3,反应金属层3上设有反光金属层4,且导电金属层2、反应金属层3及反光金属层4的中间位置设有贯通的间隙5。
反应金属层3用于与锡膏6反应,同时形成稳定的金属间化合物。
间隙5宽度取决于LED芯片两电极间隙宽度,应保证该间隙5宽度小于或等于LED芯片电极宽度。
本具体实施方式的优点:本具体实施方式通过基板表层金属结构与成分设计,结合优化的焊接工艺,在保障基板高反射率的同时,实现了焊接接头界面组织结构的控制,有效抑制LED长期服役过程中界面孔洞及脱层。焊后的LED结构内锡膏6所处位置的Ag完全溶解于锡膏6内部,避免了由于残留Ag层扩散形成的孔洞及断层。此时的锡膏6与基板金属层的界面反应主要基于锡膏6内的Sn与基板上的反应金属层3。以该反应金属层3为Ni为例,该界面反应形成的金属间化合物具有很高的稳定性,可以LED避免长期服役过程中由于Cu3Sn的形成及粗化造成的孔洞问题。从而使LED寿命大幅提升。此外,除了与焊料接触的位置以外,基板表层的Ag并未溶解。可以为LED提供极高的光反射率,从而提升LED的光效。
具体实施方式二:本实施方式与具体实施方式一的不同点在于:所述的绝缘载体1为陶瓷、玻璃或高分子材料。其它与具体实施方式一相同。
具体实施方式三:本实施方式与具体实施方式一或二之一的不同点在于:所述的导电金属层2为Cu导电金属层。其它与具体实施方式一或二相同。
具体实施方式四:本实施方式与具体实施方式一至三之一的不同点在于:所述的反应金属层3为Ni金属层;所述的反应金属层3厚度为2μm-5μm。其它与具体实施方式一至三相同。
具体实施方式五:本实施方式与具体实施方式一至四之一的不同点在于:所述的反光金属层4为Ag金属层;所述的反光金属层4厚度为500nm-2μm。其它与具体实施方式一至四相同。
具体实施方式六:本实施方式与具体实施方式一至五之一的不同点在于:所述的间隙5的宽度为100μm-500μm。其它与具体实施方式一至五相同。
具体实施方式七:结合图2至图4,本实施方式是利用一种用于LED倒装固晶的基板固晶制备LED的方法步骤如下:
将锡膏6通过印刷或点胶方式分别涂覆至用于LED倒装固晶的基板上层的间隙5两侧,然后在锡膏6处放置LED芯片7,并将涂覆有锡膏6的用于LED倒装固晶的基板加热至锡膏6熔化,熔化5s以上后冷却至室温,得到利用一种用于LED倒装固晶的基板固晶制备的LED。
在锡膏6处放置LED芯片7,保证该LED芯片7的两个电极与所涂覆锡膏6充分接触。并将涂覆有锡膏6的绝缘载体1焊接加热至锡膏6熔化,熔化5s以上后冷却至室温,得到利用一种用于LED倒装固晶的基板固晶制备的LED。该焊接过程可以通过回流炉,加热板等任意加热方式。但应保证锡膏6熔化后有5s以上的时间维持在液态,以保证焊接过程中锡膏与反光金属层4接触部位的Ag完全溶解于液态焊料。
具体实施方式八:本实施方式与具体实施方式七的不同点在于:所述的锡膏6为Sn-Ag-Cu系锡膏或Sn-Bi低温锡膏。其它与具体实施方式七相同。
具体实施方式九:本实施方式与具体实施方式七或八之一的不同点在于:所述锡膏6与反光金属层4的厚度比大于100:1。其它与具体实施方式七或八相同。
为保证焊接过程中锡膏6与基板接触部位的Ag完全溶解于液态锡膏6,锡膏6厚度与反光金属层4 Ag层厚度比大于100:1,以保障焊接过程中液态锡膏6与反光金属层4 Ag层间存在足够的浓度梯度。

Claims (9)

1.一种用于LED倒装固晶的基板,其特征在于:一种用于LED倒装固晶的基板由绝缘载体(1)、导电金属层(2)、反应金属层(3)及反光金属层(4)组成;绝缘载体(1)上层设有导电金属层(2),导电金属层(2)上设有反应金属层(3),反应金属层(3)上设有反光金属层(4),且导电金属层(2)、反应金属层(3)及反光金属层(4)的中间位置设有贯通的间隙(5)。
2.根据权利要求1所述的一种用于LED倒装固晶的基板,其特征在于:所述的绝缘载体(1)为陶瓷、玻璃或高分子材料。
3.根据权利要求1所述的一种用于LED倒装固晶的基板,其特征在于:所述的导电金属层(2)为Cu导电金属层。
4.根据权利要求1所述的一种用于LED倒装固晶的基板,其特征在于:所述的反应金属层(3)为Ni金属层;所述的反应金属层(3)厚度为2μm-5μm。
5.根据权利要求1所述的一种用于LED倒装固晶的基板,其特征在于:所述的反光金属层(4)为Ag金属层;所述的反光金属层(4)厚度为500nm-2μm。
6.根据权利要求1所述的一种用于LED倒装固晶的基板,其特征在于:所述的间隙(5)的宽度为100μm-500μm。
7.利用权利要求1所述的一种用于LED倒装固晶的基板固晶制备LED的方法,其特征在于利用一种用于LED倒装固晶的基板固晶制备LED的方法步骤如下:
将锡膏(6)通过印刷或点胶方式分别涂覆至用于LED倒装固晶的基板上层的间隙(5)两侧,然后在锡膏(6)处放置LED芯片(7),并将涂覆有锡膏(6)的用于LED倒装固晶的基板加热至锡膏(6)熔化,熔化5s以上后冷却至室温,得到利用一种用于LED倒装固晶的基板固晶制备的LED。
8.根据权利要求7所述的利用一种用于LED倒装固晶的基板固晶制备LED的方法,其特征在于:所述的锡膏(6)为Sn-Ag-Cu系锡膏或Sn-Bi低温锡膏。
9.根据权利要求7所述的利用一种用于LED倒装固晶的基板固晶制备LED的方法,其特征在于:所述锡膏(6)与反光金属层(4)的厚度比大于100:1。
CN201410465593.9A 2014-09-12 2014-09-12 一种用于led倒装固晶的基板及利用其固晶制备led的方法 Pending CN104183689A (zh)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN201410465593.9A CN104183689A (zh) 2014-09-12 2014-09-12 一种用于led倒装固晶的基板及利用其固晶制备led的方法

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN201410465593.9A CN104183689A (zh) 2014-09-12 2014-09-12 一种用于led倒装固晶的基板及利用其固晶制备led的方法

Publications (1)

Publication Number Publication Date
CN104183689A true CN104183689A (zh) 2014-12-03

Family

ID=51964590

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CN201410465593.9A Pending CN104183689A (zh) 2014-09-12 2014-09-12 一种用于led倒装固晶的基板及利用其固晶制备led的方法

Country Status (1)

Country Link
CN (1) CN104183689A (zh)

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN106449942A (zh) * 2016-11-28 2017-02-22 贵州万泰弘发科技股份有限公司 Led倒装晶片陶瓷基板模组及其制备方法
CN108831985A (zh) * 2018-07-23 2018-11-16 广东华辉煌光电科技有限公司 一种无引线的数码管芯片
CN109041450A (zh) * 2018-07-24 2018-12-18 广东华辉煌光电科技有限公司 一种带倒装芯片的数码管的加工方法
CN112289905A (zh) * 2020-10-23 2021-01-29 深圳市聚飞光电股份有限公司 Led芯片及其制作方法、led封装器件、显示装置

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN106449942A (zh) * 2016-11-28 2017-02-22 贵州万泰弘发科技股份有限公司 Led倒装晶片陶瓷基板模组及其制备方法
CN108831985A (zh) * 2018-07-23 2018-11-16 广东华辉煌光电科技有限公司 一种无引线的数码管芯片
CN109041450A (zh) * 2018-07-24 2018-12-18 广东华辉煌光电科技有限公司 一种带倒装芯片的数码管的加工方法
CN112289905A (zh) * 2020-10-23 2021-01-29 深圳市聚飞光电股份有限公司 Led芯片及其制作方法、led封装器件、显示装置

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR101204187B1 (ko) 소성 접합을 이용한 파워 모듈 및 그 제조 방법
WO2018006493A1 (zh) 钢化真空玻璃
CN101621101A (zh) 发光二极管及其制造方法
US10847691B2 (en) LED flip chip structures with extended contact pads formed by sintering silver
TW201119079A (en) A bonding method for LED chip and bonded LED
CN104183689A (zh) 一种用于led倒装固晶的基板及利用其固晶制备led的方法
US20140175495A1 (en) Die bonding method and die bonding structure of light emitting diode package
JP6131555B2 (ja) 発光装置の封止部材の取り外し方法および封止部材を取り外すことが可能な発光装置
KR20140048884A (ko) 다수의 솔라셀 및 태양광 모듈을 전기적으로 연결하기 위한 방법
CN102891240A (zh) 倒装结构的发光二极管及其制备方法
CN102881806A (zh) 一种smd led单元及其封装方法
CN104638097B (zh) 红光led倒装芯片的制作方法
CN110112126A (zh) 显示器件和显示模组及其制造方法
CN203787456U (zh) 一种倒装芯片封装结构
CN111162158B (zh) 一种rgb芯片倒装封装结构及制备方法
CN203339210U (zh) Led共晶封装基座
TWI248221B (en) Bump structure of LED flip chip
CN201152507Y (zh) 发光二极管灯具
CN202957296U (zh) 倒装结构的发光二极管
CN105428514A (zh) 一种集成led光源导热结构及其实现方法
CN111916435A (zh) 一种倒装led封装器件及其制备方法和应用
CN111785822A (zh) 一种led倒装芯片封装器件及其封装工艺
CN217881556U (zh) 一种防止芯片偏移的cob显示模块
JP2006286666A (ja) 半導体装置の製造方法
CN204558524U (zh) 用于倒装芯片的条形led支架

Legal Events

Date Code Title Description
C06 Publication
PB01 Publication
C10 Entry into substantive examination
SE01 Entry into force of request for substantive examination
WD01 Invention patent application deemed withdrawn after publication

Application publication date: 20141203

WD01 Invention patent application deemed withdrawn after publication