CN104180971A - 获取透镜最佳成像焦距的方法、系统和组装透镜的方法 - Google Patents

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Abstract

本发明公开了获取透镜最佳成像焦距的方法、系统和组装透镜的方法,所述获取透镜最佳成像焦距的方法包括:首先,利用工业相机透过透镜拍摄靶图在N个不同位置处的图片数据,进而获得在该N个不同位置处的调制传递参数MTF值,N为大于或等于3的整数;然后,在横轴表示靶图的位置,纵轴表示MTF值的二维坐标系中,将所述N个不同位置处的MTF值,根据最小二乘法拟合为二次抛物线;最后,通过求解所述二次抛物线的对称轴,根据该对称轴的位置得到所述透镜的最佳成像焦距。本发明提供的技术方案,能够有效地解决现有技术中由于测试位置和数据冗余严重造成测试资源浪费以及测试生产效率低下的问题。

Description

获取透镜最佳成像焦距的方法、系统和组装透镜的方法
技术领域
本发明涉及MTF测试技术领域,特别涉及获取透镜最佳成像焦距的方法、系统和组装透镜的方法。
背景技术
在消费类电子产品中,可穿戴类产品的发展日新月异,成为拉动消费类电子产品增长的一个重要增长点。头戴类显示设备是可穿戴类电子产品的一个重要组成部分,发展也是尤其迅速的。头戴显示类设备使用的高分辨率的液晶LCD屏,通过光学透镜的放大,给用户带来无以伦比的视觉体验。
但是,光学透镜的生产工艺和精度,决定了每个光学透镜都有微小的差异,从而导致光学透镜的最佳成像焦距也都有微小的差异,因此,在光学透镜的组装过程中,需要通过调整垫片的厚度来补偿每个光学透镜的微小差异,使每个光学透镜都能达到最佳的成像效果。
调制传递参数(Modulation Transfer Function,简称MTF)是光学成像系统的重要指标。成像系统MTF的高低直接反映了成像质量的好坏。理论上,MTF值越高,图像质量越好。现有技术中的枚举法,在光学透镜的误差精度范围内,通过以垫片厚度的精度规格作为单步移动的距离,逐个位置测量MTF值,MTF值最大的位置,就是最佳成像焦距,从而计算出光学透镜组装过程中垫片的厚度。
现有技术,至少存在如下缺陷:
现有技术中的枚举法为了获取光学透镜的最佳成像焦距,通过以垫片厚度的精度规格作为单步移动的距离,逐个位置测量MTF值,在MTF值测量过程中,可能导入由于测试环境、相机成像不稳定性、测试工装的移动导致的微小误差,从而可能造成在最佳成像焦距位置上,测量的MTF值小于左右两侧位置的MTF值,导致双波峰的情况发生,进而影响最终的计算结果;
枚举法还需结合光学透镜的误差精度和垫片厚度的精度规格来计算,由于移动的步数过多,导致最佳焦距的测量时间过长,测试位置和数据冗余严重,造成测试资源的浪费,使得测试和生产效率低下。
发明内容
本发明提供的获取透镜最佳成像焦距的方法、系统和组装透镜的方法,以解决现有技术中由于测试位置和数据冗余严重造成测试资源浪费以及测试和生产效率低下的问题。
一方面,本发明实施例提供了获取透镜最佳成像焦距的方法,该方法包括:
利用工业相机透过待测量透镜拍摄靶图在N个不同位置处的N个图片数据,进而获得在该N个不同位置处的N个调制传递参数MTF值;其中N为大于或等于3的整数;
在横轴表示靶图的位置,纵轴表示透镜在该靶图位置处对应的MTF值的二维坐标系中,根据所述N个MTF值,利用最小二乘法拟合二次抛物线;
求解所述二次抛物线的对称轴,根据该对称轴的位置得到所述透镜的最佳成像焦距。
进一步地,所述利用工业相机透过透镜拍摄靶图在N个不同位置处的N个图片数据,进而获得在该N个不同位置处的N个调制传递参数MTF值,包括:
将待测量透镜放置并固定在工业相机和靶图之间,并将该靶图点亮;
将工业相机的中心、靶图的中心和待测量透镜的中心,调整并固定所述工业相机和所述待测量光学透镜之间的距离,该固定距离是通过所述工业相机镜头参数计算得到的理论值;调整到同一水平轴上,并调整驱动靶图移动的精度,达到误差允许的范围内。
驱动靶图按照设定的步长移动,将靶图移动到下一个位置,并利用工业相机对各个位置处的靶图进行拍摄,获得并保存靶图在各个位置处的图片数据,根据各个位置处的图片数据计算待测量透镜在各个位置处相应的MTF值。
优选的,所述N取6-8中的整数。
优选的,所述N个不同位置均匀分布在所述透镜的已知成像范围内。
另一方面,本发明实施例提供了获取透镜最佳成像焦距的系统,该系统包括测试工装和处理器,所述测试工装包括:工业相机和靶图;
所述工业相机,用于透过所述透镜拍摄靶图在N个不同位置处的N个图片数据;其中N为大于或等于3的整数;
所述处理器,用于根据所述工业相机拍摄的N个图片数据,获得在所述N个不同位置处的N个MTF值;用于在横轴表示靶图的位置,纵轴表示所述透镜在靶图位置处的MTF值的二维坐标系中,根据所述N个MTF值,利用最小二乘法拟合二次抛物线;以及用于求解所述二次抛物线的对称轴,根据该对称轴的位置得到所述透镜的最佳成像焦距。
进一步地,所述测试工装包括用于使靶图按照设定的步长移动的电机;所述处理器包括:驱动单元、存储单元、MTF获取单元和最佳成像焦距获取单元;
所述驱动单元,用于根据预设的策略控制电机,使电机驱动靶图按照设定的步长移动;
所述存储单元,用于存储工业相机透过所述透镜拍摄靶图得到的图片数据;
所述MTF获取单元,用于根据存储单元中的图片数据,获得所述透镜在所述N个不同位置处相应的MTF值;
所述最佳成像焦距获取单元,用于在横轴表示靶图的位置,纵轴表示所述透镜在靶图位置处的MTF值的二维坐标系中,根据所述N个MTF值,利用最小二乘法拟合二次抛物线,并求解所述二次抛物线的对称轴,根据该对称轴的位置得到所述透镜的最佳成像焦距。
再一方面,本发明实施例提供了组装透镜的方法,用于将所述透镜组装在包含显示屏的显示类电子设备中,该方法包括:
根据所述获取透镜最佳成像焦距的方法测得所述透镜的最佳成像焦距;
根据所述透镜的最佳成像焦距调整所述透镜和显示屏之间的距离。
进一步的,所述根据所述透镜的最佳成像焦距调整所述透镜和显示屏之间的距离包括:
根据透镜的最佳成像焦距选择合适厚度的垫片,使用该厚度的垫片将透镜和显示屏之间的距离调整为所述透镜的最佳成像焦距对应的距离。
本发明实施例的有益效果是:本发明公开的获取透镜最佳成像焦距的方法、系统和组装透镜的方法,通过利用工业相机透过透镜拍摄靶图得到的图片数据,获得靶图在至少3个不同位置处的MTF值,根据所述至少3个不同位置处的MTF值,利用最小二乘法拟合二次抛物线,求解所述二次抛物线的对称轴,得到该透镜的最佳成像焦距,从而避免了在峰值位置由于测量误差而导致的双波峰现象,以及单个数据误差的有害影响,有效地提高了最后获得的透镜最佳成像焦距的精度。
此外,在优选方案中,通过获得6-8中任一整数个不同位置处的MTF值,拟合二次抛物线求解透镜的最佳成像焦距,从而减少了需要保存的数据和图像,节省了测试设备的投入,提高了测试和生产的效率。
附图说明
图1为本发明实施例提供的一种获取透镜最佳成像焦距的方法流程图;
图2为本发明实施例提供的一种获取透镜最佳成像焦距的系统结构示意图;
图3为本发明实施例提供的另一种获取透镜最佳成像焦距的系统结构示意图;
图4为使用枚举法获取光学透镜成像范围内的多个不同位置处的MTF原始测量数据示意图;
图5-a为一种使用本发明提供的获得透镜最佳成像焦距的方法获得不同位置处的MTF原始测量数据示意图;
图5-b为另一种使用本发明提供的获得透镜最佳成像焦距的方法获得不同位置处的MTF原始测量数据示意图;
图6-a为将图5-a中获得的不同位置处的MTF原始测量数据根据最小二乘法拟合二次抛物线的示意图;
图6-b为将图5-b中获得的不同位置处的MTF原始测量数据根据最小二乘法拟合二次抛物线的示意图;
图7为采用本发明提供的获取透镜最佳成像焦距的方法得到多组数据的峰值计算结果的正态分布示意图。
具体实施方式
为使本发明的目的、技术方案和优点更加清楚,下面将结合附图对本发明实施方式作进一步地详细描述。
图1为本发明实施例提供的一种获取透镜最佳成像焦距的方法,该方法包括:
S100,利用工业相机透过透镜拍摄靶图在N个不同位置处的N个图片数据,进而获得在该N个不同位置处的N个调制传递参数MTF值;其中N为大于或等于3的整数。
具体的,包括如下步骤:
步骤1,将待测量透镜放置并固定在工业相机和靶图之间,并将该靶图点亮。
需要说明的是,所述工业相机和所述待测量光学透镜之间的距离固定,该固定距离是通过所述工业相机镜头参数计算得到的理论值。
步骤2,将工业相机的中心、靶图的中心和待测量透镜的中心,调整到同一水平轴上,并调整驱动靶图移动的精度,达到误差允许的范围内。
步骤3,利用工业相机拍摄当前位置处的靶图并保存,根据工业相机获得的当前位置处的靶图的图片数据,计算当前位置处的待测量透镜的MTF值。
步骤4,利用预设的策略控制靶图移动,使靶图按照设定的步长移动到下一个位置,重复步骤3和步骤4,直到移动到最后一个位置。
优选的,所述预设的策略为预设的测试程序。
需要说明的是,成像范围内的最小刻度单位是垫片厚度的精度规格,靶图一次移动一个或者多个最小刻度单位。
S101,在横轴表示靶图的位置,纵轴表示所述透镜在靶图位置处的MTF值的二维坐标系中,根据所述N个MTF值,利用最小二乘法拟合二次抛物线。
具体的,所述二次抛物线可表示为f(x)=ax2+bx+c,其中,a,b,c的值通过最小二乘法获得。
S102,求解所述二次抛物线的对称轴,根据该对称轴的位置得到所述透镜的最佳成像焦距。
具体的,所述二次抛物线的对称轴可表述为
优选的,所述N取6-8中的整数。
优选的,所述N个不同位置均匀分布在所述透镜的已知成像范围内。
图2为本发明实施例提供的一种获取透镜最佳成像焦距的系统结构示意图,该系统包括测试工装10和处理器20。
图3为本发明实施例提供的另一种获取透镜最佳成像焦距的系统结构示意图,该系统包括上述测试工装10和处理器20,所述测试工装10包括:工业相机11和靶图12;
所述工业相机11,用于透过所述透镜拍摄靶图12在N个不同位置处的N个图片数据;其中N为大于或等于3的整数。
优选的,所述测试工装10还包括:
电机13,用于使靶图12按照设定的步长移动。
所述处理器20,用于根据所述工业相机11拍摄的N个图片数据,获得所述透镜在所述N个不同位置处的MTF值;用于在横轴表示靶图的位置,纵轴表示所述透镜在靶图位置处的MTF值的二维坐标系中,根据所述N个MTF值,利用最小二乘法拟合二次抛物线;以及用于求解所述二次抛物线的对称轴,根据该对称轴的位置得到所述透镜的最佳成像焦距。
具体的,所述处理器20包括:驱动单元21、存储单元22、MTF获取单元23和最佳成像焦距获取单元24;
所述驱动单元21,用于根据预设的策略控制电机13,使电机13驱动靶图12按照设定的步长移动;
所述存储单元22,用于存储工业相机11透过所述透镜拍摄靶图12得到的图片数据;
所述MTF获取单元23,用于根据存储单元22中的图片数据,获得所述透镜在所述N个不同位置处相应的MTF值;
所述最佳成像焦距获取单元24,用于在横轴表示靶图的位置,纵轴表示所述透镜在靶图位置处的MTF值的二维坐标系中,将所述MTF获取单元23中的N个不同位置处相应的MTF值,根据最小二乘法拟合二次抛物线,并求解所述二次抛物线的对称轴,根据该对称轴的位置得到所述透镜的最佳成像焦距。
优选的,所述处理器20中的N取6-8中的整数。
优选的,所述处理器20中N个不同位置均匀分布在所述透镜的已知成像范围内。
本发明实施例还提供了组装透镜的方法,该方法包括:
根据所述获取透镜最佳成像焦距的方法获得所述透镜的最佳成像焦距。
根据所述透镜的最佳成像焦距调整所述透镜和显示屏之间的距离。
具体的,根据透镜的最佳成像焦距选择合适厚度的垫片,使用该厚度的垫片将透镜和显示屏之间的距离调整为所述透镜的最佳成像焦距对应的距离。
为更清楚说明本发明提供的技术方案,以下结合一种具体的应用场景,对本发明提供的技术方案有益效果进行详细阐述。本应用场景下,假设待测量光学透镜的成像范围为0.60mm-1.60mm,垫片精度规格为0.05mm。
若采用现有技术中的枚举法,获得该光学透镜的最佳成像焦距,则采用下述步骤:
步骤1,将待测量透镜放置并固定在工业相机和靶图之间,并将该靶图点亮;
步骤2,将工业相机的中心、待测量透镜的中心以及靶图的中心,调整到同一水平轴上,调整并固定工业相机和测量光学透镜之间的距离,该距离是通过所述工业相机镜头参数计算得到的理论值;调整电机精度,达到误差允许的范围内,利用电机驱动靶图,使靶图初始位置位于该待测量光学透镜成像范围的最小值0.60mm处;
步骤3,利用工业相机拍摄当前位置处的靶图,根据工业相机获得的当前位置处的靶图的图片数据,计算所述待测量光学透镜在当前位置处的MTF值;
步骤4,利用预设的策略控制电机,通过该电机使靶图按照设定的步长0.05mm移动到下一个位置,重复步骤3和步骤4,直到移动到最后一个位置1.60mm。
图4为使用枚举法获得的不同位置处的MTF原始测量数据示意图,从图4中可以看出:
该组数据包括21个不同位置处的MTF值,该组数据中没有明显的异常,无双波峰现象,属于比较理想的测试数据;按照枚举法来分析该组测试数据,MTF峰值的位置在1.10mm处;而1.05mm-1.20mm处的MTF值非常接近,尤其是1.10mm和1.15mm处的MTF值差别极小。
因此,在无法避免各种系统误差的前提下,使用枚举法来测量最佳成像焦距是比较困难的。
若采用本发明提供的技术方案,获得该光学透镜的最佳成像焦距,则采用下述步骤:
第一种情况,获取分散分布在所述光学透镜成像范围0.60mm-1.60mm内的6个不同位置:
步骤1,将待测量透镜放置并固定在工业相机和靶图之间,并将该靶图点亮;
步骤2,将工业相机的中心、待测量透镜的中心以及靶图的中心,调整到同一水平轴上,调整并固定工业相机和测量光学透镜之间的距离,该距离是通过所述工业相机镜头参数计算得到的理论值;调整电机精度,达到误差允许的范围内,利用电机驱动靶图,使靶图初始位置位于该待测量光学透镜成像范围的最小值0.60mm处;
步骤3,利用工业相机拍摄当前位置处的靶图,根据工业相机获得的当前位置处的靶图的图片数据,计算所述待测量光学透镜在当前位置处的MTF值;
步骤4,利用预设的策略控制电机,通过该电机使靶图按照设定的步长0.20mm移动到下一个位置,重复步骤3和步骤4,直到移动到最后一个位置1.60mm。
需要说明的是,获取分散分布在所述光学透镜成像范围0.60mm-1.60mm内的6个不同位置时,并不局限于本情况下选择的靶图初始位置和移动步长,只要获取的不同位置分散分布在所述透镜的成像范围内即可。
第二种情况,获取集中分布在所述光学透镜成像范围0.60mm-1.60mm内的6个不同位置:
步骤1,将待测量透镜放置并固定在工业相机和靶图之间,并将该靶图点亮;
步骤2,将工业相机的中心、待测量透镜的中心以及靶图的中心,调整到同一水平轴上,调整并固定工业相机和测量光学透镜之间的距离,该距离是通过所述工业相机镜头参数计算得到的理论值;调整电机精度,达到误差允许的范围内,利用电机驱动靶图,使靶图初始位置位于该待测量光学透镜成像范围的0.95mm处;
步骤3,利用工业相机拍摄当前位置处的靶图,根据工业相机获得的当前位置处的靶图的图片数据,计算所述待测量光学透镜在当前位置处的MTF值;
步骤4,利用预设的策略控制电机,通过该电机使靶图按照设定的步长0.05mm移动到下一个位置,重复步骤3和步骤4,直到移动到最后一个位置。
需要说明的是,获取集中分布在所述光学透镜成像范围0.60mm-1.60mm内的6个不同位置时,并不局限于本情况下选择的靶图初始位置和移动步长,只要获取的不同位置集中分布在所述透镜的成像范围内即可。
图5-a与图5-b为使用本发明提供的获取透镜最佳成像焦距的方法获得不同位置处的MTF原始测量数据示意图,图6-a与图6-b为将不同位置处的MTF原始测量数据根据最小二乘法拟合二次抛物线的示意图;其中,用X轴表示该光学透镜的成像距离,单位为mm,Y轴表示所述待测量光学透镜在不同位置的MTF值,可以看出,图6-a中用来拟合抛物线的点更加均匀,以0.20mm为单位均匀分布在整个测量量程内,而图5-b中用来拟合抛物线的点以0.05mm为单位集中分布在测量量程的0.95mm-1.20mm范围内;
图6-a中拟合的二次抛物线的方程为:f(x)=-30.994x2+69.845x+1.475,对称轴位置为 x = - 69.845 2 × ( - 30.994 ) = 1.127 ;
根据所述对称轴位置,得到该光学透镜的最佳成像焦距为1.127mm处。
图6-b中拟合的二次抛物线的方程为f(x)=-36.457x2+81.662x+4.756,对称轴位置为 x = - 81.662 2 × ( - 36.457 ) = 1.120 ;
根据所述对称轴位置,得到该光学透镜的最佳成像焦距为1.120mm处。
其中,图6-a与图6-b中,空心点表示图4中所述待测量光学透镜在21个不同位置处的MTF原始测量数据,上方带箭头的点表示用来进行拟合二次抛物线的点,第一竖线表示在21个空心点中MTF值最大对应的位置x=1.127,第二竖线为二次抛物线峰值对应的位置x=1.120。
对比图6-a与图6-b,可以得到:
通过根据最小二乘法拟合二次抛物线得到的在所述光学透镜的成像范围0.60mm-1.60mm内的MTF值和图4中的MTF原始测量数据非常的接近,尤其是在峰值附近,在使用本发明提供的技术方案获取光学透镜的最佳成像焦距,选取不同位置处的MTF值来拟合二次抛物线,求解得到的最佳焦距相差1.127-1.120=0.007mm,满足0.05mm精度要求;
图6-b中用来拟合二次抛物线的数据,每一步的移动距离为0.05mm,测量的范围小,在峰值偏差大的情况下,可能会出现测量值全部位于峰值一侧的情况;而图6-a中用来拟合二次抛物线的数据,每一步的移动距离为0.20mm,适应的范围更宽;
由于测量不同位置MTF值的过程,不可避免的会引入误差,对拟合的结果造成影响,图6-b中整体的拟合效果比图6-a中拟合效果差,因此,用来拟合二次抛物线方程的点,分布越分散,拟合的结果误差越小,计算的最佳焦距也就越加准确。
通过图6-a,可以得到:
相对于图4中MTF测量数据每一步移动0.05mm,使用本技术方案的方法,每一步移动距离增大到0.20mm,可以更加有效的降低测试工装的移动而导入的误差,使最终得到的最佳成像焦距更加准确;
相对于图4中利用枚举法需要测试21个MTF测量数据,本技术方案的方法只需要测试6个MTF测量数据,从而可以节省测试时间和存储空间,显著的提高测试效率和生产效率,有效的降低生产成本。
图7为采用本发明提供的获取透镜最佳成像焦距的方法得到多组数据的峰值计算结果的正态分布示意图,从图中的统计结果可以得到:
通过拟合二次抛物线计算得到的峰值,标准差小于原始数据峰值的标准差,稳定性优于原始数据;
通过拟合二次抛物线计算得到的峰值与原始数据峰值的差为0.00967,远远小于0.05的精度要求。
综上所述,本发明公开的获取透镜最佳成像焦距的方法、系统和组装透镜的方法,通过利用工业相机透过透镜拍摄靶图得到的图片数据,获得靶图在至少3个不同位置处的MTF值,根据所述至少3个不同位置处的MTF值,利用最小二乘法拟合二次抛物线,求解所述二次抛物线的对称轴,得到该透镜的最佳成像焦距,从而避免了在峰值位置由于测量误差而导致的双波峰现象,以及单个数据误差的有害影响,有效地提高了最后获得的透镜最佳成像焦距的精度。此外,在优选方案中,通过获得6-8任一整数个不同位置处的MTF值,拟合二次抛物线求解透镜的最佳成像焦距,减少了需要保存的数据和图像,从而节省了测试设备的投入,提高了测试和生产的效率。
以上所述仅为本发明的较佳实施例而已,并非用于限定本发明的保护范围。凡在本发明的精神和原则之内所作的任何修改、等同替换、改进等,均包含在本发明的保护范围内。

Claims (10)

1.获取透镜最佳成像焦距的方法,其特征在于,所述方法包括:
利用工业相机透过透镜拍摄靶图在N个不同位置处的N个图片数据,进而获得在该N个不同位置处的N个调制传递参数MTF值;其中N为大于或等于3的整数;
在横轴表示靶图的位置,纵轴表示透镜在该靶图位置处对应的MTF值的二维坐标系中,根据所述N个MTF值,利用最小二乘法拟合二次抛物线;
求解所述二次抛物线的对称轴,根据该对称轴的位置得到所述透镜的最佳成像焦距。
2.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,所述利用工业相机透过透镜拍摄靶图在N个不同位置处的图片,进而获得在该N个不同位置处的N个调制传递参数MTF值,包括:
将待测量透镜放置并固定在工业相机和靶图之间,并将该靶图点亮;
将工业相机的中心、靶图的中心和待测量透镜的中心,调整到同一水平轴上,并调整驱动靶图移动的精度,达到误差允许的范围内;
驱动靶图按照设定的步长移动,将靶图移动到下一个位置,并利用工业相机对各个位置处的靶图进行拍摄,获得并保存靶图在各个位置处的图片数据,根据各个位置处的图片数据计算待测量透镜在各个位置处相应的MTF值。
3.根据权利要求1或2所述的方法,其特征在于,所述N取6-8中的整数。
4.根据权利要求1或2所述的方法,其特征在于,所述N个不同位置均匀分布在所述透镜的已知成像范围内。
5.获取透镜最佳成像焦距的系统,其特征在于,所述系统包括测试工装和处理器,所述测试工装包括:工业相机和靶图;
所述工业相机,用于透过透镜拍摄靶图在N个不同位置处的N个图片数据;其中N为大于或等于3的整数;
所述处理器,用于根据所述工业相机拍摄的N个图片数据,获得在所述N个不同位置处的N个MTF值;用于在横轴表示靶图的位置,纵轴表示所述透镜在靶图位置处的MTF值的二维坐标系中,根据所述N个MTF值,利用最小二乘法拟合二次抛物线;以及用于求解所述二次抛物线的对称轴,根据该对称轴的位置得到所述透镜的最佳成像焦距。
6.根据权利要求5所述的系统,其特征在于,所述测试工装进一步包括用于使靶图按照设定的步长移动的电机;所述处理器包括:驱动单元、存储单元、MTF获取单元和最佳成像焦距获取单元;
所述驱动单元,用于根据预设的策略控制电机,使电机驱动靶图按照设定的步长移动;
所述存储单元,用于存储工业相机透过所述透镜拍摄靶图得到的图片数据;
所述MTF获取单元,用于根据存储单元中的图片数据,获得所述透镜在所述N个不同位置处相应的MTF值;
所述最佳成像焦距获取单元,用于在横轴表示靶图的位置,纵轴表示所述透镜在该靶图位置处的MTF值的二维坐标系中,根据所述N个MTF值,利用最小二乘法拟合二次抛物线,并求解所述二次抛物线的对称轴,根据该对称轴的位置得到所述透镜的最佳成像焦距。
7.根据权利要求5所述的系统,其特征在于,所述处理器中的N取6-8中的整数。
8.根据权利要求5所述的系统,其特征在于,所述处理器中的N个不同位置均匀分布在所述透镜的已知成像范围内。
9.组装透镜的方法,用于将所述透镜组装在包含显示屏的显示类电子设备中,其特征在于,该方法包括:
根据如权利要求1-4中任一项所述的获取透镜最佳成像焦距的方法测得所述透镜的最佳成像焦距;
根据所述透镜的最佳成像焦距调整所述透镜和显示屏之间的距离。
10.根据权利要求9所述的方法,其特征在于,所述根据所述透镜的最佳成像焦距调整所述透镜和显示屏之间的距离包括:
根据透镜的最佳成像焦距选择合适厚度的垫片,使用该厚度的垫片将透镜和显示屏之间的距离调整为所述透镜的最佳成像焦距对应的距离。
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