CN104157767B - 一种具有不导电衬底的led芯片电极结构 - Google Patents
一种具有不导电衬底的led芯片电极结构 Download PDFInfo
- Publication number
- CN104157767B CN104157767B CN201410355837.8A CN201410355837A CN104157767B CN 104157767 B CN104157767 B CN 104157767B CN 201410355837 A CN201410355837 A CN 201410355837A CN 104157767 B CN104157767 B CN 104157767B
- Authority
- CN
- China
- Prior art keywords
- semiconductor layer
- chip
- type semiconductor
- type
- layer
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
- 239000000758 substrate Substances 0.000 title claims abstract description 55
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 claims abstract description 121
- 229910052594 sapphire Inorganic materials 0.000 claims abstract description 16
- 239000010980 sapphire Substances 0.000 claims abstract description 16
- 230000004888 barrier function Effects 0.000 claims abstract description 13
- 238000009792 diffusion process Methods 0.000 claims description 29
- 230000005611 electricity Effects 0.000 claims description 6
- 239000004020 conductor Substances 0.000 claims description 4
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 6
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 6
- 238000005520 cutting process Methods 0.000 description 3
- 238000000605 extraction Methods 0.000 description 3
- 229910002601 GaN Inorganic materials 0.000 description 2
- JMASRVWKEDWRBT-UHFFFAOYSA-N Gallium nitride Chemical compound [Ga]#N JMASRVWKEDWRBT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N Zinc monoxide Chemical compound [Zn]=O XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000003447 ipsilateral effect Effects 0.000 description 2
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 2
- 229910010271 silicon carbide Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 2
- 241000218202 Coptis Species 0.000 description 1
- 235000002991 Coptis groenlandica Nutrition 0.000 description 1
- 238000009825 accumulation Methods 0.000 description 1
- 238000010009 beating Methods 0.000 description 1
- 230000009286 beneficial effect Effects 0.000 description 1
- 230000007812 deficiency Effects 0.000 description 1
- 230000001934 delay Effects 0.000 description 1
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 239000004744 fabric Substances 0.000 description 1
- 238000005286 illumination Methods 0.000 description 1
- 230000004807 localization Effects 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 1
- 238000000034 method Methods 0.000 description 1
- 238000003825 pressing Methods 0.000 description 1
- 238000012216 screening Methods 0.000 description 1
- 239000004575 stone Substances 0.000 description 1
- 238000005728 strengthening Methods 0.000 description 1
- 239000011787 zinc oxide Substances 0.000 description 1
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L33/00—Semiconductor devices having potential barriers specially adapted for light emission; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof
- H01L33/36—Semiconductor devices having potential barriers specially adapted for light emission; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof characterised by the electrodes
- H01L33/38—Semiconductor devices having potential barriers specially adapted for light emission; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof characterised by the electrodes with a particular shape
- H01L33/385—Semiconductor devices having potential barriers specially adapted for light emission; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof characterised by the electrodes with a particular shape the electrode extending at least partially onto a side surface of the semiconductor body
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L33/00—Semiconductor devices having potential barriers specially adapted for light emission; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof
- H01L33/02—Semiconductor devices having potential barriers specially adapted for light emission; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof characterised by the semiconductor bodies
- H01L33/14—Semiconductor devices having potential barriers specially adapted for light emission; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof characterised by the semiconductor bodies with a carrier transport control structure, e.g. highly-doped semiconductor layer or current-blocking structure
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Computer Hardware Design (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Power Engineering (AREA)
- Led Devices (AREA)
Abstract
本发明提供一种具有不导电衬底的LED芯片的电极结构,包括蓝宝石衬底,层叠于蓝宝石衬底上的N型半导体层,层叠于N型半导体层上的发光层和层叠于发光层上的P型半导体层,芯片的蓝宝石衬底和P型半导体层两侧的面为芯片的出光面,位于出光面侧边的其余面为芯片的侧面;其特征在于:在所述侧面上设置有与N型半导体层电接触的N型电极和与P型半导体层电接触的P型电极,所述N型电极与发光层侧面和P型半导体层侧面之间设置有绝缘层,所述P型电极与发光层侧面和N型半导体层侧面之间设置有绝缘层。由于本发明将电极设置在芯片的侧面,增加了芯片发光面积,提高了芯片的亮度。
Description
技术领域
本发明涉及一种LED芯片结构,尤其一种LED芯片上电极布置的结构。
背景技术
按衬底的导电性能不同,现有的LED芯片一般分为不导电衬底芯片和导电衬底芯片,前者主要是指蓝宝石衬底芯片,也叫正装结构芯片或双电极芯片,后主要包括碳化硅衬底、硅衬底和氮化镓衬底芯片等,也叫垂直结构芯片或单电极芯片。正装芯片的P型电极可以直接制作在P型半导体层上,但由于承载N型半导体层的蓝宝石衬底不具有导电功能,在制作N型电极时,需要在P型半导体面上切割出部分区域,直至暴露出N型半导体层,再在该暴露的N型半导体层上制作N型电极。以8mil×7mil尺寸的芯片来算,芯片的总发光面积为8×7=56mil2,P型电极的面积约为3×3=9mil2,切割的P型半导体区域约为4×4=16mil2,制作完电极后芯片剩余的发光面积为56-9-16=31mil,发光面积的利用率为31/56×100%=55%。相对而言,由于垂直结构芯片的衬底是可以导电的,只需要再P型半导体层上制作一个P型电极即可,发光面积利用有所提高,但由于P型电极设置在出光面上,还是遮挡了部分光。可见,现有LED芯片都需要在发光面上制作电极,对芯片发光面积存在不同程度的遮挡,无法完全利用到芯片的全部发光面积,内部量子效率低下。同时,由于大量的光被反射回芯片内,造成芯片内热量积聚,也加快了芯片的衰减速度,降低芯片的使用寿命。
发明内容
为了克服现有技术的不足,本发明提供一种出光效率高,热积聚少,使用寿命高的LED芯片。
本发明解决其技术问题所采用的技术手段是:
一种具有不导电衬底的LED芯片电极结构,包括蓝宝石衬底,层叠于蓝宝石衬底上的N型半导体层,层叠于N型半导体层上的发光层和层叠于发光层上的P型半导体层,芯片的蓝宝石衬底和P型半导体层两侧的面为芯片的出光面,位于出光面侧边的其余面为芯片的侧面;其特征在于:在所述侧面上设置有与N型半导体层电接触的N型电极和与P型半导体层电接触的P型电极,所述N型电极与发光层侧面和P型半导体层侧面之间设置有绝缘层,所述P型电极与发光层侧面和N型半导体层侧面之间设置有绝缘层。
本发明的有益效果是:由于本发明将电极设置在芯片的侧面,取消了芯片出光面上的电极,而芯片侧面的出光量大大小于芯片侧面的出光量,相对于双电极芯片来说,在电出光面上不再有电阻挡的基础上,还免于切割芯片的发光层,相当于又增加了芯片的发光面积,或者说在相同的亮度要求下,可以将芯片切割的更小,在相同面积的外延片上可以切割出更多芯片,提高了芯片的产能;同时,由于芯片的出光量增加,还可减少芯片内的热量积聚,延缓芯片衰减,提高芯片寿命。
作为本发明的一种改进,还可以设置所述N型电极和P型电极位于芯片的同一侧面上,使得芯片可以采用倒装焊的方式封装,免于打电极线。
作为本发明的一种改进,还可以设置所述N型电极和P型电极分别位于芯片相对的两侧面上,从而可以让电流更均匀地分布到发光层上。
作为本发明的一种改进,还可以所述的N型电极还设置有围绕芯片的其他侧面,并与其他侧面的N型半导体层电接触的N极导电层;所述P型电极还设置有围绕芯片的其他侧面,并与其他侧面的P型半导体层电接触的P极导电层。从而可以让电流更均匀地分布到发光层上。
作为本发明的一种改进,还可以在所述P型半导体层上还设置有电流扩散层,所述P型电极及P极导电层通过所述电流扩散层与所述P型半导体层电接触,从而可以让电流更均匀地分布到发光层上。
作为本发明的一种改进,还可以在所述N型半导体层上还设置有电流扩散层,所述N型电极及N极导电层通过所述电流扩散层与所述N型半导体层电接触,从而可以让电流更均匀地分布到发光层上。
作为本发明的一种改进,还可以在所述N型半导体层或P型半导体层上设置有光反射层,从而增加芯片出光的方向性。
附图说明
图1为本发明电极在芯片同一侧面的结构示意图;
图2为本发明电极在芯片不同侧面的结构示意图;
图3为本发明电极上设置导电层的结构示意图;
图4为具有导电衬底的芯片上制作侧电极的结构示意图;
图5为无衬底芯片上制作侧电极的结构示意图;
图6为无衬底芯片仅一个电极设置在侧面的结构示意图。
具体实施方式
下面结合附图和实施例对本发明作进一步详细的说明。本发明至少可以实施于具有不导电衬底的LED芯片,具有导电衬底的LED芯片和无衬底的LED芯片上。除有特别说明外,在本领域普通技术人员的知识范围内,下述针对某一类型的芯片上描述的电极结构在其他类型的芯片上具有通用性。
参考图1,以具有不导电介质蓝宝石为衬底的芯片结构为例,由下至上依次为衬底1、N型半导体层2、发光层3和P型半导体层4。芯片被切割为六面体结构,芯片的蓝宝石衬底1侧和P型半导体层4两侧的面为芯片的出光面01,位于出光面01侧边与出光面01垂直的其余4个面为芯片的侧面00。芯片大部分的光都是从出光面01发出的,芯片侧面00出光较少。对于上述每一半导体层来说,其位于该芯片侧面00的面也可以称之为该半导体层的侧面。在所述芯片的侧面00上设置有与N型半导体层2电接触的N型电极5,N型电极5粘附在芯片的侧面00,并在芯片各半导体层的层叠方向上延伸,与N型半导体层2的侧面电接触,为加强电极与芯片侧面00的粘附强度,可以少部分延伸至芯片的出光面01上,但主体部分仍保留在芯片侧面00内。N型电极5可以仅覆盖部分半导体层,也可以覆盖完所有N型半导体层2、发光层3和P型半导体层4,当采用后者结构时,为避免N型电极5与发光层3和P型半导体层4的侧面电接触形成短路,在所述N型电极5与芯片侧面00之间设置绝缘层51。所述绝缘层51可以覆盖全部N型半导体层2、发光层3和P型半导体层4的侧面,N型电极5通过出光面01侧的N型半导体层2电连接;所述绝缘层51也可以仅覆盖发光层3和P型半导体层4的侧面,N型电极5可以通过N型半导体层2的出光面01侧和/或N型半导体层2的侧面00电连接。在芯片的同一侧面00上,还设置有与P型半导体层2电接触的P型电极6,P型电极6与N型电极5类似,不同之处在于,当所述P型电极6覆盖完所有芯片侧面的半导体层时,所述绝缘层51可以覆盖全部N型半导体层2、发光层3和P型半导体层4的侧面,P型电极6通过出光面01侧的P型半导体层4电连接;所述绝缘层51也可以仅覆盖发光层3和N型半导体层2的侧面,P型电极6可以通过P型半导体层4的出光面01侧和/或P型半导体层4的侧面00电连接。
所述P型半导体层4上还可设置有电流扩散层41,这时P型电极6可以同时与P型半导体层4的侧面和电流扩散层41的侧面电接触,也可以不与P型半导体层4直接电接触,而是通过电流扩散层41与P型半导体层4电接触,电流通过电流扩散层41扩散后再进入P型半导体层4。同样,也可以在N型半导体层2上设置类似的电流扩散层21。为便于增加芯片发光的方向性或当方向出光的强度,还可在所述N型半导体层2或P型半导体层4上或蓝宝石衬底上设置有光反射层7。
所述N型电极5和P型电极4可以设置在芯片的同一侧面00上,这样的芯片可以采用倒装焊的方式封装,从而节省焊金线的工序及成本,同时增强芯片的散热功能。也可以参考图2所示,所述N型电极2和P型电极4分别设置在芯片的不同侧面00上,其中当两电极分别位于相对的两侧面00上,且位于芯片对角位置时,电流流过发光层3最均匀,发光效果最好。还可以仅将N型电极2设置在芯片侧面00,P型电极4则设置在芯片P型半导体层4的出光面01上。
参考图3,所述的N型电极5还可延伸出围绕芯片的其他侧面00,并与其他侧面00的N型半导体层2电接触的N极导电层52;所述P型电极6也延伸出围绕芯片的其他侧面00,并与其他侧面00的P型半导体层4电接触的P极导电层62。这样,电流可以均匀地从P型半导体层4的多个侧面流入,从N型半导体层2的多个侧面流出,电流扩散更好,流过发光层3就更加均匀,从而芯片发光更均匀。当所述P型半导体层4上还设置有电流扩散层41时,所述P型电极6及P极导电层62通过所述电流扩散层41与所述P型半导体层4电接触。此时,电流通过电流扩散层41扩散后再进入P型半导体层4,电流分布更均匀。当所述N型半导体层2上还设置有电流扩散层21时,所述N型电极5及N极导电层52通过所述电流扩散层21与所述N型半导体层2电接触,其结构和原理前述类似。
对具有导电衬底的LED芯片,如衬底材料为碳化硅、硅、氧化锌或氮化镓等时,由于衬底本身具有导电功能,所以只需要制作一个电极,即P型电极即可,其他结构与上述蓝宝石衬底芯片的侧电极结构相同或相似。具有侧电极的导电衬底芯片结构如图4所示,由下至上依次为,导电衬底1,N型半导体层2、发光层3和P型半导体层4,芯片切割为六面体结构,芯片的导电衬底1侧和P型半导体层4两侧的面为芯片的出光面01,位于出光面01侧边与出光面01垂直的其余4个面为芯片的侧面00。P型电极6粘附在芯片的侧面00,其具体结构与前述具有蓝宝石衬底芯片的电极结构大体相同。不同之处在于为避免P型电极6导电衬底1电接触,所述绝缘层51需要覆盖至导电衬底1的侧面00。
作为具有导电衬底LED芯片侧电极结构的进一步改进,还可如图1和图3所示,所述P型半导体层4上还可设置有电流扩散层41,这时P型电极6可以同时与P型半导体层4的侧面和电流扩散层41的侧面电接触,也可以不与P型半导体层4直接电接触,而是通过电流扩散层41与P型半导体层4电接触,电流通过电流扩散层41扩散后再进入P型半导体层4。可如图1所示,所述P型半导体层4上还可设置有电流扩散层41,这时P型电极6可以同时与P型半导体层4的侧面和电流扩散层41的侧面电接触,也可以不与P型半导体层4直接电接触,而是通过电流扩散层41与P型半导体层4电接触,电流通过电流扩散层41扩散后再进入P型半导体层4。还可在衬底侧设置光反射层7。
参照图5,对于剥离了衬底的无衬底LED芯片,芯片不包括衬底,芯片主体结构包括N型半导体层2,层叠于N型半导体层2上的发光层3和层叠于发光层3上的P型半导体层4,N型半导体层2和P型半导体层4两侧的面为芯片的出光面01,位于出光面01侧边的其余面为芯片的侧面00,与N型半导体层2电接触的N型电极5和与P型半导体层4电接触的P型电极6,所述N型电极5和P型电极6至少一个电极设置在所述芯片的侧面00上,该设置在芯片侧面的N型电极5和/或P型电极6与芯片侧面00间设置有绝缘层51。该设置在芯片侧面的N型电极5和/或P型电极6与前述具有蓝宝石衬底芯片的N电极或P电极相同。不同之处在于由于N型半导体层2上没有衬底,当需要在N型半导体层2侧的出光面01上设置N型电极5时,N型电极5可以直接设置在N型半导体层2上。
作为无衬底LED芯片的进一步改进,参考图1和图2,可以将N型电极5和P型电极6都设置在所述芯片的侧面00上,即所述N型电极5和P型电极6设置在芯片的同一侧面00上,或所述N型电极5和P型电极6分别设置在芯片相对的两侧面00上。或仅P型电极6或N电极5之一设置在所述芯片的侧面上00,另一电极设置在相应的半导体层上。如参考图6,P型电极6设置在芯片侧面,N型电极5设置N型半导体层2上。或N型电极5设置在芯片侧面,P型电极6设置在P型半导体层4上。参考图1和图3,所述设置在芯片侧面00的电极上还设置有围绕芯片的其他侧面00,并与其他侧面00相应的半导体层电接触的导电层。所述P型半导体层4和/或N型半导体层2上还设置有电流扩散层41、21。所述N型半导体层2或P半导体层4上设置有光反射层7。
Claims (7)
1.一种具有不导电衬底的LED芯片的电极结构,包括蓝宝石衬底,层叠于蓝宝石衬底上的N型半导体层,层叠于N型半导体层上的发光层和层叠于发光层上的P型半导体层,芯片的蓝宝石衬底和P型半导体层两侧的面为芯片的出光面,位于出光面侧边的其余面为芯片的侧面;其特征在于:在所述侧面上设置有与N型半导体层电接触的N型电极和与P型半导体层电接触的P型电极,所述N型电极与发光层侧面和P型半导体层侧面之间设置有绝缘层,所述P型电极与发光层侧面和N型半导体层侧面之间设置有绝缘层,所述的N型电极还设置有围绕芯片的其他侧面,并与其他侧面的N型半导体层电接触的N极导电层;所述P型电极还设置有围绕芯片的其他侧面,并与其他侧面的P型半导体层电接触的P极导电层。
2.根据要求1所述的一种具有不导电衬底的LED芯片的电极结构,其特征在于:所述N型电极和P型电极位于芯片的同一侧面上。
3.根据要求2所述的一种具有不导电衬底的LED芯片的电极结构,其特征在于:所述P型半导体层上还设置有电流扩散层,所述P型电极及P极导电层通过所述电流扩散层与所述P型半导体层电接触。
4.根据要求3所述的一种具有不导电衬底的LED芯片的电极结构,其特征在于:所述N型半导体层上还设置有电流扩散层,所述N型电极及N极导电层通过所述电流扩散层与所述N型半导体层电接触。
5.根据要求1所述的一种具有不导电衬底的LED芯片的电极结构,其特征在于:所述P型半导体层上还设置有电流扩散层,所述P型电极通过所述电流扩散层与所述P型半导体层电接触。
6.根据要求5所述的一种具有不导电衬底的LED芯片的电极结构,其特征在于:所述N半导体层上还设置有电流扩散层,所述N型电极通过所述电流扩散层与所述的N型半导体层电接触。
7.根据要求1所述的一种具有不导电衬底的LED芯片的电极结构,其特征在于:所述N型半导体层或P型半导体层上设置有光反射层。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
CN201410355837.8A CN104157767B (zh) | 2014-07-22 | 2014-07-22 | 一种具有不导电衬底的led芯片电极结构 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
CN201410355837.8A CN104157767B (zh) | 2014-07-22 | 2014-07-22 | 一种具有不导电衬底的led芯片电极结构 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
CN104157767A CN104157767A (zh) | 2014-11-19 |
CN104157767B true CN104157767B (zh) | 2017-07-14 |
Family
ID=51883221
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
CN201410355837.8A Active CN104157767B (zh) | 2014-07-22 | 2014-07-22 | 一种具有不导电衬底的led芯片电极结构 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
CN (1) | CN104157767B (zh) |
Families Citing this family (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US11251166B2 (en) * | 2014-10-31 | 2022-02-15 | eLux, Inc. | Fluidic assembly emissive display using axial light emitting diodes (LEDs) |
CN109444701A (zh) * | 2017-08-31 | 2019-03-08 | 山东浪潮华光光电子股份有限公司 | 一种led外延片的无损测试装置及测试方法 |
CN111446342A (zh) * | 2020-03-26 | 2020-07-24 | 创维液晶器件(深圳)有限公司 | 倒装led |
CN113555480B (zh) * | 2021-08-18 | 2022-10-18 | 江西乾照光电有限公司 | 一种具有侧壁异形电极结构的led芯片 |
CN114122215A (zh) * | 2022-01-25 | 2022-03-01 | 北京芯海视界三维科技有限公司 | 发光单元及发光器件 |
FR3134237B1 (fr) * | 2022-04-01 | 2024-03-29 | Commissariat Energie Atomique | Diode electroluminescente a injection electrique optimisee depuis une electrode laterale |
Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN101887938A (zh) * | 2010-06-29 | 2010-11-17 | 张汝京 | 发光二极管芯片及其制造方法 |
CN102157658A (zh) * | 2010-02-11 | 2011-08-17 | Lg伊诺特有限公司 | 发光器件、发光器件封装及照明系统 |
CN102931309A (zh) * | 2012-11-15 | 2013-02-13 | 安徽三安光电有限公司 | 一种倒装发光二极管及其制作方法 |
CN103400916A (zh) * | 2013-08-21 | 2013-11-20 | 深圳市凯信光电有限公司 | 一种led晶片结构 |
-
2014
- 2014-07-22 CN CN201410355837.8A patent/CN104157767B/zh active Active
Patent Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN102157658A (zh) * | 2010-02-11 | 2011-08-17 | Lg伊诺特有限公司 | 发光器件、发光器件封装及照明系统 |
CN101887938A (zh) * | 2010-06-29 | 2010-11-17 | 张汝京 | 发光二极管芯片及其制造方法 |
CN102931309A (zh) * | 2012-11-15 | 2013-02-13 | 安徽三安光电有限公司 | 一种倒装发光二极管及其制作方法 |
CN103400916A (zh) * | 2013-08-21 | 2013-11-20 | 深圳市凯信光电有限公司 | 一种led晶片结构 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
CN104157767A (zh) | 2014-11-19 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
CN104157767B (zh) | 一种具有不导电衬底的led芯片电极结构 | |
TWI515919B (zh) | 改良式多接點發光二極體 | |
CN101807593B (zh) | 发光器件及其制造方法 | |
TWI464921B (zh) | 主波長分佈收斂之發光元件及其製造方法 | |
CN100483762C (zh) | 一种发光二极管器件的制造方法 | |
TW201427112A (zh) | 發光晶片組合 | |
JP2009111339A (ja) | 発光ダイオードパッケージ | |
CN105789400B (zh) | 一种并联结构的led芯片及其制造方法 | |
TW201342653A (zh) | 發光二極體晶片 | |
KR20160051394A (ko) | 발광소자 및 조명시스템 | |
US20130002139A1 (en) | Semiconductor light emitting device package | |
CN104143598A (zh) | 一种无衬底led芯片的电极结构 | |
CN104157768B (zh) | 一种具有导电衬底的led芯片电极结构 | |
CN204029844U (zh) | 一种无衬底led芯片的电极结构 | |
CN204029843U (zh) | 一种具有不导电衬底的led芯片电极结构 | |
TW201203611A (en) | Light emitting device and its manufacturing method | |
CN204155953U (zh) | 一种具有导电衬底的led芯片的电极结构 | |
CN104157777B (zh) | 一种具有同侧电极芯片的led封装结构 | |
KR101547322B1 (ko) | 발광 다이오드 패키지 | |
CN204029862U (zh) | 一种异侧电极芯片的led封装结构 | |
CN204029845U (zh) | 一种具有同侧电极芯片的led封装结构 | |
CN207116432U (zh) | 一种csp封装的高压led芯片结构 | |
CN204029863U (zh) | 一种单侧电极芯片的led封装结构 | |
RU2570060C1 (ru) | Высоковольтное светоизлучающее устройство | |
CN104183680A (zh) | 一种异侧电极芯片的led封装结构 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
C06 | Publication | ||
PB01 | Publication | ||
C10 | Entry into substantive examination | ||
SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
GR01 | Patent grant | ||
GR01 | Patent grant | ||
TR01 | Transfer of patent right | ||
TR01 | Transfer of patent right |
Effective date of registration: 20211108 Address after: 529040 floor 2 and 3, building 3, No. 50, Xingye Road, Jianghai District, Jiangmen City, Guangdong Province Patentee after: Jiangmen Qianzhao Electric Appliance Co.,Ltd. Address before: 529100 No. 1, Zhongfuhui Road, Yinhu Avenue, Huicheng, Xinhui District, Jiangmen City, Guangdong Province Patentee before: Li Yuan |