CN104130029A - 一种陶瓷外表面浸釉装置 - Google Patents
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Abstract
本发明公开了一种陶瓷外表面浸釉装置,包括:液压缸、储釉箱、支架、托板及锥形座,所述液压缸位于所述储釉箱的下方,所述液压缸有两个,这两个液压缸分别与所述储釉箱的底部的两侧连接,所述支架位于所述储釉箱的上方,所述托板固定挂设于所述支架上,所述托板上安装有所述锥形座,所述托板是镂空板。本发明结构简单,使用方便,通过液压缸来控制陶瓷的浸釉高度,上釉高度可控制,对陶瓷外表面的上釉效率高。
Description
技术领域
本发明涉及一种陶瓷制作设备,尤其涉及一种陶瓷外表面浸釉装置。
背景技术
在陶瓷上涂上釉层主要能够起到保护和装饰的作用,现有陶瓷上釉工艺多为浸釉,即把陶瓷竖直吊起后,浸入到釉池中进行上釉,经过一定的时间后,将陶瓷吊出即可,这种上釉方法需要一个较大的釉池及起吊设备,且容易导致釉料被污染,成本较高,且浸釉并不方便于对陶瓷外表面的局部上釉。对陶瓷的外表面或部分外表面也有采用手工施釉的方法,但手工施釉的工作效率低,劳动强度大,且对施釉人员的技术水平和经验要求较高。
发明内容
本发明的目的是为了克服现有技术的不足,提供了一种陶瓷外表面浸釉装置,其结构简单,使用方便,对陶瓷外表面的上釉效率高,上釉高度可控制。
本发明是通过以下技术方案实现:一种陶瓷外表面浸釉装置,其包括:液压缸、储釉箱、支架、托板及锥形座,所述液压缸位于所述储釉箱的下方,所述液压缸有两个,这两个液压缸分别与所述储釉箱的底部的两侧连接,所述支架位于所述储釉箱的上方,所述托板固定挂设于所述支架上,所述托板上安装有所述锥形座,所述托板是镂空板。
其他优选的结构还有:
所述锥形座为多个。
所述锥形座通过螺栓固定于所述托板上。
所述锥形座由橡胶材料制作而成。
本发明具有以下优点和特点:本发明的托板用于支撑陶瓷,陶瓷通过瓶口卡扣在锥形座上,防止釉液浸泡到陶瓷内,并通过液压缸举升储釉箱来控制陶瓷的浸釉高度,浸釉效率高,且托板为镂空板可减少釉液粘附于托板上。
附图说明
图1是本发明的一种陶瓷外表面浸釉装置的结构示意图。
具体实施方式
以下参照附图并结合具体实施方式来进一步描述,以令本领域技术人员参照说明书文字能够据以实施,保护范围并不受制于本技术方案的实施方式。
如图1所示,本发明的优选方案为:一种陶瓷外表面浸釉装置,其包括:液压缸6、储釉箱5、支架1、托板4及锥形座3,液压缸6位于储釉箱5的下方,液压缸6有两个,这两个液压缸6分别与储釉箱5的底部的两侧连接,支架1位于储釉箱5的上方,托板4通过连杆2固定挂设于支架1上,托板4位于储釉箱5的上方,托板4上安装有锥形座3,锥形座3的上端为较小一端,托板4是镂空板,即托板4的板面上设置有许多均匀分布的通孔。
本发明进一步优选的结构有:锥形座3为多个,锥形座3均匀分布在托板4上。锥形座3通过螺栓固定于托板4上,即锥形座3容易拆装。锥形座3由橡胶材料制作而成,具有一定的弹性。
工作原理:初始状态时,液压缸6把储釉箱5放置到最低,托板4位于储釉箱5的上方,储釉箱5内安装有釉液,当需要对陶瓷外表面全部或只是外表面的上部上釉时,把陶瓷的瓶口倒扣在锥形座3上,由于锥形座3有一定的弹性,能够把陶瓷的瓶口密封起来,避免釉液进入陶瓷内腔,然后通过液压缸6升高储釉箱5,使陶瓷浸泡到储釉箱5的釉液内,当到达合适的位置时,液压缸6使储釉箱5保持位置不变,以使陶瓷浸釉到一定的时间,最后重新把储釉箱5降低,陶瓷离开釉液,便完成对陶瓷的整个外表面或外表面的上部进行上釉。当需要对陶瓷外表面的下部上釉时,拆除锥形座3,通过托板4支撑陶瓷的瓶底,然后升高储釉箱5到合适位置,即可。
本发明的托板4用于支撑陶瓷,陶瓷通过瓶口卡扣在锥形座3上或直接由托板4托住瓶底,并通过液压缸6举升储釉箱5来控制陶瓷的浸釉高度,浸釉效率高,且托板4为镂空板,可减少釉液粘附于托板4上,两个液压缸6能够保持储釉箱5的平行和稳定,使釉液面在同一水平线上。
通过以上实施例可以详细的解释本发明,公开本发明的目的旨在保护本发明范围内的一切技术改进。
Claims (4)
1.一种陶瓷外表面浸釉装置,其特征是,包括:液压缸、储釉箱、支架、托板及锥形座,所述液压缸位于所述储釉箱的下方,所述液压缸有两个,这两个液压缸分别与所述储釉箱的底部的两侧连接,所述支架位于所述储釉箱的上方,所述托板固定挂设于所述支架上,所述托板上安装有所述锥形座,所述托板是镂空板。
2.根据权利要求1所述的陶瓷外表面浸釉装置,其特征是,所述锥形座为多个。
3.根据权利要求1所述的陶瓷外表面浸釉装置,其特征是,所述锥形座通过螺栓固定于所述托板上。
4.根据权利要求1所述的陶瓷外表面浸釉装置,其特征是,所述锥形座由橡胶材料制作而成。
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SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
C02 | Deemed withdrawal of patent application after publication (patent law 2001) | ||
WD01 | Invention patent application deemed withdrawn after publication |
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