CN104087901A - 一种真空离子镀钛炉的靶材接头 - Google Patents
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Abstract
一种真空离子镀钛炉的靶材接头，包括靶体，所述靶体上一体连接基座，所述基座内开设一凹孔，凹孔侧壁上设置内螺纹；所述基座上开设凹陷部。本靶材接头通过凹陷部的设计，提高了利用率，减少基座的体积，避免了金属的浪费，增加了靶体的使用时间，并可以回收一部分的冷凝后的金属。
Description
技术领域
本发明涉及镀膜设备，特别是用于真空镀钛工艺的靶材接头。
背景技术
现有的离子镀膜技术是利用在真空条件下吧性能优异的太空金属钛做成靶体接头，用电弧方式直接产生等离子体，并在真空炉中通入高纯氮气，是钛离子和氮离子在电厂作用下直接“打入”由各种基材制成的产品上，并形成一层厚度约1微米结合力很强的氮化钛层，不仅外观金光闪闪而且耐磨耐蚀性能优异，从而大大的提高产品的使用价值与经济价值。
在真空离子镀钛工艺中需要用到很多钛合金制作的靶材。钛合金是稀有金属，所以其靶材的价格非常贵。靶材是在真空离子镀钛不断消耗的。靶材是靠螺纹接头与镀钛炉连接的。当靶材消耗到连接部的时候，就要更换，这样既麻烦又浪费。
发明内容
本发明的目的，是解决上述技术问题，提供一种提高靶材接头的利用率，降低成本的一种靶材接头。
本发明的技术解决方案是：一种真空离子镀钛炉的靶材接头，包括靶体，所述靶体上一体连接基座，所述基座内开设一凹孔，凹孔侧壁上设置内螺纹；所述基座上开设凹陷部。
由于靶体使用到基座位置基本也就需要更换了，但在实际制作的时候，靶体和基座都是一体成型的，并且都用钛材料来制作，所以剩下的基座部分就比较浪费，所以设置凹陷部，一来可以减少基座的体积，降低成本，二就是回收，由于一些钛离子冷却后会附着在靶体上，如果没有这些凹陷部，就会因附着力不够而脱离靶体，滴落到炉底上，造成一定的浪费和污染。
作为优选，所述凹陷部在基座与靶体的连接处设置并且致使基座的表面倾斜。基座的表面倾斜一是最大化的缩减基座的体积，二是可以让冷凝在基座上的液体可以顺利回流到凹陷部内，可以再次使用。
作为进一步优选，所述凹陷部的横截面为三角形。三角形的结构设计可以让基座的表面倾斜，又最大的减小基座的体积而不减少基座的连接强度。
作为优选，所述凹陷部在基座与靶体的连接处设置并且致使基座的外表面呈圆弧形。由于靶材接头与真空炉是螺纹连接，所以基座的连接部也是圆柱形，其外表面如果也是圆弧形就可以既保持连接强度也可以降低基座体积。
作为进一步优选，所述凹陷部的横截面为矩形。
作为优选，所述凹陷部以基座的中心轴为中心线，圆周阵列分布。
作为优选，所述靶体为圆台形。
本发明有益效果是：
本靶材接头通过凹陷部的设计，提高了利用率，减少基座的体积，避免了金属的浪费，增加了靶体的使用时间，并可以回收一部分的冷凝后的金属。
附图说明
图1为本发明实施例结构示意图；
图2为本发明实施例主视图结构；
图3为本发明实施例凹陷部的另一种结构示意图。
图中：1-靶体，2-基座，21-凹陷部，3-凹孔，31-内螺纹。
具体实施方式
下面结合附图以实施例对本发明作进一步说明。
本具体实施例仅仅是对本发明的解释，其并不是对本发明的限制，本领域技术人员在阅读完本说明书后可以根据需要对本实施例做出没有创造性贡献的修改，但只要在本发明的权利要求范围内都受到专利法的保护。
实施例1，如图1-2所示，一种真空离子镀钛炉的靶材接头，包括靶体1，所述靶体1上一体连接基座2，所述基座2内开设一凹孔3，凹孔3侧壁上设置内螺纹31；所述基座2上开设凹陷部21。靶体1设置成圆台形，且靶体1外径的缩小方向是越靠近基座2，其外径越小。这样可以增加靶体的体积，提高靶体的工作时间，减少更换次数，提高工作效率。
所述凹陷部21在基座2与靶体1的连接处设置并且致使基座2的表面倾斜。如图2所示，凹陷部21的横截面为三角形，并且靶体1的连接面还是平行设置，这样就不会减少靶体1的体积。
如图3所示，所述凹陷部21在基座2与靶体1的连接处设置并且致使基座2的外表面呈圆弧形。所述凹陷部21的横截面为矩形。
所述凹陷部21以基座2的中心轴为中心线，圆周阵列分布。这样既保留了原基座2的连接强度，又可以减少基座2的体积，并且凹陷部21可以收集冷凝后金属，一是方便回收利用，二是防止滴落到真空炉内，造成污染和浪费。
Claims (7)
1.一种真空离子镀钛炉的靶材接头，包括靶体（1），其特征在于：所述靶体（1）上一体连接基座（2），所述基座（2）内开设一凹孔（3），凹孔（3）侧壁上设置内螺纹（31）；所述基座（2）上开设凹陷部（21）。
2.按权利要求1所述的一种真空离子镀钛炉的靶材接头，其特征在于：所述凹陷部（21）在基座（2）与靶体（1）的连接处设置并且致使基座（2）的表面倾斜。
3.按权利要求2所述的一种真空离子镀钛炉的靶材接头，其特征在于：所述凹陷部（21）的横截面为三角形。
4.按权利要求1所述的一种真空离子镀钛炉的靶材接头，其特征在于：所述凹陷部（21）在基座（2）与靶体（1）的连接处设置并且致使基座（2）的外表面呈圆弧形。
5.按权利要求4所述的一种真空离子镀钛炉的靶材接头，其特征在于：所述凹陷部（21）的横截面为矩形。
6.按权利要求3或5所述的一种真空离子镀钛炉的靶材接头，其特征在于：所述凹陷部（21）以基座（2）的中心轴为中心线，圆周阵列分布。
7.按权利要求6所述的一种真空离子镀钛炉的靶材接头，其特征在于：所述靶体（1）为圆台形。
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Citations (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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2014
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| C02 | Deemed withdrawal of patent application after publication (patent law 2001) | ||
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Application publication date: 20141008 |