CN104056290A - 低压等离子体消毒装置 - Google Patents

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CN104056290A CN201410320288.0A CN201410320288A CN104056290A CN 104056290 A CN104056290 A CN 104056290A CN 201410320288 A CN201410320288 A CN 201410320288A CN 104056290 A CN104056290 A CN 104056290A
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李立
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Granary Hua Deshi Is Industrial Equipment Co Ltd Too
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Abstract

低压等离子体消毒装置,它涉及医疗产品的消毒装置技术领域,主体的内部设置有反应舱,反应舱前侧设置有舱门,反应舱内部设置有气体入口,反应舱的上部设置有反应控制装置,反应舱的后侧设置有高频供电端口和能源提供装置,能源提供装置的一侧设置有压力控制装置,压力控制装置的下方设置有气体流量控制装置,气体流量控制装置通过气体通道与气体入口连接,压力控制装置、能源提供装置均与反应舱的内部连接。它设计科学合理,没有特殊的工作防护要求,采用气体反应,且化学反应可切断,一旦拔掉电源,整个反应过程就会自动停止,适用于所有材料的消毒,且能量消耗低。

Description

低压等离子体消毒装置
技术领域:
本发明涉及医疗产品的消毒装置技术领域,具体涉及一种低压等离子体消毒装置。
背景技术:
医疗产品和医疗技术产品,如外科工具、植入材料和医用导管,必须是消过毒的,没有活性微生物的。而且它们还必须不含热原质和发烧产生的菌类和病毒类的残留物,当这些物质进入血液循环中,会引起病人患上败血症。用等离子体对这些材料进行处理,不仅能达到消毒的效果,也能去除细胞参与和细胞组织物。借助于各种显示热原质的方法,我们可以证明,对比蒸汽消毒法,在等离子体中,除了细胞消灭现象,还伴随着热原质的减少。
在各个有能力的科研机构(自大约1985年以来,在各大学中等等),都进行了研究,大量的出版物表明了,相对常规的消毒方法,如用环氧乙烷或者用高压消毒,等离子体技术具备更大的优势。
对上述的两种常规消毒方法来说,都是进行杀灭病菌,并以此一起消灭它们的病毒性。但是这两种方法所使用的有机材料,是由碳、氢、氧和氮组成的,在常规的消毒方法下,氮化合物会残留在,例如内窥镜中,其他的医疗设备上(手术刀、手套等等)。这些成分会残留在消毒物品上,也就是黏附在工具上,在这些设备再次被使用时,这可能导致它们进入体腔后,会引起发炎症状的防卫反应。
高压釜是一个封闭的容器,被用于各种工具和材料的消毒。根据其数量和体积,被处理的物品将利用蒸汽,在121摄氏度以上的高压环境下,在规定的时间内,进行加热。高压釜是在1879年由法国的微生物学家Charles Chamber发明,其也与Louis Pasteur进行了合作。其前身是早在1679年由法国的物理学家发明的蒸汽锅。如今在高压杀菌或者消毒领域,通常使用两种方法。真空法是指,气体将交替地被抽成真空状态,并通过注入蒸汽进行加热。气流法或者重力法指的是,气体受到饱和的蒸汽的排挤(高压锅原理)。这也描绘了蒸汽灭菌器的原理。
在高压釜中,病菌在高压的水蒸汽中被杀死,而过化学方法,剧毒的气态性状的环氧乙烷通也能做到这点。只是此后,无菌的消毒物品必须数小时、数天时间的进行通风,去除毒气。
至今为止,各种装置技术都是“孤立”存在的。处理医疗废物,只有自己内部封闭的清洁设备,其运作需要使用提到的液体(产品)。
A为了之后的等离子体清洁,必须给碳氢化合物A3配备抑制剂;
B根据等离子体方法,必须调整水状的产品。
上述之外的另一种消毒方式是使用等离子体,但是它只能处理必须是均匀分布的,较低脏污程度的污渍。当这些前提条件不能被满足时,等离子体消毒也就不起作用了。而且,当等离子体是通过微波发电产生时,使用设备总会具备两种密封方式:一种服务于真空舱的密封,一种致力于对微波进行遮挡。这种密封需要一种被金属导电的带子或纺织物缠绕的特殊材料才能做到。同时微波射线也能因此不会溢出舱外。另外,微波射线受到的限制是,在设备周边5厘米范围内,不允许测到超过每平方厘米5毫瓦的功率。
发明内容:
本发明的目的是提供一种低压等离子体消毒装置,它设计科学合理,没有特殊的工作防护要求,采用气体反应,且化学反应可切断,一旦拔掉电源,整个反应过程就会自动停止,适用于所有材料的消毒,且能量消耗低。
为了解决背景技术所存在的问题,本发明是采用以下技术方案:它包含主体、反应控制装置、反应舱、气体入口、高频供电端口、压力控制装置、能源提供装置和气体流量控制装置,主体的内部设置有反应舱,反应舱前侧设置有舱门,反应舱内部设置有气体入口,反应舱的上部设置有反应控制装置,反应舱的后侧设置有高频供电端口和能源提供装置,能源提供装置的一侧设置有压力控制装置,压力控制装置的下方设置有气体流量控制装置,气体流量控制装置通过气体通道与气体入口连接,压力控制装置、能源提供装置均与反应舱的内部连接。
本发明的原理为:等离子体反应本身是一种真空状态下的气体反应。反应舱内将被压力控制装置抽成大约0.1毫巴的真空状态。然后通过气体流量控制装置的气体通道,将特定数量的某种反应气体通入反应舱内。此时反应压力设置为大约0.5~1毫巴之间。之后用微波“点燃”这种气体或者气体混合物,等离子体也就这样产生了。反应舱内由此形成了非常复杂的化学物理性质的“实体”。消毒尤其需要三个组成部分:
微波:-原则上微波杀死了病菌。
真空:-大部分的病菌和细菌都在这里被消灭了。
O2-自由基:-O2-自由基让剩余的病菌变成灰烬、被氧化,并清除最后的“尸体”。
这个反应过程可以通过使用特殊的气体或者气体混合物进行优化。
本发明具有以下有益效果:
1、它能达到现今最高的消毒水平。
2、在清洁介质中,它最后不会产生污垢积聚,仅仅只是一些气态的化学物质。
3、使用的化学物质都是无害的,因为是和一些气体打交道。
4、可切断的化学反应,意味着,一旦拔掉电源,整个反应过程就会自动停止。
5、等离子体适用于所有材料的消毒(金属、陶瓷、玻璃、合成材料)。
6、气体反应具备非常良好的缝隙侵入性,因为气体没有表面张力。所以等离子体可以深入比如各种裂缝中和精细的孔眼中。
7、等离子体处理后的各个部件都是绝对干燥的,即使在经过了液态的初步清洗后再进行等离子体精密清洁,通过真空能达到很好的干燥水平。
8、因为几乎只把氧气作为反应气体,所以整个操作过程是极其环保的。
9、没有特殊的工作防护要求。
10、能量消耗是非常低的。
附图说明:
图1为本发明的结构示意图,
附图标记:主体1、反应控制装置2、反应舱3、气体入口4、高频供电端口5、压力控制装置6、能源提供装置7、气体流量控制装置8。
具体实施方式:
参照图1,本具体实施方式采用以下技术方案:它包含主体1、反应控制装置2、反应舱3、气体入口4、高频供电端口5、压力控制装置6、能源提供装置7和气体流量控制装置8,主体1的内部设置有反应舱3,反应舱3前侧设置有舱门,反应舱3内部设置有气体入口4,反应舱3的上部设置有反应控制装置2,反应舱3的后侧设置有高频供电端口5和能源提供装置7,能源提供装置7的一侧设置有压力控制装置6,压力控制装置6的下方设置有气体流量控制装置8,气体流量控制装置8通过气体通道与气体入口4连接,压力控制装置6、能源提供装置7均与反应舱3的内部连接。
所述的能源提供装置7可以为微波装置,也可以为其他的能够提供能源的装置。
本具体实施方式的原理为:等离子体反应本身是一种真空状态下的气体反应。反应舱3内将被压力控制装置6抽成大约0.1毫巴的真空状态。然后通过气体流量控制装置8的气体通道,将特定数量的某种反应气体通入反应舱3内。此时反应压力设置为大约0.5~1毫巴之间。之后用微波“点燃”这种气体或者气体混合物,等离子体也就这样产生了。反应舱3内由此形成了非常复杂的化学物理性质的“实体”。消毒尤其需要三个组成部分:
微波:-原则上微波杀死了病菌。
真空:-大部分的病菌和细菌都在这里被消灭了。
O2-自由基:-O2-自由基让剩余的病菌变成灰烬、被氧化,并清除最后的“尸体”。
这个反应过程可以通过使用特殊的气体或者气体混合物进行优化。
本具体实施方式设计科学合理,没有特殊的工作防护要求,采用气体反应,且化学反应可切断,一旦拔掉电源,整个反应过程就会自动停止,适用于所有材料的消毒,且能量消耗低。

Claims (2)

1.低压等离子体消毒装置,其特征在于它包含主体(1)、反应控制装置(2)、反应舱(3)、气体入口(4)、高频供电端口(5)、压力控制装置(6)、能源提供装置(7)和气体流量控制装置(8),主体(1)的内部设置有反应舱(3),反应舱(3)前侧设置有舱门,反应舱(3)内部设置有气体入口(4),反应舱(3)的上部设置有反应控制装置(2),反应舱(3)的后侧设置有高频供电端口(5)和能源提供装置(7),能源提供装置(7)的一侧设置有压力控制装置(6),压力控制装置(6)的下方设置有气体流量控制装置(8),气体流量控制装置(8)通过气体通道与气体入口(4)连接,压力控制装置(6)、能源提供装置(7)均与反应舱(3)的内部连接。
2.根据权利要求1所述的低压等离子体消毒装置,其特征在于它的原理为:等离子体反应本身是一种真空状态下的气体反应,反应舱内将被压力控制装置抽成大约0.1毫巴的真空状态,然后通过气体流量控制装置的气体通道,将特定数量的某种反应气体通入反应舱内,此时反应压力设置为大约0.5~1毫巴之间,之后用微波“点燃”这种气体或者气体混合物,等离子体也就这样产生了,反应舱内由此形成了非常复杂的化学物理性质的“实体”。
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Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN1093284A (zh) * 1994-03-14 1994-10-12 俞一哲 冷等离子体灭菌消毒装置
CN1372976A (zh) * 2002-04-09 2002-10-09 南京三乐微波技术发展有限公司 利用微波激发等离子体对医疗器械进行灭菌的方法及装置
CN1449872A (zh) * 2003-04-10 2003-10-22 上海复旦辰光科技有限公司 一种利用微波清洁材料表面的方法及其装置
CN201067528Y (zh) * 2007-08-30 2008-06-04 复旦大学 基于家用微波炉的等离子体消毒机

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