CN104049403A - 触控彩膜基板及其制作方法、显示面板和显示装置 - Google Patents

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Abstract

本发明公开了一种触控彩膜基板及其制作方法、显示面板和显示装置，在基板上形成有第一导电层，所述第一导电层的图案与所述基板上的黑矩阵(BM)的图案相同；在形成有第一导电层的所述基板上形成有第一绝缘层，所述第一绝缘层的显示区域图案与第一导电层的显示区域图案相同。通过本发明，能够提高液晶显示器(LCD)的透过率，降低制作LCD的工艺复杂性，并能够有效屏蔽LCD对表面电容所带来的信号干扰。

Description

触控彩膜基板及其制作方法、显示面板和显示装置
技术领域
本发明涉及液晶显示技术领域，尤其涉及一种触控彩膜基板及其制作方法、显示面板和显示装置。
背景技术
液晶显示器为目前主流的平板显示器。液晶面板的触摸功能实现通常包括In-Cell和On-Cell这两种方法，In-Cell是指将触摸面板功能嵌入到液晶像素中的方法，On-Cell是指将触摸面板功能嵌入到彩膜基板和偏振片之间的方法。
现有技术中，针对薄膜晶体管液晶显示器(TFT-LCD)的常规On-Cell表面电容式结构如图1所示，101表示偏振片，103表示基板(即用于制作的彩膜基板的基板，可以是玻璃基板或塑料基板)，在上玻璃基板103上形成有黑矩阵104、彩膜层105、公共电极层106、取向层107，并且在偏振片101和基板103之间有一层导电层102，导电层102作为彩膜基板的电容传感器(Capacitivesensor)；当用户手指放在偏振片101上时，由于人体电场，用户手指与工作面之间形成一个耦合电容Cf；另外，109表示阵列(array)基板，阵列基板109外侧也有偏振片101；在阵列基板109和彩膜基板之间填充有液晶108。导电层102的材料通常为氧化铟锡(ITO，Indium Tin Oxide)。
现有的常规On-Cell表面电容式结构，是在彩膜基板的表面制作一整面导电层102，整面的导电层102会影响LCD的透过率；而且由于导电层102制作在彩膜基板的外表面，与彩膜基板的制作工序不在同一侧，因此需要用到基板翻转工艺，这增加了工艺复杂性。
发明内容
有鉴于此，本发明的主要目的在于提供一种触控彩膜基板及其制作方法、显示面板和显示装置，以提高LCD的透过率，降低制作LCD的工艺复杂性。
为达到上述目的，本发明的技术方案是这样实现的：
一种触控彩膜基板，在基板上形成有第一导电层，所述第一导电层的图案与所述基板上的黑矩阵BM的图案相同；在形成有第一导电层的所述基板上形成有第一绝缘层，所述第一绝缘层的显示区域图案与所述第一导电层的显示区域图案相同。
在形成有所述第一绝缘层的所述基板上形成有所述BM，且所述BM和所述第一导电层、所述第一绝缘层位于所述基板的同侧。
在形成有所述第一绝缘层的所述基板上形成有第二导电层，所述第二导电层接公共地；且在形成有所述第二导电层的所述基板上形成有第二绝缘层；且所述第二导电层的显示区域图案与所述第一导电层的显示区域图案相同；所述第二绝缘层的显示区域图案与所述第一导电层的显示区域图案相同。
在形成有所述第二绝缘层的基板上形成有所述BM，且所述BM和所述第一导电层、所述第一绝缘层、所述第二导电层、所述第二绝缘层位于所述基板的同侧。
一种显示面板，包括本发明所述的触控彩膜基板。
一种显示装置，包括本发明所述的显示面板。
一种触控彩膜基板的制作方法，该方法包括：
采用与制作黑矩阵BM相同的掩膜板，在基板上制作形成第一导电层；
在形成有第一导电层的基板上制作形成第一绝缘层；
所述第一绝缘层的显示区域图案与所述第一导电层的显示区域图案相同。
在制作形成第一绝缘层后，该方法还包括：
在形成有第一绝缘层的基板上，采用制作BM的掩膜板制作形成所述BM。
在制作形成第一绝缘层后，该方法还包括：
在形成有第一绝缘层的基板上制作形成第二导电层，所述第二导电层接公共地，并在形成有第二导电层的基板上制作形成第二绝缘层；
所述第二导电层的显示区域图案与所述第一导电层的显示区域图案相同；
所述第二绝缘层的显示区域图案与所述第一导电层的显示区域图案相同。
在制作形成第二绝缘层后，该方法还包括：
在形成有第二绝缘层的基板上，采用制作BM的掩膜板制作形成所述BM。
本发明所提供的一种触控彩膜基板及其制作方法、显示面板和显示装置，制作与BM图案相同的第一导电层，且第一导电层制作在彩膜基板的内侧，这样既不会影响LCD的显示效果，也省去了翻转工艺，从而能够降低制作LCD的工艺复杂性；另外，不再整面制作导电层，也能够提高LCD的透过率；再有，制作形成的第二导电层还能够有效屏蔽LCD对表面电容所带来的信号干扰。
附图说明
图1为现有技术中TFT-LCD的常规On-Cell表面电容式结构示意图；
图2为本发明实施例的一种彩膜基板的电容式制作方法的流程图；
图3为本发明实施例的另一种彩膜基板的电容式制作方法的流程图；
图4为本发明实施例的一种彩膜基板的结构示意图。
附图标记说明：
101  偏振片；102  导电层；103  上基板；104  黑矩阵；105  彩膜层；106  公共电极层；107  取向层；108  液晶；109  阵列基板；1021第一导电层；1022  第二导电层；1101  第一绝缘层；1102  第二绝缘层。
具体实施方式
下面结合附图和具体实施例对本发明的技术方案进一步详细阐述。
本发明实施例提供一种触控彩膜基板的制作方法，如图2所示，该方法主要包括：
步骤201，采用与制作黑矩阵(BM)相同的掩膜板，在基板上制作形成第一导电层。
用于制作彩膜(CF)基板的基板可以是玻璃基板或塑料基板。在用于制作彩膜(CF)的基板上，采用与制作BM相同的掩膜板，制作形成第一导电层。也就是说，制作第一导电层和制作BM时所采用的掩膜板为相同的掩膜板，那么在触控彩膜基板上形成的第一导电层和BM的图案是相同的。第一导电层是作为触控彩膜基板的电容传感器(Capacitive sensor)，其材料可以是ITO，当然，本发明实施例的第一导电层并非仅限于ITO这一种材料，其他可以用作触控彩膜基板上Capacitive sensor的材料也都属于本发明实施例的保护范围。
步骤202，在形成有第一导电层的基板上制作形成第一绝缘层。
第一绝缘层的材料可以是二氧化硅(SiO2)，当然，本发明实施例的第一绝缘层并非仅限于SiO2这一种材料，其他可以用作彩膜基板上绝缘层的材料也都属于本发明实施例的保护范围。制作形成的第一绝缘层需保证其显示区域图案与第一导电层的显示区域图案相同，只是第一绝缘层的周边焊接(bonding)区域需要挖空，以便于第一导电层引出。
随后，在形成有第一绝缘层的基板上，采用制作BM的掩膜板制作形成BM，后续工序与制作彩膜基板的正常工序相同，此处不再赘述。
作为本发明的一种较佳实施例，如图3所示，在步骤202之后，还包括：
步骤203，在形成有第一绝缘层的基板上制作形成第二导电层，所述第二导电层接公共地(比如触控屏的金属框)。
制作形成的第二导电层需保证其显示区域图案与第一导电层的显示区域图案相同，在第二导电层的周边引线区域能连接一根用于接公共地的引线即可。
第二导电层可以是ITO，也可以是其他导电材料。
步骤204，在形成有第二导电层的基板上制作形成第二绝缘层。
制作形成的第二绝缘层需保证其显示区域图案与第一导电层的显示区域图案相同，第二绝缘层中除显示区域的其他区域能够保证第二导电层和公共电极层无接触，且保证第一导电层的信号引出即可。
第二绝缘层可以是SiO2，也可以是其他绝缘材料。
随后，在形成有第二绝缘层的基板上，采用制作BM的掩膜板制作形成BM，后续工序与制作彩膜基板的正常工序相同，此处不再赘述。
对应图2所示的方法，本发明实施例提供的一种触控彩膜基板，在制作彩膜基板的基板上形成有第一导电层，所述第一导电层的图案与所述基板上的BM的图案相同，在形成有第一导电层的所述基板上形成有第一绝缘层，所述第一绝缘层的显示区域图案与第一导电层的显示区域图案相同。在形成有所述第一绝缘层的所述基板上形成有所述BM，且所述BM和所述第一导电层、第一绝缘层位于所述基板的同侧。
对应图3所示的方法，本发明实施例提供的另一种触控彩膜基板，如图4所示，101表示偏振片，103表示上基板(即用于制作的彩膜基板的基板，可以是玻璃基板或塑料基板)，上基板103上形成有第一导电层1021，所述第一导电层1021是通过制作BM的掩膜板制作形成的，第一导电层1021上形成有第一绝缘层1101，在第一绝缘层1101上形成有第二导电层1022，在第二导电层1022上形成有第二绝缘层1102，在第二绝缘层1102上形成有黑矩阵104，其中，黑矩阵104的图案与第一导电层1021的图案相同，黑矩阵104与第一导电层1021、第一绝缘层1101、第二导电层1022、第二绝缘层1102都位于上基板103的同一侧。另外，在上基板103上还有通过制作彩膜基板的正常工序所形成的各层，如：彩膜层105、公共电极层106、取向层107等等。彩膜基板与阵列基板109对盒，中间填充液晶108。且第二导电层1022的显示区域图案与第一导电层1021的显示区域图案相同；第二绝缘层1102的显示区域图案与所述第一导电层1021的显示区域图案相同。
本发明实施例制作与BM图案相同的第一导电层1021，且第一导电层1021制作在彩膜基板的内侧，这样既不会影响LCD的显示效果，也省去了翻转工艺，从而能够降低制作LCD的工艺复杂性；另外，不再整面制作导电层，也能够提高LCD的透过率；再有，制作形成的第二导电层还能够有效屏蔽LCD对表面电容所带来的信号干扰。
另外，采用本发明实施例所述触控彩膜基板的显示面板、以及采用所述显示面板的显示装置应当都属于本发明实施例的保护范围。
以上所述，仅为本发明的较佳实施例而已，并非用于限定本发明的保护范围。

Claims (10)

1.一种触控彩膜基板，其特征在于，在基板上形成有第一导电层，所述第一导电层的图案与所述基板上的黑矩阵BM的图案相同；在形成有第一导电层的所述基板上形成有第一绝缘层，所述第一绝缘层的显示区域图案与所述第一导电层的显示区域图案相同。
2.根据权利要求1所述触控彩膜基板，其特征在于，在形成有所述第一绝缘层的所述基板上形成有所述BM，且所述BM和所述第一导电层、所述第一绝缘层位于所述基板的同侧。
3.根据权利要求1所述触控彩膜基板，其特征在于，在形成有所述第一绝缘层的所述基板上形成有第二导电层，所述第二导电层接公共地；且在形成有所述第二导电层的所述基板上形成有第二绝缘层；且所述第二导电层的显示区域图案与所述第一导电层的显示区域图案相同；所述第二绝缘层的显示区域图案与所述第一导电层的显示区域图案相同。
4.根据权利要求1所述触控彩膜基板，其特征在于，在形成有所述第二绝缘层的所述基板上形成有所述BM，且所述BM和所述第一导电层、所述第一绝缘层、所述第二导电层、所述第二绝缘层位于所述基板的同侧。
5.一种显示面板，其特征在于，包括权利要求1至4任一项所述的触控彩膜基板。
6.一种显示装置，其特征在于，包括权利要求5所述的显示面板。
7.一种触控彩膜基板的制作方法，其特征在于，该方法包括：
采用与制作黑矩阵BM相同的掩膜板，在基板上制作形成第一导电层；
在形成有第一导电层的基板上制作形成第一绝缘层；
所述第一绝缘层的显示区域图案与所述第一导电层的显示区域图案相同。
8.根据权利要求7所述触控彩膜基板制作方法，其特征在于，在制作形成第一绝缘层后，该方法还包括：
在形成有第一绝缘层的基板上，采用制作BM的掩膜板制作形成所述BM。
9.根据权利要求7所述触控彩膜基板的制作方法，其特征在于，在制作形成第一绝缘层后，该方法还包括：
在形成有第一绝缘层的基板上制作形成第二导电层，所述第二导电层接公共地，并在形成有第二导电层的基板上制作形成第二绝缘层；
所述第二导电层的显示区域图案与所述第一导电层的显示区域图案相同；
所述第二绝缘层的显示区域图案与所述第一导电层的显示区域图案相同。
10.根据权利要求9所述触控彩膜基板的制作方法，其特征在于，在制作形成第二绝缘层后，该方法还包括：
在形成有第二绝缘层的基板上，采用制作BM的掩膜板制作形成所述BM。
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