CN103995609A - 触控装置及其形成方法 - Google Patents

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Abstract

一种触控装置，包括：盖板，具有可视区及位于可视区侧边的遮蔽区，遮蔽区包括第一区域、第二区域以及第三区域；第一遮蔽层，设置于盖板的表面且位于第一区域及第二区域内，其中第一遮蔽层具有一平整表面；信号引线层，位于第一区域内且设置于第一遮蔽层的平整表面上；以及第二遮蔽层，至少位于靠近盖板边缘的第三区域内，其中，第二遮蔽层的粘度大于第一遮蔽层的粘度。本发明另提供一种触控装置的形成方法。采用本发明的触控装置，可避免遮蔽层采用黑色光阻等粘性较低的材料时，形成于盖板边缘的遮蔽层表面产生不平整的问题。

Description

触控装置及其形成方法
技术领域
本发明系有关于触控技术，且特别是有关于一种触控装置及其形成方法。
背景技术
近年来，触控装置已经被大量应用在各种电子产品中，例如手机、个人数位助理(PDA)或掌上型个人电脑等。随着应用的需求，近年来已发展出一种薄型化设计的触控装置，由于此种薄型化触控装置具有轻薄的优点，逐渐受到使用者的青睐。
请参考第1图，为一薄型化触控装置的剖面示意图，此薄型化触控装置由保护外盖10、遮蔽层20与触控元件30所组成，其中，遮蔽层20与触控元件30皆直接形成于保护外盖10的一侧，而保护外盖10的另一侧则供使用者触摸以输入讯息或操控电子产品。
上述的薄型化触控装置中，遮蔽层20是由低黏度(粘度约3－50cps)的遮光材料所形成，由第1图可看出遮蔽层20的表面是由一平整表面202与一突起表面204所构成的不平整表面。遮蔽层20之所以会有不平整的表面产生是因为低黏度遮蔽材料在一开始涂布时即会因表面张力的物理现象而在靠近保护外盖10的边缘形成不平整的突起表面，使得后续固化成型的遮蔽层20也不会具有一个平整的表面。
而遮蔽层20的不平整表面会影响后续触控元件30的形成品质，进而降低薄型化触控装置的产品良率。
发明内容
依据本发明的实施例，在触控装置中分别形成具低黏度的第一遮蔽层及具高黏度的第二遮蔽层，让第二遮蔽层的高粘度特性在靠近保护盖板边缘的地方仍能维持平整的表面，以减少后续对形成触控元件的影响，进而提高触控装置的产品良率。
本发明一实施例提供一种触控装置，包括：一盖板，具有一可视区及一位于该可视区侧边的遮蔽区，该遮蔽区从该可视区往该盖板边缘的方向依序划分的区域包括一第一区域、一第二区域以及一第三区域；一第一遮蔽层，设置于该盖板的表面且位于该第一区域及该第二区域内，其中该第一遮蔽层具有一平整表面；一信号引线层，位于该第一区域内且设置于该第一遮蔽层的该平整表面上；以及
一第二遮蔽层，至少位于靠近该盖板边缘的该第三区域内，其中，该第二遮蔽层的粘度大于该第一遮蔽层的粘度。
本发明另一实施例提供一种触控装置的形成方法，包括：提供一盖板，该盖板具有一可视区及一位于该可视区侧边的遮蔽区，该遮蔽区从该可视区往该盖板边缘的方向依序划分的区域包括一第一区域、一第二区域以及一第三区域；形成一第一遮蔽层于该盖板的表面且位于该第一区域及该第二区域内，其中该第一遮蔽层具有一平整表面；形成一信号引线层于该第一区域内且设置于该第一遮蔽层的该平整表面上；以及形成一第二遮蔽层于至少靠近该盖板边缘的该第三区域内，其中，该第二遮蔽层的粘度大于该第一遮蔽层的粘度。
本发明通过第一遮蔽层内缩的设计，可避免第一遮蔽层采用黑色光阻材料等粘性较低的材料时，形成于盖板边缘的第一遮蔽层表面产生不平整的问题。
为让本发明的上述和其他目的、特征、和优点能更明显易懂，下文特举出较佳实施例，并配合所附图式，作详细说明如下：
附图说明
图1显示为一传统薄型化触控装置的剖面示意图。
图2a显示在本发明一实施例中触控装置100的剖面图。
图2b则显示图2a中盖板110的上视示意图。
图3显示本发明一实施例中电极部的上视图。
图4a至图4g显示第一遮蔽层120在第二区域II内可能的图案。
图5显示在本发明另一实施例中的触控装置的剖面图。
图6显示在本发明又一实施例中的触控装置的剖面图。
图7显示在本发明一实施例中的触控装置的方法流程图。
图8至图12显示依照图7的方法形成触控装置的各阶段剖面图或上视图。
【主要元件符号说明】
V－可视区
M－遮蔽区
I－第一区域
II－第二区域
III－第三区域
100、400、500－触控装置
110、510－盖板
130、530－感测层
131、531－电极部
131X、531X-第一电极
131Y-第二电极
131Z、531Z－连接部
133、533－跨接部
140、540－导电部
150、550－信号引线层
160、560－保护层
170、570－第二遮蔽层
602、604、606、608－步骤
具体实施方式
以下依本发明的不同特征举出数个不同的实施例。本发明中特定的元件及安排系为了简化，但本发明并不以这些实施例为限。举例而言，于第二元件上形成第一元件的描述可包括第一元件与第二元件直接接触的实施例，亦包括具有额外的元件形成在第一元件与第二元件之间、使得第一元件与第二元件并未直接接触的实施例。此外，为简明起见，本发明在不同例子中以重复的元件符号及/或字母表示，但不代表所述各实施例及/或结构间具有特定的关系。
参照第2a与2b图，其中第2a图显示在本发明一实施例中触控装置100的剖面图，第2b图则显示图2a中盖板110的上视示意图。触控装置100包含盖板110、第一遮蔽层120、信号引线层150与第二遮蔽层170，其中，盖板110具有可视区V及位于可视区V侧边的遮蔽区M，遮蔽区M从可视区V往盖板110边缘的方向依序划分的区域包括第一区域I、第二区域II以及第三区域III；第一遮蔽层120则设置于盖板110的表面且位于第一区域I及第二区域II内，其中第一遮蔽层120具有一平整表面；信号引线层150位于第一区域I内且设置于第一遮蔽层120的平整表面上；以及第二遮蔽层170，至少位于靠近盖板110边缘的第三区域III内，其中，第二遮蔽层170的粘度大于第一遮蔽层120的黏度。
如第2a图所示，触控装置100更包括电性连接信号引线层150的感测层130，感测层130是设置于盖板110的表面上且位于盖板110的可视区V范围内。
在本实施例中，触控装置100更包括导电部140，导电部140用以电性连接感测层130与信号引线层150。在其它实施例中，感测层130亦可直接与信号引线层150电性连接，即触控装置100可不包括导电部140。
在本实施例中，触控装置100更包括保护层160，其中保护层160的一面在第三区域III是设置在盖板110的表面上，在第二区域II是设置在第一遮蔽层120的平整表面上，在第一区域I是设置在信号引线层150上，而保护层160的另一面则承载第二遮蔽层170。
在一实施例中，第一遮蔽层120与第二遮蔽层170的颜色相同。在另一实施例中，第一遮蔽层120与第二遮蔽层170的颜色不同。
请再参考第2a图与第2b图，以下将更详细地说明本发明的技术方案。
在本实施例中，遮蔽区M更进一步是围绕着可视区V的周边，遮蔽区M的第一区域I是围绕可视区V，第二区域II围绕第一区域I，且第三区域III围绕第二区域II。不难理解，第一区域I、第二区域II、第三区域III可不限定于第2b图所示的形状。
在一实施例中，第二区域II的宽度介于1.5mm至3.5mm，第三区域III的宽度介于0.25mm至0.5mm。然而，本领域具通常知识者应可了解遮蔽区M的第一区域I、第二区域II、第三区域III的宽度也可视装置需要调整为其它宽度，并非以此为限。
前述设置于盖板110的表面且位于第一区域I及第二区域II内的第一遮蔽层120是具有一平整表面。要说明的是，本发明所描述的平整表面，系为区别于先前技术中遮蔽层边缘具有明显的不平整表面（如明显突起），亦即本发明所描述的平整表面，并不限定于如第2a图所绘示的沿水平方向具同一厚度的理想情况，第一遮蔽层120的平整表面亦可包含厚度渐变等情况，例如导电部140爬坡位置的第一遮蔽层120可为平滑的弧面状，其将有利于导电部140在该位置的爬坡，避免导电部140可能存在爬坡断裂的问题。
在本实施例中，位于第二区域II内的第一遮蔽层120具有渐变图案。第4a至4g图显示第一遮蔽层120在第二区域II内可能的图案。如第4a至4g图所示，第一遮蔽层120在第二区域II内的渐变的图案可有各种不同的形状及样式。在一些实施例中，渐变的图案包括复数个相同或相异的图形、符号、文字、数字、或前述之组合。在另一实施例中，渐变的图案包括复数个阵列式排列的孔洞。在又一实施例中，渐变的图案包括复数个三角形、圆形、矩形、或前述之组合。
在本实施例中，如第2a图所示，感测层130包含一电极部131、复数绝缘部132、复数跨接部133。更具体地，请同时参考第3图，第3图绘示了一种可应用于本发明的电极部的上视图。电极部131包含复数个排列成列的第一电极131X，复数个排列成行的第二电极131Y，以及连接相邻的第二电极131Y的复数连接部131Z。复数跨接部133可用以连接在同一列上且相邻的第一电极131X。复数绝缘部132可设置于连接部131Z与跨接部133之间，用以电性绝缘连接部131Z和跨接部133。
需说明的，尽管第1图与第3图的第一电极131X等元件的数量不同，但不难理解，第1图与第3图仅为示例，并不用以限定实际第一电极131X等元件的数量和样态，且第一电极131X和第二电极131Y的形状亦不限定于图示中的菱形或三角形形状。另应注意的是，第2a图所示的感测层130仅为举例说明之用，在本发明其他实施例中也可具有其它图案及形式的感测层，本发明的范畴并非以此为限。
在本实施例中，触控装置100还包含用以电性连接信号引线层150和第一电极131X的导电部140。其中，导电部140可与跨接部133在同一制程步骤中以相同材料形成，即两者可一体化形成，但两者亦可采用不同的材料。在另一实施例中，信号引线层150可直接电性连接第一电极131X。
信号引线层150位于第一区域I内且设置于第一遮蔽层120的平整表面上，且与感测层130电性连接，藉由信号引线层150，可将第一电极131X感应的电性变化传送至信号处理器(未绘示)。另外，排列成行的第二电极131Y也可藉由另一信号引线层(未绘出)传送其感应的电信号变化。需说明的是，信号引线层150与导电部140可仅形成于第一遮蔽层120的一侧，即单边引线的方式。第1图所示的为双边引线方式，连接同一轴向的信号引线层150可通过并联的形式连接至信号处理器（图未示），当触控装置尺寸较大时，通过双边引线的方式有利于减轻信号衰减的问题。
在一实施例中，第二遮蔽层170可仅位于靠近盖板110边缘的第三区域III内。
在一实施例中，第二遮蔽层170的设置范围可更包括第二区域II，即第二遮蔽层170位于第二区域II和第三区域III内。
在一较佳实施例中，如第2a图所示，第二遮蔽层170的设置范围更包括第二区域II与第一区域I，即第二遮蔽层170可由遮蔽区M的第一区域I延伸至第二区域II及第三区域III，使得第二遮蔽层170的范围涵盖整个遮蔽区M。
第二遮蔽层170位于信号引线层150上且位于遮蔽区M内，可使遮蔽区M的遮光效果更佳。此外，由于第一遮蔽层120仅设置于遮蔽区M的第一区域I及第二区域II而未延伸进入第三区域III，因此可避免位于盖板110的边缘的第一遮蔽层120，因物理因素而出现的不平整表面影响触控装置的良率。
由于第一遮蔽层120与第二遮蔽层170不同时形成且两者材料选择上存在差异，故当两者采用相同或相近的颜色，不可避免地，还是容易察觉到两者之间存在色差，本发明藉由第一遮蔽层120的渐变图案，使得第一遮蔽层120及第二遮蔽层170之间交界的部分(亦即盖板110的第二区域II)具有良好的过渡区。相对颜色直接过渡存在的突兀感，渐变图案使得相近颜色之间的过渡存在层次感，尽而可使肉眼不容易察觉到第一遮蔽层120、第二遮蔽层170之间的色差，同时能达到较佳的遮蔽效果。
另，当第一遮蔽层120与第二遮蔽层170采用不相同的颜色时，将使得触控装置100的遮蔽区M具有复合颜色和图案，进而可满足触控装置100遮蔽区M颜色和图案多样化的需求。
以下，将详述触控装置100各组成元件的其它特性。
盖板110可采用透明绝缘材料，如玻璃材质或PET等塑胶材质。盖板110可为硬质基板或可挠式基板。盖板110可为平面形状、曲面形状，或前述之组合，更具体地，盖板110例如为2.5D玻璃。
第一遮蔽层120系主要由树脂、颜料、感光剂和溶剂组成的有色光阻材料，且其粘度可小于150cps，例如介于3cps至50cps，或者介于60cps至100cps。在一较佳实施例中，第一遮蔽层120采用黑色光阻材料，其粘度可介于3cps至50cps。
电极部131采用透明导电材料，例如为奈米银丝（SilverNano-Wire，SNW）、碳奈米管(Carbon nanotube，CNT)、石墨烯（Graphene）以及氧化金属(ITO、AZO…)等。在一实施例中，电极部131为高温形成的铟锡氧化物(ITO)层，其形成温度可介于300℃至350℃，通过高温形成的铟锡氧化物(ITO)层的透光性较好。
跨接部133可为银、铝等金属材料、铟锡氧化物(ITO)透明导电材料，或前述之组合。且较佳地，导电部140与跨接部133相同的透明导电材料，例如铟锡氧化物(ITO)等透明导电材料，如此可避免信号引线层150采用金属等材料时，直接电性连接感测层130，造成信号引线层150可视的问题。
绝缘部132采用绝缘材料，例如为光阻，其可利用曝光与显影制程形成。在一实施例中，绝缘部132为有机或无机的绝缘材料，例如为聚亚酰胺(polyimide)、环氧树脂等材料。
信号引线层150的材料例如为银、铝等金属材料、铟锡氧化物(ITO)等透明导电材料，或前述之组合。较佳地，信号引线层150采用金属材料，金属材料具有较佳的导电性。
在一实施例中，当电极部131采用铟锡氧化物(ITO)材料，其形成温度可介于300℃至350℃；跨接部132A亦可采用铟锡氧化物(ITO)材料，其形成温度可介于20℃至30℃。高温(可介于300℃至350℃)形成的铟锡氧化物(ITO)和低温(可介于20℃至30℃)形成的铟锡氧化物(ITO)，在采用微影蚀刻工艺形成图案化形状时，所用的蚀刻液不同，亦即在形成跨接部133时，并不会破坏已形成的电极部131。
保护层160可采用透明绝缘材料，例如为光阻或二氧化硅。在一实施例中，当保护层160采用透明光阻材料时，其厚度可为1500nm至2000nm。在另一实施例中，当保护层160采用二氧化硅材料时，其厚度可为10nm至30nm。保护层160的材料和厚度可根据不同产品需求作调整，并不限定于以上材料及厚度。
第二遮蔽层170可与第一遮蔽层120具有不同的粘度，且较佳地，第二遮蔽层170采用粘度较高的材料（例如可介于3500cps-12000cps，更具体地，可为4000cps、6000cps或7500cps），以便较好地控制第二遮蔽层170的表面平整度。第二遮蔽层170可为有色油墨材料(例如黑色油墨材料)，其可由颜料、连结料和助剂所组成，且粘度可达上万cps，其可通过印刷方式形成。较佳地，第一遮蔽层120与第二遮蔽层170采用相同或相近的颜色。
需说明的是，由于触控装置100形成过程中可能存在高温步骤（如电极部131采用高温形成的铟锡氧化物、以及形成过程可能存在烘烤等步骤），且感测层130、信号引线层150等组件通常采用微影蚀刻的工艺形成，因此第一遮蔽层120采用可通过微影蚀刻工艺处理的光阻材料，可确保在形成第二遮蔽层170之前，触控装置100可在相同或相近的环境条件（包括温度、湿度、真空度等）下进行，进而可提高效率。
第5图显示在本发明另一实施例中的触控装置的剖面图。第5图与第1图所示触控装置的差别在于，在第5图中，第二遮蔽层170系直接形成于信号引线层150上，而后再形成保护层160。更具体地，在本实施例中，第二遮蔽层170在第三区域III是设置在盖板110的表面上；第二遮蔽层170在第二区域II是设置在第一遮蔽层120的平整表面上；第二遮蔽层170在第一区域I是设置在信号引线层150上。本实施例触控装置400的其它特性可与前一实施例相同，此处不再赘述。
第6图显示在本发明又一实施例中的触控装置的剖面图。第6图与第1图所示触控装置100的差别在于感测层530的结构。在第6图中，在可视区V中先形成跨接部533及绝缘部532，而后再形成电极部531和导电部540。请复参考第1图和第3图，与第1图电极部131相似，电极部531包含复数个排列成列的第一电极531X，复数个排列成行的第二电极（图6未绘示），以及连接相邻的第二电极的复数连接部531Z。复数跨接部533，用以连接相邻在同一列上的第一电极531X。复数绝缘部532，设置于连接部531Z与跨接部533之间，用以电性绝缘连接部531Z和跨接部533。
跨接部533可为银、铝等金属材料、铟锡氧化物(ITO)等透明导电材料，或前述之组合。在一实施例中，跨接部533为高温形成的铟锡氧化物(ITO)层，其形成温度可介于300℃至350℃。
感测层530采用透明导电材料，例如为奈米银丝（SilverNano-Wire，SNW）、碳奈米管(Carbon nanotube，CNT)、石墨烯（Graphene）以及氧化金属(ITO、AZO…)等。
在一实施例中，当跨接部533采用高温(可介于300至350℃)形成的铟锡氧化物(ITO)材料时，电极部531可采用低温(可介于20℃至30℃)形成的铟锡氧化物(ITO)材料。
相似于第1图，在此实施例中，信号引线层550系藉由导电部540与第一电极531X产生电性连接，且较佳地，导电部540与电极部531采用相同的材料(如铟锡氧化物材料)，且两者同时形成。
在信号引线层550上设置有保护层560，且在保护层560上设置有第二遮蔽层570，且第二遮蔽层570位于遮蔽区M中。本实施例触控装置500的其它特性可与图1所绘示的实施例相同，此处不再赘述。
此外，不难理解，在另一实施例中，触控装置可具有类似第6图所示的感测层结构，然而其第二遮蔽层可直接形成于信号引线层上，而后再形成保护层(类似第5图的结构)。
第7图显示形成本发明触控装置的方法流程图。第8至12图则显示依照第7图的方法形成触控装置的各阶段剖面图或上视图。参照第7图，在步骤602中，提供一盖板，该盖板具有一可视区及一位于该可视区侧边的遮蔽区，该遮蔽区从该可视区往该盖板边缘的方向依序划分的区域包括一第一区域、一第二区域以及一第三区域；在步骤604中，形成一第一遮蔽层于该盖板的表面且位于该第一区域及该第二区域内，其中该第一遮蔽层具有一平整表面；在步骤606中，形成一信号引线层于该第一区域内且设置于该第一遮蔽层的该平整表面上；以及在步骤608中，形成一第二遮蔽层于至少靠近该盖板边缘的该第三区域内，其中，该第二遮蔽层的粘度大于该第一遮蔽层的粘度。
在本发明的触控装置的形成方法中，更包括形成一电性连接该信号引线层的感测层，该感测层是形成于该盖板的表面上且位于该盖板的该可视区范围内。以下将结合第8图至第12图进行详述。
参照第7、8图，在步骤602中，提供盖板110，盖板110具有可视区V及位于可视区V侧边的遮蔽区M，遮蔽区M从可视区往盖板110边缘的方向依序划分的区域包括第一区域I、第二区域II以及第三区域III。请复参考第2b图，在一实施例中，遮蔽区M更进一步是围绕着可视区V的周边，遮蔽区M的第一区域I是围绕可视区I，第二区域II围绕第一区域I，且第三区域III围绕第二区域II。
盖板110可采用透明绝缘材料，如玻璃材质或PET等塑胶材质。盖板110可为硬质基板或可扰式基板。盖板110可为平面形状、曲面形状，或前述之组合，更具体地，在一实施例中，盖板110例如为2.5D玻璃或3D玻璃。
第二区域II的宽度可介于1.5mm至3.5mm，第三区域III的宽度可介于0.25mm至0.5mm。然而，本领域具通常知识者应可了解遮蔽区132的第一区域I、第二区域II、第三区域III的宽度也可视装置需要调整为其它宽度，并非以此为限。另，第一区域I、第二区域II、第三区域III亦不限定于图2所示的形状。
参照第3、7、9图，在步骤602与步骤604之间，可先在可视区V内的盖板110上形成电极部131，其中，电极部131包含复数个排列成列的第一电极131X，复数个排列成行的第二电极131Y，以及连接相邻的第二电极131Y的复数连接部131Z。电极部131采用透明导电材料，例如为奈米银丝（Silver Nano-Wire，SNW）、碳奈米管(Carbonnanotube，CNT)、石墨烯（Graphene）以及氧化金属(ITO、AZO…)等。电极部131的形成方法例如为全面性的沉积透明导电材料层，而后再利用微影、蚀刻制程将透明导电材料层图案化，以形成电极部131。上述沉积的方法例如为溅镀(sputtering)，或其他已知的沉积方法。在一实施例中，电极部131采用铟锡氧化物(ITO)材料，其形成温度可介于300至350℃。
而后，参照第10图，在步骤604中在遮蔽区M的第一区域I及第二区域II内形成第一遮蔽层120，其中，位于第二区域II内的第一遮蔽层120具有渐变图案(图中未显示，请参照第4a至4g图)。在一些实施例中，渐变的图案包括复数个相同或相异的图形、符号、文字、数字、或前述之组合。在另一实施例中，渐变的图案包括复数个阵列式排列的孔洞。在又一实施例中，渐变的图案包括复数个三角形、圆形、矩形、或前述之组合。第一遮蔽层120系主要由树脂、颜料、感光剂和溶剂组成的有色光阻材料，且其粘度可小于150cps，例如介于3cps至50cps，或者介于60cps于100cps。在一较佳实施例中，第一遮蔽层120采用黑色光阻材料，其粘度可介于3至50cps。形成第一遮蔽层渐变的图案的方法例如为微影、蚀刻，或者可为任何已知或未来发展的图案化方法。
继续参照第11图，在步骤604与步骤606之间，在电极部131的各连接部131Z上方形成绝缘部132。绝缘部132可采用绝缘材料，例如为光阻，其可利用微影或印刷制程将此绝缘材料图案化，形成绝缘部132。在一实施例中，绝缘部132为有机或无机的绝缘材料，例如为聚亚酰胺(polyimide)、环氧树脂等材料。
然后，在绝缘部132上形成跨接部133。此外，可同时在第一遮蔽层120上形成与感测层130电性连接的导电部140。跨接部133可为银、铝等金属材料、铟锡氧化物(ITO)等透明导电材料，或前述之组合。且较佳地，跨接部133与导电部140采用铟锡氧化物(ITO)等透明导电材料，如此可使避免信号引线层150采用金属等材料时，直接电性连接电极部131，造成信号引线层150可视的问题。形成跨接部133和导电部140可采用微影与蚀刻制程或者印刷制程。
在一实施例中，当电极部131采用铟锡氧化物(ITO)材料时，其形成温度可介于300℃至350℃；跨接部132A亦可采用铟锡氧化物(ITO)材料，其形成温度介于20℃至30℃，但并不以此为限。高温形成的铟锡氧化物(ITO)和低温形成的铟锡氧化物(ITO)，在采用微影蚀刻工艺形成图案化形状时，所用的蚀刻液不同，亦即在形成跨接部133和导电部140时，并不会破坏已形成的电极部131。至此，感测层130形成，其组成元件前已详述，故此处不再赘述。
另不难理解，在另一实施例中，当感测层采用如第6图所示的结构时，电极部531可采用铟锡氧化物(ITO)材料，其形成温度可介于20℃至30℃；跨接部533亦可采用铟锡氧化物材料，其形成温度可介于300℃至350℃，且较佳地，导电部540亦采用铟锡氧化物(ITO)材料，其可与电极部531同时形成。
参照第11图，在步骤606中，在第一遮蔽层120上形成信号引线层150，信号引线层150与电极部131可藉由导电部140电性连接。在另一实施例中，可不形成导电部140，即可直接将信号引线层150与电极部131电性连接。信号引线层150的材料例如为银、铝等金属材料、铟锡氧化物(ITO)等透明导电材料，或前述之组合。较佳地，信号引线层150金属材料，这些材料具有较佳的导电性。信号引线层150可藉由为影与蚀刻制程或者印刷制程形成。在另一较佳实施例中，若跨接部133与信号引线层150采用相同材料，如皆为金属材料，则跨接部133可与信号引线层150在步骤606中同时完成。
参照第11图，在步骤606与步骤608之间，本发明的触控装置的形成方法，更包括在信号引线层150形成之后形成保护层150。更具体地，参照第11图，保护层160的一面在第三区域III是设置在盖板110的表面上，在第二区域II是设置在第一遮蔽层120的平整表面上，在第一区域I是设置在信号引线层150上，而保护层160的另一面则用以承载后续形成的第二遮蔽层170（如第12图所示）。保护层160可采用透明绝缘材料，例如为光阻或二氧化硅。在一实施例中，当保护层160采用透明光阻材料时，其厚度可为1500nm至2000nm。在另一实施例中，当保护层160采用二氧化硅材料时，其厚度可为10nm至30nm。保护层160的材料和厚度可根据不同产品需求作调整，并不限定于以上材料及厚度。
参照第12图，在步骤608中，在位于遮蔽区M内的保护层160上形成第二遮蔽层170。
在一实施例中，第二遮蔽层170可仅位于靠近盖板110边缘的第三区域III内。
在一实施例中，第二遮蔽层170的设置范围可更包括第二区域II，即第二遮蔽层170位于第二区域II和第三区域III内。
在一较佳实施例中，如第12图所示，第二遮蔽层170的设置范围更包括第二区域II与第一区域I，即第二遮蔽层170可由遮蔽区M的第一区域I延伸至第二区域II及第三区域III，使得第二遮蔽层170的范围涵盖整个遮蔽区M。
在上述实施例中，是在信号引线层150形成之后形成保护层160，而在保护层160形成之后再形成第二遮蔽层170。应注意的是，在另一实施例中，如第5图所绘示，第二遮蔽层170是在信号引线层150形成之后形成，而后再形成保护层160，在此实施例中，第二遮蔽层170在第三区域III是设置在盖板110的表面上，而在另一较佳实施例中，第二遮蔽层170的形成范围可更包括第二区域II与第一区域I，第二遮蔽层170在第二区域II是设置在第一遮蔽层120的平整表面上；第二遮蔽层170在第一区域I是设置在信号引线层150上。
在一实施例中，第二遮蔽层170可与第一遮蔽层120具有不同的粘度，且较佳地，第二遮蔽层170采用粘度较高的材料（例如可介于3500cps-12000cps，更具体地，可为4000cps、6000cps或7500cps），以便较好地控制第二遮蔽层170的表面平整度。在一较佳的实施例中，第二遮蔽层170可为有色油墨材料（较佳地如黑色油墨），其可由颜料、连结料和助剂所组成，且粘度可达上万cps，其可通过印刷方式形成。较佳地，第一遮蔽层120与第二遮蔽层170采用相同或相近的颜色。
一般而言，在形成触控装置的遮蔽层时，需将光阻涂布至盖板(例如为玻璃)边缘。然而，由于光阻液体与玻璃边缘的物理影响，造成触控装置的遮蔽层在基板边缘容易出现偏薄、偏厚、缺失等不平整的现象。然而，在本发明一实施例的触控装置中，可利用二次涂布技术而避免上述问题。在第一次涂布后，可移除遮蔽区的边缘的不平整部分(即第一遮蔽层采用内缩的设计)，而留下具平整表面的第一遮蔽层，在平整表面上可形成具有渐变区域及正常区域的第一遮蔽层(例如为黑色光阻层)。而后，再利用与第一遮蔽层颜色相近或相同的涂料进行第二次涂布，而形成完全覆盖遮蔽区或仅覆盖部分遮蔽区的第二遮蔽层(例如为黑色油墨层)。藉此，可避免触控装置的边缘会有偏薄、偏厚、缺失等不平整的现象。应注意的是，若仅为重复涂布颜色相同或相近的涂料，虽然在盖板的涂布面的颜色一致，但不可避免，肉眼可察觉出色差（类似于常见颜料在不同时间点涂布，会出现色差的情况）。因此，在本发明的实施例中，藉由在第一遮蔽层及第二遮蔽层的交界处的渐变的图案，可让第一、第二遮蔽层的颜色交错，使得其色差能够有良好的过渡，而达到肉眼不容易分辨的程度。另，当第一遮蔽层与第二遮蔽层采用不相同的颜色时，藉由在第一遮蔽层及第二遮蔽层的交界处的渐变的图案，将使得触控装置的遮蔽区具有复合颜色和图案，进而可满足触控装置遮蔽区颜色和图案多样化的需求。
虽然本发明已以数个较佳实施例揭露如上，然其并非用以限定本发明，任何所属技术领域中具有通常知识者，在不脱离本发明的精神和范围内，当可作任意的更动与润饰，因此本发明的保护范围当视权利要求书所界定者为准。

Claims (21)

1.一种触控装置，其特征在于，包括：
一盖板，具有一可视区及一位于该可视区侧边的遮蔽区，该遮蔽区从该可视区往该盖板边缘的方向依序划分的区域包括一第一区域、一第二区域以及一第三区域；
一第一遮蔽层，设置于该盖板的表面且位于该第一区域及该第二区域内，其中该第一遮蔽层具有一平整表面；
一信号引线层，位于该第一区域内且设置于该第一遮蔽层的该平整表面上；以及
一第二遮蔽层，至少位于靠近该盖板边缘的该第三区域内，其中，该第二遮蔽层的粘度大于该第一遮蔽层的粘度。
2.根据权利要求1所述的触控装置，其特征在于，该第一遮蔽层的粘度介于3cps至50cps，该第二遮蔽层的粘度介于3500cps－12000cps。
3.根据权利要求1所述的触控装置，其特征在于，该第一遮蔽层系一光阻层，该第二遮蔽层系一油墨层。
4.根据权利要求1所述的触控装置，其特征在于，该第一遮蔽层与该第二遮蔽层的颜色相同。
5.根据权利要求1所述的触控装置，其特征在于，该第一遮蔽层与该第二遮蔽层的颜色不同。
6.根据权利要求1所述的触控装置，其特征在于，该遮蔽区的该第二区域的宽度介于1.5mm至3.5mm。
7.根据权利要求1所述的触控装置，其特征在于，该遮蔽区的该第三区域的宽度介于0.25mm至0.5mm。
8.根据权利要求1所述的触控装置，其特征在于，该遮蔽区更进一步是围绕着该可视区的周边，该遮蔽区的该第一区域是围绕该可视区，该第二区域围绕该第一区域，且该第三区域围绕该第二区域。
9.根据权利要求1所述的触控装置，其特征在于，该第二遮蔽层的设置范围更包括该第二区域。
10.根据权利要求1所述的触控装置，其特征在于，位于该第二区域内的该第一遮蔽层具有一渐变图案。
11.根据权利要求1所述的触控装置，其特征在于，该第二遮蔽层的设置范围更包括该第二区域与该第一区域，其中:
该第二遮蔽层在该第三区域是设置在该盖板的表面上；
该第二遮蔽层在该第二区域是设置在该第一遮蔽层的该平整表面上；以及
该第二遮蔽层在该第一区域是设置在该信号引线层上。
12.根据权利要求1所述的触控装置，其特征在于，更包括一保护层，其中该保护层的一面在该第三区域是设置在该盖板的表面上，在该第二区域是设置在该第一遮蔽层的该平整表面上，在该第一区域是设置在该信号引线层上，而该保护层的另一面则承载该第二遮蔽层。
13.根据权利要求1所述的触控装置，其特征在于，更包括一电性连接该信号引线层的感测层，该感测层是设置于该盖板的表面上且位于该盖板的该可视区范围内。
14.根据权利要求13所述的触控装置，其特征在于，该感测层包含：
一电极部，包含复数个排列成列的第一电极、复数个排列成行的第二电极，以及复数个连接相邻该第二电极的连接部；
复数跨接部，用以连接在同一列上且相邻的该第一电极；以及
复数绝缘部，设置于该连接部与该跨接部之间。
15.根据权利要求13所述的触控装置，其特征在于，更包含一导电部，该导电部用以电性连接该感测层与该信号引线层。
16.一种触控装置的形成方法，其特征在于，包括：
提供一盖板，该盖板具有一可视区及一位于该可视区侧边的遮蔽区，该遮蔽区从该可视区往该盖板边缘的方向依序划分的区域包括一第一区域、一第二区域以及一第三区域；
形成一第一遮蔽层于该盖板的表面且位于该第一区域及该第二区域内，其中该第一遮蔽层具有一平整表面；
形成一信号引线层于该第一区域内且设置于该第一遮蔽层的该平整表面上；以及
形成一第二遮蔽层于至少靠近该盖板边缘的该第三区域内，其中，该第二遮蔽层的粘度大于该第一遮蔽层的粘度。
17.根据权利要求16所述的触控装置的形成方法，其特征在于，该第二遮蔽层的形成范围更包括该第二区域。
18.根据权利要求17所述的触控装置的形成方法，其特征在于，位于该第二区域内的该第一遮蔽层具有一渐变图案。
19.根据权利要求16所述的触控装置的形成方法，其特征在于，该第二遮蔽层是在该信号引线层形成之后形成，而该第二遮蔽层的形成范围更包括该第二区域与该第一区域，其中:
该第二遮蔽层在该第三区域是形成在该盖板的表面上；
该第二遮蔽层在该第二区域是形成在该第一遮蔽层的该平整表面上；以及
该第二遮蔽层在该第一区域是形成在该信号引线层上。
20.根据权利要求16所述的触控装置的形成方法，其特征在于，更包括在该信号引线层形成之后形成一保护层，而在该保护层形成之后形成该第二遮蔽层，其中该保护层在该第三区域是形成在该盖板的表面上，在该第二区域是形成在该第一遮蔽层的该平整表面上，在该第一区域是形成在该信号引线层上。
21.根据权利要求16所述的触控装置的形成方法，其特征在于，更包括形成一电性连接该信号引线层的感测层，该感测层是形成于该盖板的表面上且位于该盖板的该可视区范围内。
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