CN103943785A - 光学调节膜及其制造方法 - Google Patents

Abstract

本发明提供了一种光学调节膜，其包括：基材和多个光散射颗粒，所述光散射颗粒为聚硅氧烷微球，所述基材为树脂；所述光散射颗粒均匀分散于所述基材中，二者通过热固化方式定型，形成所述光学调节膜。所述光学调节膜主要适用于顶发射OLED发光器件中，克服了此类发光器件中各个观测角度的发光光谱不一致的缺陷，以消除光色偏差。

Description

光学调节膜及其制造方法

技术领域

本发明涉及有机电致发光显示器领域，特别是一种光学调节膜及其制造方法、采用了所述光学调节膜的OLED封装结构及其制造方法，以及采用了所述OLED封装结构的AMOLED发光器件。

背景技术

有机电致发光器件（Organic Light-emitting Diode，以下简称：OLED），其具备主动发光、温度特性好、功耗小、响应快、可弯曲、超轻薄和成本低等优点。OLED按照出光方向可以分为三种：底发射、顶发射和双面发射OLED。其中，顶发射OLED是指光从器件顶部射出的OLED。顶发射OLED可以提高器件效率、窄化光谱和色纯度，但往往具有微腔效应。微腔效应会使OLED的电致发光光谱随观测角度变化，导致OLED因观测角度不同而出现光色偏差。

发明内容

有鉴于此，本发明主要提供了一种光学调节膜及其制造方法，其有效避免了由于现有技术的限制和缺陷导致的一个或更多的问题。

本发明解决上述技术问题所采用的技术方案之一为：

一种光学调节膜的制造方法，制造方法包括以下步骤：提供基材，并将基材溶化为液态；将光散射颗粒添加于所述液态中并进行搅拌，形成液固混合物；将添加了光散射颗粒的所述液态混合物作固化处理；将液态基材定型为固态基材，光散射颗粒分散设置于所述基材中，形成所述光学调节膜；其中，所述基材为树脂材料，所述光散射颗粒为聚合物。

本发明解决上述技术问题所采用的技术方案之二为：

采用上述制造方法而制成的光学调节膜。

本发明提供了一种光学调节膜，其包括基材和多个光散射颗粒。基材是树脂材料，能溶于有机溶剂中。光散射颗粒为聚合物颗粒，当基材溶于有机溶剂后，将光散射颗粒添加搅拌于液态基材内，然后通过热固化，掺加了光散射颗粒的基材定型为固态，形成具有光散射功能的光学调节膜。所述光学调节膜不仅制造工序简单，而且主要适用于顶发射OLED发光器件中，克服了此类发光器件中各个观测角度的发光光谱不一致的缺陷（微腔效应），以消除光色偏差。

附图说明

图1为本发明第一实施例中光学调节膜的剖面示意图。

图2为图1中A处的放大示意图。

图3为本发明第一实施例中光学调节膜制造方法的流程图。

图4为本发明第二实施例中光学调节膜的剖面示意图。

图5为本发明第二实施例中光学调节膜制造方法的流程图。

图6为本发明较佳实施例中OLED封装结构的剖面示意图。

图7为图6中OLED封装结构制造方法的流程图。

图8为本发明较佳实施例中AMOLED发光器件剖面示意图。

图9为图8中AMOLED发光器件制造方法的流程图。

附图标记说明：

AMOLED发光器件-1000；OLED封装结构-100；光学调节膜-10、10a；散射颗粒-12、12a；基材-14、14a；封装层-20；OLED结构层-30；盖层-32；阴极-34；有机层-36；阳极-38；底基板-40；TFT基板-200；驱动电路-300；像素定义层-400；间隔点-500；步骤1-S1、E1、D1、T1;步骤2-S2、E2、D2、T2;步骤3-S3、E3、D3、T3;步骤4-S4、E4、D4、T4；步骤5-S5、E5、D5、T5；光路-L。

具体实施方式

请参考图1，为本发明第一实施例所提供的光学调节膜10。

光学调节膜10包括基材12和多个光散射颗粒14，其膜层厚度为0.1～100μm。基材12为透明树脂材料，如丙烯酸树脂，但不限于此。光散射颗粒14选自尺寸为0.5～10μm的聚合物，其折射率为1～3，例如聚硅氧烷微球，但不限于此，只要是具有高折射率且具有光散射作用的聚合物即可。这些光散射颗粒14均匀分散地设置于基材12之内，光散射颗粒14的浓度为10%～50%，优选的是25%。

图2为图1中A处的放大示意图，其绘示了光路L在光学调节膜10中，受到光散射颗粒14的散射作用朝多方向散射的情形。

图3为图1中光学调节膜10的制造方法的流程图。

光学调节膜10的制造方法包括以下步骤：

步骤S1，将有机溶剂滴于基材12上，基材12在有机溶剂作用下溶化为液态，基材和有机溶剂形成液态混合物。所述有机溶剂为丙酮或甲苯。

步骤S2，将光散射颗粒14添加于所述液态混合物中并且搅拌均匀。

步骤S3，对所述添加有光散射颗粒14的液态混合物进行固化处理，固化过程中使有机溶剂受热挥发。本发明中，采用热固化作为固化处理方式，例如烤箱烘干固化。

步骤S4，液态基材12定型为固态基材12，光散射颗粒14分散设置于所述基材12中，形成所述光学调节膜。

为了保证光学调节膜10的平整度，可以在制造过程中借助模具。

请参考图4，本发明第二实施例提供了一种光学调节膜10a，与第一实施例的光学调节膜10的区别仅在于，基材14a是UV（ultraviolet）胶，如UV树脂。相应的，本发明第二实施例的光学调节膜10a的制造方法有所不同，不需要使用有机溶剂，固化方式为UV固化。

请参考图5，本发明第二实施例中光学调节膜10a的制造方法，包括以下步骤：

步骤E1，提供UV胶作为基材14a；

步骤E2，将光散射颗粒12a添加于基材14a中并进行搅拌，形成液固混合物；

步骤E3，将液固混合物作UV固化处理；

步骤E4，液态基材14a定型为固态基材，光散射颗粒12a分散设置于基材14a中，形成光学调节膜10a。

光学调节膜10（10a）的制造方法的步骤S2(E2)中，光散射颗粒14（14a）还可以通过旋涂、印刷等方式设于所述基材12（12a）中。

本发明所提供了光学调节膜10（10a）及其制造方法。光学调节膜10（10a）包括基材12（12a）和多个光散射颗粒14（14a）。基材12（12a）为树脂材料，光散射颗粒14（14a）为聚硅氧烷微球，具有高折射率（1～3）和光散射作用。本发明提供了搅拌方式将光散射颗粒14（14a）设于基材12（12a），再通过热固化或者UV固化方式，以制造光学调节膜10，制造工艺简单。光学调节膜10适用于OLED封装结构中，因此，当所述OLED封装结构应用于顶发射OLED发光器件时，能够克服此类发光器件中各个观测角度的发光光谱不一致的缺陷（微腔效应），以消除光色偏差。

请参考图6，为采用了图1中光学调节膜10的OLED封装结构100。

本发明中的OLED封装结构100，应用于顶发射OLED发光器件中。OLED封装结构100包括光学调节膜10、封装层20、OLED结构层30和底基板40。光学调节膜10（10a）位于封装层20和OLED结构层30之间，设置于封装结构100之内。封装层20为玻璃，位于整个封装结构100的最外层。OLED结构层30为常规结构，包括盖层32、有机层36和电极层。电极层分为阴极层34和阳极层38，它们分设于有机层36的上下两面。底基板40位于OLED封装结构100的底部，对封装结构100起支撑作用。

图7为图6中OLED封装结构100的制造方法的流程图。

OLED封装结构100的制造方法，包括以下步骤：

步骤D1，提供一块基板，作为OLED结构层100的底基板40。在底基板40上蒸镀形成OLED结构层30。

步骤D2，提供一块顶基板，作为封装层20。

步骤D3，采用热固化方式，将光学调节膜20固定贴合于封装层20的下方。本发明中的热固化方式，为烤箱烘干固化。

步骤D4，将光学调节膜10设于OLED结构层30上方，即位于封装层20与OLED结构层20之间

步骤D5，形成OLED封装结构100。

本发明所提供了一种OLED封装结构100及其制造方法。OLED封装结构100是应用于顶发射OLED发光器件中，因此，光学调节膜10封装于封装层20与OLED结构层30之间，即位于OLED封装结构100之内（业界所称的“盒内”）。该位置关系能够使光学调节膜10不易受到外界环境的影响，性能稳定，而且消除了顶发射OLED发光器件中微腔效应所带来的光色偏差问题。

由于光学调节膜10的作用是调节色偏问题。因此，光学调节膜10不限于应用在OLED封装结构中，还可以应用于其它显示类型的封装结构中（如LCD），只要是旨在针对解决色偏问题的即可。

请参考图8，本发明还提供了一种AMOLED发光器件1000（主动驱动式OLED），其采用了图3中的OLED封装结构100。

AMOLED发光器件1000，包括OLED封装结构100、TFT基板200、驱动电路300、像素定义层400和间隔点(Spacer)500。驱动电路300设于TFT基板200之上，OLED封装结构100设于驱动电路300之上。像素定义层400、间隔点500和OLED封装结构100位于同一平面。

图9为图8中AMOLED发光器件1000的制造方法的流程图.

AMOLED发光器件1000的制造方法，包括以下步骤：

步骤T1，提供TFT基板200，在TFT基板200上设置驱动电路300，然后在驱动电路300上设置像素定义层400和间隔层500。

步骤T2，将TFT基板200和驱动电路300封装贴合于OLED封装结构100之下；

步骤T3，像素定义层400、间隔层500和OLED封装结构100设于同一平面；

步骤T4，形成AMOLED发光器件1000。

图8和图9所绘示的AMOLED发光器件1000，说明了本发明的OLED封装结构100可以应用于不同类型的顶发射OLED发光器件中，可以是PMOLED发光器件（被动驱动式OLED），也可以是AMOLED发光器件（主动驱动式OLED）。

显然，本领域的技术人员可以对本发明进行各种改动和变型而不脱离本发明的精神和范围。这样，倘若对本发明的这些修改和变型属于本发明权利要求及其等同技术的范围之内，则本发明也意图包含这些改动和变型在内。

Claims (18)

1.一种光学调节膜的制造方法，制造方法包括以下步骤：

提供基材，并将基材溶化为液态；

将光散射颗粒添加于所述液态中并进行搅拌，形成液固混合物；

将添加了光散射颗粒的所述液态混合物作固化处理；

将液态基材定型为固态基材，光散射颗粒分散设置于所述基材中，形成所述光学调节膜；

其中，所述基材为树脂材料，所述光散射颗粒为聚合物。

2.根据权利要求1所述的光学调节膜制造方法，其特征在于，采用有机溶剂，将所述基材溶化。

3.根据权利要求2所述的光学调节膜制造方法，其特征在于，所述有机溶剂为丙酮或甲苯。

4.根据权利要求2所述的光学调节膜制造方法，其特征在于，所述固化处理方式为烘干固化。

5.根据权利要求2所述的光学调节膜制造方法，其特征在于，所述固化处理后，有机溶剂挥发。

6.根据权利要求2所述的光学调节膜制造方法，其特征在于，所述基材为丙烯酸树脂。

7.根据权利要求1所述的光学调节膜制造方法，其特征在于，所述基材为UV胶。

8.根据权利要求7所述的光学调节膜制造方法，其特征在于，所述固化处理方式为UV固化。

9.根据权利要求1所述的光学调节膜制造方法，其特征在于，所述光散射颗粒为聚硅氧烷微球，每个微球的尺寸为0.5～10μm。

10.根据权利要求1所述的光学调节膜制造方法，其特征在于，所述光散射颗粒的折射率为1～3。

11.根据权利要求1至10中任一项所述的光学调节膜制造方法，其特征在于，所述光散射颗粒在基材中的浓度为10%～50%。

12.一种光学调节膜，为根据权利要求1至11中任一项所述的制造方法所制成的光学调节膜。

13.根据权利要求12所述光学调节膜，其特征在于，所述光学调节膜的厚度为0.1～100μm。

14.一种OLED封装结构，其特征在于，其包括：设于最外层的封装层、OLED结构层以及根据权利要求11所述的光学调节膜，所述光学调节膜设于所述封装层与所述发光器件之间，位于封装结构之内。

15.根据权利要求14所述的OLED封装结构，其特征在于，所述OLED封装结构用于顶发射OLED发光器件中。

16.根据权利要求14所述的OLED封装结构，其特征在于，所述OLED结构层包括盖层、有机层和电极层。

17.一种AMOLED发光器件，其特征在于，其包括：TFT基板以及根据权利要求14所述的OLED封装结构，所述OLED封装结构设于所述TFT基板之上。

18.根据权利要求17所述的AMOLED发光器件，其特征在于，所述TFT基板上设有驱动电路，还在所述驱动电路之上设有像素定义层、间隔点；其中，TFT基板和驱动电路封装贴合于所述OLED封装结构之下，像素定义层、间隔点和OLED封装结构在同一平面。