CN103928057A - 一种测量阻变存储器激活能的方法 - Google Patents

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Abstract

本发明公开了一种测量阻变存储器激活能的方法,包括:测量阻变存储器的I-V曲线,并从该I-V曲线来确定阻变存储器的低阻态电流值及高阻态电流值;计算在低阻态及高阻态下阻变存储器导电细丝中的电流;计算阻变存储器高阻态下导电细丝的外加电场;计算高低阻态下载流子跃迁的激活能。利用本发明,通过简单的方法可以测量出阻变存储器的激活能,大大减少了测量误差,并能够区分出电子运动、离子扩散等载流子运动时各自的激活能,为研究阻变存储器的微观物理机制提供理论指导。

Description

一种测量阻变存储器激活能的方法
技术领域
本发明属于半导体存储器器件技术领域,尤其是一种测量阻变存储器激活能的方法。
背景技术
存储器是集成电路中最基本、最重要的部件之一,也是微电子技术水平的重要指标。随着现代信息技术的快速发展,人们在拥有指数级增长的信息处理能力的同时,也不断追求速度更快、容量更高、功耗更低的非挥发性存储芯片来存储海量数据。到目前为止,闪存(Flash)是最成功的高密度非挥发性存储器。但是随着器件尺寸不断缩小,Flash的发展受到限制,一方面它的编程电压不能按比例减小,另一方面随着器件尺寸减小、隧道氧化层减薄,电荷保持性能下降。因此,新的存储技术的研究越来越受到人们的关注。
阻变存储器(RRAM)作为一种新的非易失性存储器,具有结构简单、工作速度快、功耗低、信息保持稳定等优点,是下一代非挥发性存储器的有力竞争者之一。但是,由于RRAM微观物理机制的不清晰,严重阻碍了其发展。从最基本的微观层面探讨和研究RRAM的微观物理机制,对于控制和提高器件的存储特性具有重要的指导作用。在阻变存储器中,激活能是表征载流子跃迁时所需克服周围陷阱对其束缚的势垒,因此,准确地表征激活能对于分析RRAM的微观物理机制具有十分重要的意义。
目前,人们表征阻变存储器中载流子的激活能普遍都是通过温度-电阻曲线的测量,然后做出lnσ~1000/T的曲线,其斜率就是代表激活能。然而,这种实验方法测出的激活能是器件整体的激活能,不能区分出电子运动、离子扩散等载流子运动时各自的激活能,因而不能准确地通过激活能来分析阻变存储器中载流子的输运特性。
另外,由于测量时误差的不可避免,通过变温测试获得的激活能也将存在误差,这对于研究阻变存储器的微观物理机制具有重大的影响。
发明内容
(一)要解决的技术问题
有鉴于此,本发明的主要目的在于提供一种测量阻变存储器激活能的方法,以减少测量误差,并区分出电子运动、离子扩散等载流子运动时各自的激活能。
(二)技术方案
为达到上述目的,本发明提供了一种测量阻变存储器激活能的方法,该方法包括:
步骤1:测量阻变存储器的I-V曲线,并从该I-V曲线来确定阻变存储器的低阻态电流值及高阻态电流值;
步骤2:计算在低阻态及高阻态下阻变存储器导电细丝中的电流;
其中,在低阻态下阻变存储器导电细丝中的电流通过下式得到:
I = σ LRS F 2 S = σ 0 Sexp ( - 2 α R ij - q E a ( a ) L / k B T ) V / L - - - ( 1 )
式中F2表示低阻态下导电细丝的电场,σLRS表示电导率,σ0表示电导的前因子,α表示局域态长度的倒数,Rij表示载流子跃迁的长度,q表示电子电荷,表示低阻态下载流子运动的激活能,kB表示波尔兹曼常数,T表示器件的温度,V表示外加电压,L表示器件的厚度,S表示导电细丝的横截面积;
在高阻态下,由于空间电荷限制电流的效应,对于阻变存储器导电细丝导通的部分,电场符合泊松定律,即
dF(x)/dx=-nq/ε    (2)
式中n表示载流子浓度,ε表示材料的介电常数,F(x)表示电场强度;
在高阻态下阻变存储器导电细丝导通部分的电流表示为:
I hopping = nq μ 0 exp ( - 2 α R ij - q E a ( a ) H / k B T ) F ( x ) S - - - ( 3 )
式中μ0表示载流子迁移率的前因子,表示高阻态载流子运动的激活能;
同时,根据福勒-诺德海姆发射理论,在高阻态下阻变存储器导电细丝断开部分的电流通过下式表示:
I tunneling = q 3 F 1 2 S / ( 8 πh φ B ) exp [ - 8 π 2 m φ B 3 2 / ( 3 hq F 1 ) ] - - - ( 4 )
式中Fl表示导电细比断开点位置的电场,h表示普朗克常量,φB表示势垒高度,m表示自由电子的质量;
步骤3:计算阻变存储器高阻态下导电细丝的外加电场:
V = V hopping + V tunneling = ∫ 0 L 1 F ( x ) dx + F 1 ( L - L 1 ) - - - ( 5 )
式中Ll表示细丝导通部分的长度,Vhopping表示导电细丝导通部分的电压,Vtunneling表示导电细丝断开部分的电压;
步骤4:结合上述公式(2)-(5)计算高低阻态下载流子跃迁的激活能。
上述方案中,步骤1中所述阻变存储器是利用原子层沉积的方法制备的HfO2、ZrO2或WO3材料的阻变存储器器件,器件厚度为5-30nm,器件的下电极为Pt/Ti金属层,Pt厚度为40nm,Ti厚度为10nm;上电极为W/Ti金属层,W厚度为30nm,Ti厚度为5nm。
上述方案中,步骤1中所述测量阻变存储器的I-V曲线,是采用KEITHLEY4200-SCS型半导体特性分析系统进行的。
上述方案中,步骤1中所述从该I-V曲线来确定阻变存储器的低阻态电流值及高阻态电流值,包括:采用0.1V的读电压从测得的I-V曲线中读出该读电压下的两个电流值,将这两个电流值中较大的值定为低阻态的电流值,较小的值定为高阻态的电流值。
上述方案中,所述步骤4包括:计算低阻态的激活能时,将步骤1中测得的低阻态电流值代入公式(1)中进行计算;计算高阻态的激活能时,将步骤1中测得的高阻态电流值代入公式(3)和(4);最后,结合公式(2)-(5)计算出高阻态下载流子跃迁的激活能。
(三)有益效果
从上述技术方案可以看出,本发明具有以下有益效果:
1、利用本发明,通过简单的方法可以测量出阻变存储器的激活能,大大减少了测量误差,并能够区分出电子运动、离子扩散等载流子运动时各自的激活能,为研究阻变存储器的微观物理机制提供理论指导。
2、利用本发明,提取的激活能可以直接用于分析阻变存储器的电学特性,从而通过简单的方法选择出最优的材料制备的阻变存储器器件。
附图说明
图1是本发明提供的测量阻变存储器激活能的方法流程图。
图2是依照本发明实施例的HfO2阻变存储器分别在HRS和LRS状态下载流子跃迁的激活能的示意图。
图3是依照本发明实施例的ZrO2阻变存储器分别在HRS和LRS状态下载流子跃迁的激活能的示意图。
图4是依照本发明实施例的WO3阻变存储器分别在HRS和LRS状态下载流子跃迁的激活能的示意图。
具体实施方式
为使本发明的目的、技术方案和优点更加清楚明白,以下结合具体实施例,并参照附图,对本发明进一步详细说明。
根据对相关研究领域现状的分析,基于载流子的跃迁理论并结合实验测得的I-V曲线,本发明提出了一种测量阻变存储器激活能的方法,此方法简单,结果精确,误差小,可广泛应用于提取具有不同材料、器件厚度不同的阻变存储器分别在高阻态(HRS)和低阻态(LRS)下载流子跃迁的激活能,如HfO2,ZrO2,WO3等阻变存储器,从而为研究不同类型的RRAM的微观物理机制提供一种新的物理方法。
如图1所示,本发明提供的测量阻变存储器激活能的方法,该方法包括以下步骤:
步骤1:利用原子层沉积的方法制备出HfO2,ZrO2,WO3等材料的阻变存储器器件,器件厚度为5-30nm,器件的下电极为Pt/Ti金属层,Pt厚度为40nm,Ti厚度为10nm;上电极为W/Ti金属层,W厚度为30nm,Ti厚度为5nm。
步骤2:采用KEITHLEY4200-SCS型半导体特性分析系统测量阻变存储器的I-V曲线,并从该I-V曲线来确定阻变存储器的低阻态电流值及高阻态电流值;
其中,从该I-V曲线来确定阻变存储器的低阻态电流值及高阻态电流值,包括:采用0.1V的读电压从测得的I-V曲线中读出该读电压下的两个电流值,将这两个电流值中较大的值定为低阻态的电流值,较小的值定为高阻态的电流值。
步骤3:计算在低阻态及高阻态下阻变存储器导电细丝中的电流。
其中,在低阻态下阻变存储器导电细丝中的电流通过下式得到:
I = σ LRS F 2 S = σ 0 Sexp ( - 2 α R ij - q E a ( a ) L / k B T ) V / L - - - ( 1 )
式中F2表示低阻态下导电细丝的电场,σLRS表示电导率,σ0表示电导的前因子,α表示局域态长度的倒数,Rij表示载流子跃迁的长度,q表示电子电荷,表示低阻态下载流子运动的激活能,kB表示波尔兹曼常数,T表示器件的温度,V表示外加电压,L表示器件的厚度,S表示导电细丝的横截面积;
在高阻态下,由于空间电荷限制电流的效应,对于阻变存储器导电细丝导通的部分,电场符合泊松定律,即
dF(x)/dx=-nq/ε    (2)
式中n表示载流子浓度,ε表示材料的介电常数,F(x)表示电场强度;
在高阻态下阻变存储器导电细丝导通部分的电流表示为:
I hopping = nq μ 0 exp ( - 2 α R ij - q E a ( a ) H / k B T ) F ( x ) S - - - ( 3 )
式中μ0表示载流子迁移率的前因子,表示高阻态载流子运动的激活能;
同时,根据福勒-诺德海姆发射理论,在高阻态下阻变存储器导电细丝断开部分的电流通过下式表示:
I tunneling = q 3 F 1 2 S / ( 8 πh φ B ) exp [ - 8 π 2 m φ B 3 2 / ( 3 hq F 1 ) ] - - - ( 4 )
式中Fl表示导电细比断开点位置的电场,h表示普朗克常量,φB表示势垒高度,m表示自由电子的质量。
步骤4:计算阻变存储器高阻态下导电细丝的外加电场。
V = V hopping + V tunneling = ∫ 0 L 1 F ( x ) dx + F 1 ( L - L 1 ) - - - ( 5 )
式中Ll表示细丝导通部分的长度,Vhopping表示导电细丝导通部分的电压,Vtunneling表示导电细丝断开部分的电压。
步骤5:结合上述公式(2)-(5)计算高低阻态下载流子跃迁的激活能。
计算低阻态的激活能时,将步骤1中测得的低阻态电流值代入公式(1)中进行计算;计算高阻态的激活能时,将步骤1中测得的高阻态电流值代入公式(3)和(4);最后,结合公式(2)-(5)计算出高阻态下载流子跃迁的激活能。
实施例1
以W/Ti/HfO2/Pt器件作为一个实施例,首先通过电学方法测量获得HRS和LRS状态下的I-V特性,然后通过0.1V的读电压,获得该读电压时低阻态下的电流值为1.97×10-4A,高阻态下的电流值1.14×10-5A,将1.97×10-4A代公式(1)中进行计算,获得低阻态下载流子跃迁的激活能;将1.14×10-5A代入公式(3)和(4),然后结合公式(2)-(5)计算出高阻态下载流子跃迁的激活能。结果如图2所示,在低阻状下(LRS),载流子跃迁的激活能Ea=0.9344eV,在高阻状态下(HRS),载流子跃迁的激活能Ea=0.9889eV。计算中所用参数为:温度为T=300K,V=0.1V,σ0=1013S/m,α-1=1.5nm,Rij=0.385nm,ε=23,μ0=450m2/Vs,L=5nm,φB=2eV。
实施例2
以TiN/ZrO2/Pt器件作为一个实施例,然后通过0.1V的读电压,获得该读电压时低阻态下的电流值为1.09×10-4A,高阻态下的电流值1.17×10-5A;将1.09×10-4A代公式(1)中进行计算,获得低阻态下载流子跃迁的激活能;将1.17×10-5A代入公式(3)和(4),然后结合公式(2)-(5)计算出高阻态下载流子跃迁的激活能。结果如图3所示,在低阻状下(LRS),载流子跃迁的激活能Ea=1.9431eV,在高阻状下(HRS),载流子跃迁的激活能Ea=1.9906eV。计算中所用参数为:温度为T=300K,V=0.1V,σ0=1013S/m,α-1=1.5nm,Rij=0.385nm,ε=23,μ0=300m2/Vs,L=10nm,φB=2eV。
实施例3
以Cu/WO3/Pt器件作为一个实施例,然后通过0.1V的读电压,获得该读电压时低阻态下的电流值为2.0×10-7A,高阻态下的电流值2.04×10-8A;将2.0×10-7A代公式(1)中进行计算,获得低阻态下载流子跃迁的激活能;将2.04×10-8A代入公式(3)和(4),然后结合公式(2)-(5)计算出高阻态下载流子跃迁的激活能。结果如图4所示,在低阻状下(LRS),载流子跃迁的激活能Ea=0.7352eV,在高阻状下(HRS),载流子跃迁的激活能Ea=0.7953eV。计算中所用参数为:温度为T=300K,V=0.1V,σ0=1013S/m,α-1=1.5nm,Rij=0.385nm,ε=35,μ0=150m2/Vs,L=50nm,φB=2eV。
以上所述的具体实施例,对本发明的目的、技术方案和有益效果进行了进一步详细说明,所应理解的是,以上所述仅为本发明的具体实施例而已,并不用于限制本发明,凡在本发明的精神和原则之内,所做的任何修改、等同替换、改进等,均应包含在本发明的保护范围之内。

Claims (5)

1.一种测量阻变存储器激活能的方法,其特征在于,该方法包括:
步骤1:测量阻变存储器的I-V曲线,并从该I-V曲线来确定阻变存储器的低阻态电流值及高阻态电流值;
步骤2:计算在低阻态及高阻态下阻变存储器导电细丝中的电流;
其中,在低阻态下阻变存储器导电细丝中的电流通过下式得到:
I = σ LRS F 2 S = σ 0 Sexp ( - 2 α R ij - q E a ( a ) L / k B T ) V / L - - - ( 1 )
式中F2表示低阻态下导电细丝的电场,σLRS表示电导率,σ0表示电导的前因子,α表示局域态长度的倒数,Rij表示载流子跃迁的长度,q表示电子电荷,表示低阻态下载流子运动的激活能,kB表示波尔兹曼常数,T表示器件的温度,V表示外加电压,L表示器件的厚度,S表示导电细丝的横截面积;
在高阻态下,由于空间电荷限制电流的效应,对于阻变存储器导电细丝导通的部分,电场符合泊松定律,即
dF(x)/dx=-nq/ε    (2)
式中n表示载流子浓度,ε表示材料的介电常数,F(x)表示电场强度;
在高阻态下阻变存储器导电细丝导通部分的电流表示为:
I hopping = nq μ 0 exp ( - 2 α R ij - q E a ( a ) H / k B T ) F ( x ) S - - - ( 3 )
式中μ0表示载流子迁移率的前因子,表示高阻态载流子运动的激活能;
同时,根据福勒-诺德海姆发射理论,在高阻态下阻变存储器导电细丝断开部分的电流通过下式表示:
I tunneling = q 3 F 1 2 S / ( 8 πh φ B ) exp [ - 8 π 2 m φ B 3 2 / ( 3 hq F 1 ) ] - - - ( 4 )
式中Fl表示导电细比断开点位置的电场,h表示普朗克常量,φB表示势垒高度,m表示自由电子的质量;
步骤3:计算阻变存储器高阻态下导电细丝的外加电场:
V = V hopping + V tunneling = ∫ 0 L 1 F ( x ) dx + F 1 ( L - L 1 ) - - - ( 5 )
式中Ll表示细丝导通部分的长度,Vhopping表示导电细丝导通部分的电压,Vtunneling表示导电细丝断开部分的电压;
步骤4:结合上述公式(2)-(5)计算高低阻态下载流子跃迁的激活能。
2.根据权利要求1所述的测量阻变存储器激活能的方法,其特征在于,步骤1中所述阻变存储器是利用原子层沉积的方法制备的HfO2、ZrO2或WO3材料的阻变存储器器件,器件厚度为5-30nm,器件的下电极为Pt/Ti金属层,Pt厚度为40nm,Ti厚度为10nm;上电极为W/Ti金属层,W厚度为30nm,Ti厚度为5nm。
3.根据权利要求1所述的测量阻变存储器激活能的方法,其特征在于,步骤1中所述测量阻变存储器的I-V曲线,是采用KEITHLEY4200-SCS型半导体特性分析系统进行的。
4.根据权利要求1所述的测量阻变存储器激活能的方法,其特征在于,步骤1中所述从该I-V曲线来确定阻变存储器的低阻态电流值及高阻态电流值,包括:
采用0.1V的读电压从测得的I-V曲线中读出该读电压下的两个电流值,将这两个电流值中较大的值定为低阻态的电流值,较小的值定为高阻态的电流值。
5.根据权利要求1所述的测量阻变存储器激活能的方法,其特征在于,所述步骤4包括:
计算低阻态的激活能时,将步骤1中测得的低阻态电流值代入公式(1)中进行计算;
计算高阻态的激活能时,将步骤1中测得的高阻态电流值代入公式(3)和(4);
最后,结合公式(2)-(5)计算出高阻态下载流子跃迁的激活能。
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