CN103881585A - 一种计算机硬盘抛光液及其制备方法 - Google Patents
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Abstract
本发明公开一种计算机硬盘抛光液，其特征在于包括如下组分：氧化剂1～2份，有机螯合剂2～3份，有机胺0.2～1份，磨料氧化镁溶胶1～15份，去离子水20～30份，以重量份计；所述氧化剂为过氧醋酸或过氧异丁酸；所述有机胺为三乙胺或二异丁基胺。本发明组分形成中性及碱性的抛光液，可采用多种抛光摩擦颗粒的方法来提高抛光效果，大大降低了对硬盘边缘的抛光损失，且对抛光机没有任何腐蚀效应，增加了抛光机的寿命。
Description
技术领域
本发明涉及一种抛光液及其制备方法，具体涉及一种计算机硬盘抛光液及其制备方法。
背景技术
抛光时表面处理常用的方法之一，目的是为了消除表面的细微不平，使得表面具有镜面光泽。抛光不但能美化产品，还是保证产品质量、延长使用寿命及发展新品种的重要手段，有时也能起到产品升值的作用。
抛光可以分为机械抛光、化学抛光和电化学抛光，抛光液主要用于化学抛光和电化学抛光。机械抛光主要利用的是抛光轮与抛光膏的精细磨料对零件进行轻微切削和研磨，除去基体表面的细微不平，达到降低表面粗糙度的目的。抛光膏是由磨料和油脂两大部分组成的，由于所用的磨料不同，油脂种类的差异，使抛光膏形成了多种不同的产品，使用在不同的场合。
化学抛光时金属表面上微观的凸起处在化学抛光液中的溶解速度比在微观凹下去处的快，结果表面逐渐整平而获得光滑、光亮表面的过程。
电化学抛光是对金属制品表面进行精加工的一种电化学方法，即把金属工件置于所组成的电抛光液中，作为阳极进行处理，降低工件表面微观结构的粗糙度，从而获得镜面般的光泽表面。一般对于难以用机械、化学方式抛光的或形状较为复杂且光洁度要求高的工件多采用电化学抛光。
现有的抛光液为酸性，具有一定的腐蚀性，应用于计算机硬盘时容易对计算机硬盘的边缘产生损伤，且容易影响抛光机的寿命。
发明内容
发明目的：本发明的目的在于针对现有技术的不足，提供一种能够碱性、对硬盘边缘无损伤的计算机硬盘抛光液。
本发明的另一目的在于提供这种计算机硬盘抛光液的制备方法。
技术方案：本发明所述的计算机硬盘抛光液，包括如下组分：氧化剂1～2份，有机螯合剂2～3份，有机胺0.2～1份，磨料氧化镁溶胶1～15份，去离子水20～30份，以重量份计；
所述氧化剂为过氧醋酸或过氧异丁酸；有机螯合剂为柠檬酸铵；所述有机胺为三乙胺或二异丁基胺。
优选地，还包括表面活性剂0.2～0.5份。
进一步优选地，所述表面活性剂为磷酸盐表面活性剂或环氧醚酯表面活性剂。
本发明所述的计算机硬盘抛光液的一种制备方法为：在去离子水中加入氧化剂、有机螯合剂、表面活性剂、磨料氧化镁溶胶后，搅拌均匀，再加入有机胺调节PH值至7～10制得。
本发明所述的计算机硬盘抛光液的另一种制备方法为：在去离子水中加入有机螯合剂、表面活性剂、磨料氧化镁溶胶后，搅拌均匀，再加入有机胺调节PH值至7～10，在使用之前加入氧化剂并搅拌均匀。
本发明与现有技术相比，其有益效果是：本发明组分形成中性及碱性的抛光液，可采用多种抛光摩擦颗粒的方法来提高抛光效果，大大降低了对硬盘边缘的抛光损失，且对抛光机没有任何腐蚀效应，增加了抛光机的寿命。
具体实施方式
下面对本发明技术方案进行详细说明，但是本发明的保护范围不局限于所述实施例。
实施例1：本发明计算机硬盘抛光液，包括如下组分：氧化剂1份，有机螯合剂2份，有机胺0.2份，磷酸盐表面活性剂0.2份，磨料氧化镁溶胶1份，去离子水20份，以重量份计；所述氧化剂为过氧醋酸；所述有机胺为三乙胺。
计算机硬盘抛光液的制备方法为：在去离子水中加入氧化剂、有机螯合剂、表面活性剂、磨料氧化镁溶胶后，搅拌均匀，再加入有机胺调节pH值至7制得。
实施例2：本发明计算机硬盘抛光液，包括如下组分：氧化剂2份，有机螯合剂3份，有机胺1份，环氧醚酯表面活性剂0.5份，磨料氧化镁溶胶6份，去离子水30份，以重量份计；所述氧化剂为过氧异丁酸；所述有机胺为二异丁基胺。
所述的计算机硬盘抛光液的制备方法为：在去离子水中加入有机螯合剂、表面活性剂、磨料氧化镁溶胶后，搅拌均匀，再加入有机胺调节pH值至10，在使用之前加入氧化剂并搅拌均匀。
实施例3：本发明计算机硬盘抛光液，包括如下组分：氧化剂1.5份，有机螯合剂2.5份，有机胺0.5份，磨料氧化镁溶胶15份，去离子水25份，以重量份计；所述氧化剂为过氧醋酸；所述有机胺为三乙胺。
所述的计算机硬盘抛光液的制备方法为：在去离子水中加入氧化剂、有机螯合剂和磨料氧化镁溶胶后，搅拌均匀，再加入有机胺调节PH值至9制得。
如上所述，尽管参照特定的优选实施例已经表示和表述了本发明，但其不得解释为对本发明自身的限制。在不脱离所附权利要求定义的本发明的精神和范围前提下，可对其在形式上和细节上作出各种变化。
Claims (5)
1.一种计算机硬盘抛光液，其特征在于包括如下组分：氧化剂1～2份，有机螯合剂2～3份，有机胺0.2～1份，磨料氧化镁溶胶1～15份，去离子水20～30份，以重量份计；
所述氧化剂为过氧醋酸或过氧异丁酸；有机螯合剂为柠檬酸铵；所述有机胺为三乙胺或二异丁基胺。
2.根据权利要求1所述的计算机硬盘抛光液，其特征在于：还包括表面活性剂0.2～0.5份。
3.根据权利要求2所述的计算机硬盘抛光液，其特征在于：所述表面活性剂为磷酸盐表面活性剂或环氧醚酯表面活性剂。
4.根据权利要求1-3所述的计算机硬盘抛光液的制备方法，其特征在于：
在去离子水中加入氧化剂、有机螯合剂、表面活性剂、磨料氧化镁溶胶后，搅拌均匀，再加入有机胺调节PH值至7～10制得。
5.根据权利要求1-3所述的计算机硬盘抛光液的制备方法，其特征在于：
在去离子水中加入有机螯合剂、表面活性剂、磨料氧化镁溶胶后，搅拌均匀，再加入有机胺调节PH值至7～10，在使用之前加入氧化剂并搅拌均匀。
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| CN201410157503.XA CN103881585A (zh) | 2014-04-21 | 2014-04-21 | 一种计算机硬盘抛光液及其制备方法 |
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Country Status (1)
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|---|---|
| CN (1) | CN103881585A (zh) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN105086834A (zh) * | 2014-12-19 | 2015-11-25 | 李立群 | 一种用于计算机硬盘的抛光液及其制备方法 |
| CN105575794A (zh) * | 2016-03-09 | 2016-05-11 | 德米特（苏州）电子环保材料有限公司 | 一种中性抛光浆及其制备方法 |
| CN110491790A (zh) * | 2018-05-09 | 2019-11-22 | 台湾积体电路制造股份有限公司 | 半导体装置的制造方法 |
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2014
- 2014-04-21 CN CN201410157503.XA patent/CN103881585A/zh active Pending
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| WD01 | Invention patent application deemed withdrawn after publication |
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| WD01 | Invention patent application deemed withdrawn after publication |