CN103871933A - 参数监测方法 - Google Patents

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CN103871933A
CN103871933A CN201410097489.9A CN201410097489A CN103871933A CN 103871933 A CN103871933 A CN 103871933A CN 201410097489 A CN201410097489 A CN 201410097489A CN 103871933 A CN103871933 A CN 103871933A
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曾军
高峰
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Shanghai Huahong Grace Semiconductor Manufacturing Corp
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Shanghai Huahong Grace Semiconductor Manufacturing Corp
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    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/67005—Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/67242—Apparatus for monitoring, sorting or marking
    • H01L21/67253—Process monitoring, e.g. flow or thickness monitoring

Abstract

本发明提出了一种参数监测方法，通过筛选出具有相关性的多个参数，由多个具有相关性的参数得出一固定的常数，再由图表收集常数的数值，若具有相关性的参数发生了异常变化，会导致常数发生异常变化，从而即可通过常数的数值来监测多个具有相关性的参数是否处于正常范围以内，解决了不同的具有相关性的参数正常变化造成的错误报警，同时减少图表的数量，优化了参数监测方法，使其易于管理。

Description

参数监测方法
技术领域
本发明涉及半导体制造领域，尤其涉及一种参数监测。
背景技术
半导体行业很多参数（Parameter）都需要进行严格监控，若参数出现变动，超出工艺能接受的范围（SPEC），会发出相应的报警，此时则应停止生产，对工艺或设备等进行相应的调整或者优化，使其恢复到工艺能接受的范围，这样才能保证生产出的产品具有较高的合格率（Yield）。
现有技术中，通常采用故障侦测分类法（Fault Detective Classification，FDC）收集不同的参数，并将参数值记录在不同的图表（Chart）中，通过观测Chart中的参数值大小实现监控生产中参数的实时变化情况，从而可以监测生产工艺等是否符合要求。
通常情况下，由于不同参数的数值大小不同，其SPEC也不同，因此一张Chart中只收集记录同一个参数，并且只能相应设定不变的SPEC。然而，设备机台的参数或者某些工艺的参数会发生一系列的变化，例如靶电压（Targetvoltage）会随着靶材寿命（Target life）的增加而降低。这些变化通常是正常的变化，不会影响产品的合格率。由于设定的SPEC是固定不会改变的，当设备机台的参数或者某些工艺的参数发生上述变化时，往往会超出SPEC，造成不必要的错误报警，增加工作负荷。
同时，由于半导体行业参数数量极多，需要大量的Chart来记录不同的参数，增加了技术人员对Chart监测的负荷，十分浪费时间。
发明内容
本发明的目的在于提供一种参数监测方法，能够解决不同参数正常变化造成的错误报警，同时减少Chart的数量。
为了实现上述目的，本发明提出了一种参数监测方法，所述方法包括步骤：
筛选出多个参数中具有相关性的参数；
由所述具有相关性的参数获取一常数；
使用图表收集和记录所述常数；
根据所述常数监测所述具有相关性的参数。
进一步的，所述具有相关性的参数通过一公式计算得出所述常数。
进一步的，所述公式具有多个系数。
进一步的，所述系数与所述具有相关性的参数个数相同。
进一步的，所述系数通过曲线拟合法得出。
进一步的，所述图表设有一范围。
进一步的，所述常数超出所述范围时，则引发出报警。
进一步的，所述具有相关性的参数是靶电压和靶材寿命。
与现有技术相比，本发明的有益效果主要体现在：通过筛选出具有相关性的多个参数，由多个具有相关性的参数得出一固定的常数，再由图表收集常数的数值，若具有相关性的参数发生了异常变化，会导致常数发生异常变化，从而即可通过常数的数值来监测多个具有相关性的参数是否处于正常范围以内，解决了不同的具有相关性的参数正常变化造成的错误报警，同时减少图表的数量，优化了参数监测方法，使其易于管理。
附图说明
图1为本发明一实施例中参数监测方法的流程图。
具体实施方式
下面将结合示意图对本发明的参数监测方法进行更详细的描述，其中表示了本发明的优选实施例，应该理解本领域技术人员可以修改在此描述的本发明，而仍然实现本发明的有利效果。因此，下列描述应当被理解为对于本领域技术人员的广泛知道，而并不作为对本发明的限制。
为了清楚，不描述实际实施例的全部特征。在下列描述中，不详细描述公知的功能和结构，因为它们会使本发明由于不必要的细节而混乱。应当认为在任何实际实施例的开发中，必须做出大量实施细节以实现开发者的特定目标，例如按照有关系统或有关商业的限制，由一个实施例改变为另一个实施例。另外，应当认为这种开发工作可能是复杂和耗费时间的，但是对于本领域技术人员来说仅仅是常规工作。
在下列段落中参照附图以举例方式更具体地描述本发明。根据下面说明和权利要求书，本发明的优点和特征将更清楚。需说明的是，附图均采用非常简化的形式且均使用非精准的比例，仅用以方便、明晰地辅助说明本发明实施例的目的。
请参考图1，在本实施例中，提出了一种参数监测方法，包括步骤：
S100：筛选出多个参数中具有相关性的参数；
由于半导体行业的很多参数均具有一定的相关性，即一个参数的变化会引起另一个参数的相应变化，例如背景技术中提及的Target voltage会随着Targetlife的增加而降低，两者存在一定的线性相关性。需要指出的是，可以筛选出多个具有相关性的参数，不仅仅限于2个。
S200：由所述具有相关性的参数获取一常数；
在步骤S200中，所述多个参数通过一公式计算得出所述常数，例如将Targetvoltage的数值定义成X，将Target life定义成Y，则可以由两者之间的曲线关系得出C=aX+bY，其中，C为所述常数，a、b均为具有相关性的参数的相应系数，系数的个数是由具有相关性的参数的个数决定的，与所述具有相关性的参数的个数相同，系数可以通过曲线拟合法得出，所述公式可以为一次方程或者多次方程，可以包含对数函数等数学函数。由于具有相关性的参数之间存在一定的联动性或相关性，因此可以通过寻找出具有相关性的参数之间的关系得出一具体的常数，也就是说多个具有相关性的参数处于正常变化时，得出的常数不会发生变化，若多个具有相关性的参数存在异常变化时，则会导致常数发生异常变化，在本实施例中，是采用监控常数来判断具有相关性的参数是否处于正常变化范围之内。
S300：使用图表收集和记录所述常数；
图表记录和收集常数便于技术人员对常数进行实时的监测。
S400：根据所述常数监测所述具有相关性的参数。
优选的，可以在图表上设置范围（SPEC），正常情况下，所述常数位于SPEC以内，SPEC的设定可以根据工艺需要来定义，可以定位比较宽泛，也可以定义比较严格，SPEC满足工艺生产的要求即可，当所述常数的数值若超出所述SPEC时，则会引发相应的报警，技术人员即可以通过对所述常数的监视来监测所述具有相关性的参数是否处于正常变化范围之内。若出现报警时，技术人员需要分析引起报警的是哪个参数发生了异常，从而做出相应的行动，解决问题，使其恢复至工艺要求范围以内，以便保证产品的合格率。
可见，采用本发明提出的方法，同一张图表可以同时监测多个参数，大大的减少了图表的数量，降低了对图表管理的难度，同时也减轻了技术人员的工作负荷。
综上，在本发明实施例提供的参数监测方法中，通过筛选出具有相关性的多个参数，由多个具有相关性的参数得出一固定的常数，再由图表收集常数的数值，若具有相关性的参数发生了异常变化，会导致常数发生异常变化，从而即可通过常数的数值来监测多个具有相关性的参数是否处于正常范围以内，解决了不同的具有相关性的参数正常变化造成的错误报警，同时减少图表的数量，优化了参数监测方法，使其易于管理。
上述仅为本发明的优选实施例而已，并不对本发明起到任何限制作用。任何所属技术领域的技术人员，在不脱离本发明的技术方案的范围内，对本发明揭露的技术方案和技术内容做任何形式的等同替换或修改等变动，均属未脱离本发明的技术方案的内容，仍属于本发明的保护范围之内。

Claims (8)

1.一种参数监测方法，包括步骤： 
筛选出多个参数中具有相关性的参数； 
由所述具有相关性的参数获取一常数； 
使用图表收集和记录所述常数； 
根据所述常数监测所述具有相关性的参数。 
2.如权利要求1所述的参数监测方法，其特征在于，所述具有相关性的参数通过一公式计算得出所述常数。 
3.如权利要求2所述的参数监测方法，其特征在于，所述公式具有多个系数。 
4.如权利要求3所述的参数监测方法，其特征在于，所述系数与所述具有相关性的参数个数相同。 
5.如权利要求4所述的参数监测方法，其特征在于，所述系数通过曲线拟合法得出。 
6.如权利要求1所述的参数监测方法，其特征在于，所述图表设有一范围。 
7.如权利要求6所述的参数监测方法，其特征在于，所述常数超出所述范围时，则引发出报警。 
8.如权利要求1所述的参数监测方法，其特征在于，所述具有相关性的参数是靶电压和靶材寿命。 
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