CN103852029A - 对镜片进行反射测量的支架、装置和方法 - Google Patents

Abstract

一种镜片支架适合用于将镜片（5）夹持在三个第一接触部分（41-43）与三个第二接触部分（61-63）之间。第一接触部分形成用于该镜片定位的高度基准，第二接触部分保证使该镜片应用在第一接触部分上，同时符合该镜片的任何可能的形状。该支架适于被结合在反射测量装置中。特别地，它对于测量设置有减反射涂层的镜片的反射、或对镜片向镜片佩戴者所提供的防UV危害保护进行评级是有用的。

Description

对镜片进行反射测量的支架、装置和方法

技术领域

本发明涉及一种用于对镜片进行反射测量的支架、装置和方法。特别地，该反射测量可以在可见的、UV A和UV B辐射的波长范围内。

此类测量对于对可见辐射进行镜片的减辐射效率量化可以是特别有用的。

它对于对镜片向佩戴者提供的防UV危害保护进行量化也可以是有用的。

背景技术

已知的光学分析技术（比如反射测量术和椭圆测量术）涉及到反射测量。同样，许多装置对于实现这些技术是可商购的。

但这些装置被设计成用于对带有多个平面反射面的样品进行反射测量。例如，被测样品是配备有薄膜（如用于微电子应用的）的硅片。例如考虑到制造建筑用或汽车用玻璃、或者是显示面板，它们还可以是具有涂层的平面玻璃样品。

然而，需要对镜片进行反射测量，特别是为了对配备有减反射涂层的镜片的剩余反射进行量化、以及为了对提供给镜片佩戴者的防UV辐射危害的保护效率进行量化。对于具有减反射涂层的镜片，这些测量处理可见辐射，即包括在380nm（纳米）和780nm之间的波长范围内的，且入射角值小于等于17°（度）。对于UV保护评级，这些测量对具有在280nm和380nm之间的波长值和比如30°、甚至45°的入射角的UV-A和UV-B辐射进行处理。

但是由于镜片面的弯曲形状或凹或凸，目前可获得的装置不允许对镜片进行反射测量。确实，这些装置不是被设计成用于将样品的一个面（此面是弯曲的）暴露于测量光束，并在这个面中的测量位置处对样品面的高度进行控制。另外，如果不特别注意被测面的曲率的光学后果，该样品面的曲率会造成测量结果的误差。

发明内容

从这个现有情况开始，本发明的一个目的是允许以一种简单高效且具有高测量精度的方式对镜片进行反射测量。

本发明的另一个目的是允许使用同一个装置对配备有在可见波长范围内有效的减反射涂层的镜片的剩余反射进行量化，而且还允许对向镜片佩戴者提供的UV保护进行评级。

本发明还有另一个目的是在不损坏该镜片或需要该镜片永久改变的前提下测量一个镜片上的反射。

为了达到这些目的中的至少一个或其他目的，本发明提出了一种新颖的支架，该支架适合用于对眼科镜片进行反射测量。该支架包括：

-上部部分，其本身包括上部基座元件和三个第一接触部分，这三个第一接触部分被刚性地安排在该上部基座元件的下端，以便与该镜片的第一面在对应的基准位置分别产生三个第一点接触，这些基准位置被相对于该上部部分固定地限定；

-下部部分，其本身包括下部基座元件和三个第二接触部分，这三个第二接触部分分别安装在该下部基座元件上，以便从这个下部基座元件的上端延伸直至超出该下部基座元件的该上端对应的可变距离，并能够提供三个第二点接触；以及

-保持装置，其用于保持该上部部分和下部部分，并且该上部部分和下部部分的相应下端和上端面朝彼此，同时将这些第二接触部分朝该上部部分按压，从而使得该镜片被固定在这些第一接触部分和这些第二接触部分之间，其中，这三个第二点接触位于该镜片的与该第一面相对的第二面中。

此外，该上部基座元件具有多个凹陷，这些凹陷被设置在这个上部基座元件的多个相对的侧面中，从而使得在这些凹陷之一中传播的光束可以在位于这三个第一点接触之间的测量位置处照射在该镜片的该第一面上，并且来自该镜片第一面中的该测量位置的光束的反射方向穿过这些凹陷的另一个并从这个另一个凹陷离开。

因此，使用本发明支架，该镜片被夹在该上部部分和下部部分之间，从而使得可以简单、容易并快速获得镜片的固定。该上部部分的这些接触部分为该被测镜片面形成高度基准，该高度基准与此面的弯曲形状是相配的。同样，该支架的该下部部分的这些接触部分可以符合该镜片的另一个面的形状，不论这个另一个面是什么样的。因此，本发明支架保证了该镜片的被反射测量的面正确地抵靠在该支架的该上部部分的这些接触部分上。被反射测量的该面的高度由此被精确地控制。

本发明的优选实施例可以分开地或结合其中的若干个进行以下改进：

-该下部部分和上部部分可以围绕一个轴线定向，该轴线从该上部基座元件的下端朝该下部基座元件的上端延伸，从而使得这三个第一点接触分别沿着多个与该轴线平行的方向与这三个第二点接触对齐。以此方式，为了固定该镜片而涉及的夹力可能造成的该镜片的任何变形都可以避免；

-在该上部基座元件的这些相对侧面中的这些凹陷可以被设计成使得该照射光束的传播方向与垂直于包含这三个第一点接触的平面的方向之间的入射角被包括在15°与45°之间；

-该下部基座元件可以具有设置在此下部基座元件的侧面中的空隙凹陷（clearing recess），从而使得当该镜片被固定在这些第一接触部分和这些第二接触部分之间时传输通过该镜片的该光束的一部分在离开该镜片的该第二面之后传播通过该空隙凹陷；

-这三个第一接触部分可以被安排在该上部基座元件的下端，从而使得它们形成等边三角形。该支架因此可以用一种最佳方式适合有待进行反射测量的该镜片的第一面的大多数可能的形状；以及

-该用于保持该上部部分和下部部分的保持装置可以包括升降系统，该升降系统适用于将该下部部分朝该上部部分移动，直到该镜片被夹持在这三个第一接触部分和这三个第二接触部分之间，同时限制这三个第一接触部分在该镜片的该第一面上的压力，并限制这三个第二接触部分在该镜片的该第二面上的压力。因此，这些镜片面在任何一个面上都不会被这些接触部分损坏，并且该镜片可以以快速且容易实施的操作安装到本发明支架中。

本发明还提出了一种反射测量装置，该装置包括刚如前面所述的支架，可能带有前面列出的改进。该装置进一步包括光源、光强传感器、光传送端口和光收集端口。该光传送端口连接到该用于保持该上部部分和下部部分的保持装置，从而使得该光源产生的光束通过该光传送端口离开，然后传播通过该上部基座元件的这些凹陷中的一个并照射到该镜片的该第一面上去。该光收集端口也连接到该用于保持该上部部分和下部部分的保持装置，从而使得该光源产生并被该镜片的该第一面反射的该光线穿过该上部基座元件的另一凹陷，然后进入该光收集端口并到达该光强传感器。

在本发明装置的一些实施例中，该光源可以被适配成用于输出该光束，该光束具有连续分布在从280nm到780nm波长范围的辐射。然后，该装置可以进一步包括辐射选择器，该辐射选择器被安排成使得该光强传感器感测限制地在选定在280nm和780nm之间的波长窗口内的辐射。

该装置还可以包括角度设置系统，该角度设置系统适于移动该光传送端口和该光收集端口，从而使得该照射光束的并且也是存在于垂直于包含这三个第一点接触的该平面的方向与该光束被该镜片第一面反射时的传播方向之间的入射角可以被设置为目标值。该目标值可以被选定为在从小于等于17°的较小角度值直到大于等于45°的较大角度值的角度范围内。

分开地或与该角度设置系统结合，该装置还可以包括横向定位系统，该横向定位系统适合用于沿着多个垂直于轴线的方向设置该镜片的横向位置，该轴线从该上部基座元件的下端朝该下部基座元件的上端延伸。然后可以通过该横向定位系统的设置在该镜片的该第一面内选择测量位置。此横向定位系统可以包括至少一个抵接段，该抵接段被安排用于接触该镜片的外围边缘并且离该测量位置的分离距离是可调整的。该横向定位系统还可以包括基于该镜片的直径的设置设备，从而使得测量位置可以由其离该镜片的外围边缘或者中心点的分离距离识别。

本发明进一步提出了一种用于使用如上文所描述的装置对镜片进行反射测量的方法，该方法包括如下步骤：

/1/提供一组参照样品，这些参照样品具有曲率值已知的球形的对应的测量面，每个参照样品具有已知的反射值并被设计成使得此参照样品的背面并不会导致反射辐射；

/2/获得有待进行反射测量的镜片，并还获得此镜片的要进行反射测量的面的平均曲率值；

/3/选择这些参照样品之一，从而使得该选定的参照样品的曲率值与该有待进行反射测量的镜片面的平均曲率值匹配；

/4/使用该装置，其中，所选定的参照样品被固定在该支架中，进行第一反射测量并从光强传感器获得第一强度值；

/5/在该支架中用该镜片替代该参照样品，并进行第二反射测量并从该光强传感器得到第二强度值；以及

/6/通过将在步骤/3/中选定的该参照样品的反射值与分别在步骤/4/和/5/中获得的该第一强度值和第二强度值结合，获得该镜片面的反射值结果。

在本发明方法中，这些参照样品的这些已知反射值和在步骤/4/和/5/中进行的这些测量涉及同一个入射角值和同一个波长窗口。此类方法适用于对具有弯曲的光反射面的样品（比如镜片）测量反射，而测量结果并不被这些被测面的曲率破坏。

附图说明

图1是根据本发明的反射测量装置的总体正视图；

图2a和图2b分别是根据本发明的镜片支架（如在根据图1的装置中使用的）的上部部分的透视图和俯视图；

图3是根据本发明的镜片支架的下部部分的透视图；

图4是图1的该装置的中心部分的放大视图；以及

图5是在图1的该装置中所实施的横向定位系统的俯视图。

为了清晰，可以不跟实际尺寸有关、也不跟实际尺寸的比例有关地来确定这些图中展示的元件的尺寸。另外，在不同图中使用的相同的附图标记表示相同的元件。

具体实施方式

根据图1，被总体表示为100的反射测量装置包括：

-光源1，

-光传送头3，带有光传送端口3p，

-第一光纤2，用于将由该光源1产生的光束传导到该光传送头3，

-光收集头8，带有光收集端口8p，

-第二光纤9，用于将由该光收集头8收集的光朝光强传感器传导，

-可选地，辐射选择器11，被设计成用于在所收集的光中选择具有包含在期望的波长窗口内的波长的辐射，以及

-光强传感器12。

附图标记5表示有待进行反射测量的镜片，具有上光学面5a和下光学面5b。该镜片面5a是要进行反射测量的面。例如，该镜片面5a是凹的并且镜片面5b是凹的。然后，光传送端口3p输出的光束被引导到镜片面5a上去，并且此光束的反射部分进入该光收集端口8p。附图标记5’表示该镜片5在该装置100中的另一个定位，这样使得反射测量在其光学面中的一个凸面上进行。D1表示由该光传送头3输出的光束的传播方向，并且D2表示该光束的反射部分朝该光收集头8的传播方向。

A-A表示装置100的轴线，期望该轴线垂直于在测量位置处的该镜片5的该面5a。因此，方向D1和D2相对于轴线A-A对称，其中，轴线A-A与方向D1之间存在入射角α。角α还是存在于轴线A-A与方向D2之间的反射角。角度标尺101和102被设计成用于允许针对头3和头8对入射角α的调整，以便收集反射光束部分。例如，装置100被设计成用于允许入射角α被设置在从10°到70°范围内的值。

镜片5的支架自身包括上部部分4、下部部分6、和用于相对于装置100的其他部件保持此上部部分4和此下部部分6的基座部分。实际上，该基座部分可以与整个装置100的支撑框架是一体的。优选地，该基座部分相对于该支撑框架刚性地保持该支架的上部部分4。

附图标记7表示附加系统，该附加系统用于沿着多个垂直于轴线A-A的方向调整镜片5的位置。稍后将在下文中对系统7进行描述。

光源1可以是任何适用于在期望的波长范围内的测量的类型。例如，氘灯和钨灯的组合适用于对应于UV-B、UV-A和可见辐射的从280nm到780nm的波长范围内的测量。

该光传送头3和光收集头8分别可以具有任何适用于对对应的光纤2或9与镜片5的面5a上的测量位置之间的截面轮廓中的光束进行适配的光学结构。例如，头3、8各自可以包括两个透镜，选择这些透镜是用于在测量位置产生具有2mm截面直径的光束。

辐射选择器11和光强传感器12可以被包括在任何可商购类型的光谱仪10内。

根据图2a和图2b，该支架的上部部分4包括上部基座元件40和三个接触部分41、42和43。这些部分41到43分别可以包括固定地安装在基座元件40中的杆，并且杆的自由端为球形并从基座元件40的下表面延伸。基座元件40被刚性地保持在装置100中，并且例如接触部分41到43朝下定向。这些接触部分41到43的这些杆是平行的，并沿着轴线A-A向下凸出延伸到共同的高度。每个杆伸出基座元件40的延伸长度可以包括在约1.2mm（毫米）和3mm之间。此外，这些接触部分41到43可以分布在基座元件40的下表面以便形成等边三角形，例如，边长为10.8mm且相对于轴线A-A定中心。

根据图3，该镜片支架的下部部分6包括下部基座元件60，该下部基座元件设置有三个可伸缩的指状物61、62和63，这些指状物彼此相同且朝上定向。指状物61到63中的每一个包括刚性杆，此刚性杆从下部基座元件60的上表面平行于轴线A-A地延伸出，但是由于安装在该杆和该下部基座元件60之间的弹簧64，杆具有可变的突出长度。优选地，这些指状物61到63分别被安排在该下部基座元件60的该上表面中、沿着与轴线A-A平行的方向与这些接触部分41到43对齐。形成这些指状物61到63的这些杆的上端还可以被成型为半球以用于形成附加的接触部分。

该支架的下部基座元件60可以被安装在升降系统上，该升降系统相对于装置100是可移动的（图4）。例如，该升降系统可以包括沿着轴线A-A定向的圆柱形状的实心构件110，从而使其可以滑动通过装置100的底部部分101。弹簧111将构件110与支架的下部部分6一起向上推，直到止动元件112抵靠在该底部部分101上，以避免下部部分6撞上上部部分4。

从而，通过将该升降系统朝下拉、然后让弹簧111向上压下部基座元件60，镜片5可以被插到该上部部分4和该下部部分6之间。从而镜片5被夹住，并且这些部分41到43与该镜片的上面5a接触，这些指状物61到63与镜片下面5b接触。所有的接触均为点接触，但是足够柔软而不会擦伤镜片面5a和5b。优选地，与升降系统的弹簧111相比，每个弹簧64的刚度约为三分之一。以此方式，镜片5可以被固定在装置100中，以便在轴线A-A上安排任何在面5a内的位置，前提是这些接触部分41到43和这些指状物61到63位于镜片5的周边边缘5c中（见图5）。然后，反射测量将在这个位置实施。

由于这些接触部分41到43彼此接近，尽管面5a有曲率，镜片面5a的高度在这些接触部分之间几乎是常量。这个高度被上部基座元件40沿着轴线A-A的定位精确地控制。它被设置成使得光传送头3输出的光束被面5a反射，并且反射光束进入光收集端口8p，不管入射角α是什么。该上部基座元件40进一步设置有两个凹陷44和45，对于入射角α的任何值，都适用于避免入射的光束和反射的光束被该上部基座元件40本身阻止。凹陷44和45可以是被机加工在该上部基座元件40的相对侧面中的凹槽。由于镜片5的两个面5a和5b之间沿着轴线A-A的高度的差，还因为在测量位置两个面5a和5b之间存在可能的非零棱镜，被面5b向上反射的额外光线部分不会进入光收集端口8b，从而使得它不会影响反射的被测值。

另外，任何用于抑制或丢弃传输通过镜片5的这部分光束的方法都可以实施。对传输通过镜片5的光的此类抑制可以参与提高反射测量的精确度。这尤其是对反射束的低强度是比较重要的，例如当镜片5的面5a设置有减反射涂层时。为了这个目的，可以在下部基座元件60中在其与照射光束侧相对的侧面设置空隙凹陷65（见图3和图4）。该凹陷65可以是在下部基座元件60中从其上表面和侧面朝向轴线A-A被机加工的凹槽。以此方式，传输通过镜片5并在其第二面5b离开的这部分光束可以传播通过凹陷65直到被使用任何合适的方式截留、反射离开或丢弃。

该横向定位系统7允许在镜片面5a内选择测量位置。如图5所示，系统7可以包括两个抵接段71和72，这两个抵接段旨在在互相垂直定向的边缘部分接触镜片5的外围边缘5c。可以提供刻度标尺73和74以用于设置段71和72。可以可选地提供额外的设置设备75和直径标尺76以使基于该镜片的直径值的镜片定位更容易。一旦使用设置设备75和标尺76适当地选定镜片5的实际直径值，段71的设置允许调整测量位置与镜片外围边缘5c之间的距离。然后将段72向后放置抵靠在止动件77上。首先用设置设备75选择镜片直径的实际值允许可以参照镜片5的中心点对测量位置进行选择。因此，参照该镜片中心或其外围边缘5c在镜片面5a内选择该测量位置是可能的。

下面描述一种用于使用装置100测量镜片5的反射的方法。首先，根据入射角α的期望值对光传送头3和光收集头8进行设置。还选择测量波长窗口。优选地，此波长窗口非常窄，以致于可以认为测量是使用单色光进行的。

获得具有球面的参照样品，该球面的曲率值等于镜片5的平均曲率值。同样，参照样品的凹与凸类型与旨在进行反射测量的镜片5的面5a的一致。该平均曲率值等于沿着与该面平行且互相垂直的两个方向的镜片面5a的最大曲率值和最小曲率值之和的一半。当镜片5为渐变式时，当在面5a内移动测量位置时，该平均曲率值会改变。因此，要对该参照样品进行选择，使得其曲率与镜片面5a在该测量位置的曲率匹配。实际上，该参照样品的曲率值没有必要与该镜片面5a的平均曲率值完全相等。两个值比较接近就足够了，例如具有小于1屈光度、优选地小于0.5屈光度的差别。为了允许对于任何镜片使用本发明方法进行测量，可以提供一系列参照样品，其对应的曲率或曲率半径增量地变化，例如曲率有0.25或0.5屈光度的增量。典型地，对于凹的参照样品，曲率半径可以从70到160mm变化，并且对于凸的参照样品从80到760mm变化。这些参照样品的背面可以涂黑，或者参照样品的材料可以是吸收光的，以在背面抑制不想要的光束反射。

参照样品的反射值R₁对于为入射角和波长选定的值是已知的，或者是因为已经用另一种方法对其进行测量，或者是因为它可以从提供的表中读取，或者它可以从参照样品的材料的光学折射率计算出来。例如，这种材料可以是冕牌玻璃BK7。

参照样品被插在样品支架的上部部分4和下部部分6之间，并进行反射测量。这会导致传感器12所检测到的强度值I1。

然后在样品支架中用镜片5替代该参照样品，并且反射测量会导致传感器12所检测到的强度值I2。

然后，该镜片面5a的反射值可以被计算为R₁x I₂/I₁。如果该传感器12输出的感测信号与光强不成比例，可以用其他的值组合作为替代方案。

本发明可以被应用于测量每个在被测面上配备有减反射涂层的镜片的剩余反射。为了这个目的，入射角可以被设置成小于等于17°（例如15°），并且测量波长可以从380nm（纳米）到780nm变化。

本发明的另一种应用处理测量镜片背面上在其外围边缘附近UV辐射的反射，例如，用于对UV辐射量进行量化，这些辐射可以起源于镜片佩戴者后方，在颞侧照射到镜片背面然后进入该佩戴者的眼睛。对于这个另一个应用，入射角可以被设置为30°或50°，并且测量波长可以从280nm到380nm变化。

Claims (11)

1.一种支架，其适于用于对眼科镜片进行反射测量，包括：

-上部部分（4），其包括上部基座元件（40）和三个第一接触部分（41-43），这三个第一接触部分被刚性地安排在该上部基座元件的下端，以便与该镜片（5）的第一面（5a）在对应的基准位置分别产生三个第一点接触，这些基准位置被相对于该上部部分固定地限定；

-下部部分（6），其包括下部基座元件（60）和三个第二接触部分（61-63），这三个第二接触部分的每个被安装在该下部基座元件上，以便从所述下部基座元件的上端延伸直至超出该下部基座元件的上端对应的可变距离，并能够提供三个第二点接触；以及

-保持装置，其用于保持该上部部分（4）和该下部部分（6），并且该上部部分和下部部分的对应的下端和上端面朝彼此，同时将这些第二接触部分（61-63）朝该上部部分按压，从而使得该镜片（5）被固定在这些第一接触部分（41-43）与所述多个第二接触部分之间，其中，这三个第二点接触位于该镜片的与该第一面（5a）相对的第二面（5b）中；

该上部基座元件（40）具有多个凹陷（44，45），这些凹陷被设置在所述上部基座元件的多个相对的侧面中，从而使得在这些凹陷之一中传播的光束在位于这三个第一点接触之间的测量位置处照射在该镜片（5）的第一面（5a）上，并且来自该镜片的第一面中的测量位置的光束的反射方向穿过这些凹陷中的另一个并从所述另一个凹陷离开。

2.根据权利要求1所述的支架，其中，该下部部分（6）和上部部分（4）围绕轴线（A-A）定向，该轴线从该上部基座元件（40）的下端朝该下部基座元件（60）的上端延伸，从而使得这三个第一点接触分别沿着多个与该轴线平行的方向与这三个第二点接触对齐。

3.根据权利要求1或2所述的支架，其中，在该上部基座元件（40）的相对侧面中的凹陷（44，45）被设计成使得照射光束的传播方向（D1）与垂直于包含这三个第一点接触的平面的方向之间的入射角（α）被包括在夹角15°与45°之间。

4.根据前述权利要求中任意一项所述的支架，其中，该下部基座元件（60）具有空隙凹陷（65），该空隙凹陷被设置在所述下部基座元件的侧面中，从而使得传输通过被固定在这些第一接触部分（41-43）与这些第二接触部分（61-63）之间的该镜片（5）的光束的一部分在所述镜片的第二面（5b）处离开后传播通过该空隙凹陷。

5.根据前述权利要求中任意一项所述的支架，其中，三个第一接触部分（41-43）被安排在该上部基座元件（40）的下端，从而使得这三个第一点接触形成等边三角形。

6.根据前述权利要求中任意一项所述的支架，其中，用于保持该上部部分（4）和该下部部分（6）的保持装置包括升降系统，该升降系统适用于使该下部部分（6）朝该上部部分（4）移动，直到该镜片（5）被夹持在三个第一接触部分（41-43）和三个第二接触部分（61-63）之间，同时限制所述三个第一接触部分在该镜片的第一面（5a）上的压力，并限制所述三个第二接触部分在该镜片的第二面（5b）上的压力。

7.一种反射测量装置（100），其包括根据前述权利要求中任意一项所述的支架，并进一步包括光源（1）和光强传感器（12），并且其中

光传送端口（3p）连接到用于保持该上部部分（4）和该下部部分（6）的保持装置，从而使得该光源产生的光束通过该光传送端口离开，然后传播通过该上部基座元件（40）的凹陷（44，45）之一并照射到该镜片（5）的第一面（5a）上去，

光收集端口（8p）也连接到所述用于保持该上部部分和该下部部分的保持装置，从而使得该光源产生的并被该镜片的第一面反射的光束穿过该上部基座元件的另一凹陷，然后进入该光收集端口并到达光强传感器。

8.根据权利要求7所述的装置，其中，该光源（1）被适配成用于输出光束，该光束具有连续分布在280nm到780nm波长范围上的辐射，并且该装置（100）进一步包括辐射选择器（11），该辐射选择器被安排成使得该光强传感器（12）感测限制在选定为280nm和780nm之间的波长窗口内的辐射。

9.根据权利要求7或8所述的装置，包括角度设置系统（102），该角度设置系统适合用于使该光传送端口（3p）和该光收集端口（8p）移动，从而使得照射光束的传播方向（D1）与垂直于包含三个第一点接触的平面的方向之间的、并且也是所述垂直方向与光束被该镜片（5）的第一面（5a）反射时的传播方向（D2）之间的入射角（α）被设置为目标值，该目标值被选定为在从小于等于17°的较小角度值直至大于等于45°的较大角度值的角度范围内。

10.根据权利要求7到9中任意一项所述的装置，进一步包括横向定位系统（7），该横向定位系统适合用于沿着多个垂直于轴线（A-A）的方向设置该镜片（5）的横向位置，该轴线从该上部基座元件（40）的下端朝该下部基座元件（60）的上端延伸，从而使得通过该镜片横向位置的设置将测量位置选定在该镜片的第一面（5a）内，

所述横向定位系统包括至少一个抵接段（71，72），该抵接段被安排成用于接触该镜片（5）的外围边缘（5c）并且离测量位置的分离距离是可调整的。

11.一种用于对镜片进行反射测量的方法，其使用根据权利要求7到10中任意一项所述的装置，并包括如下步骤：

/1/提供一组参照样品，这些参照样品具有曲率值已知的球形的对应的测量面，每个参照样品具有已知的反射值并被设计成使得所述参照样品的背面不会导致反射辐射；

/2/获得有待进行反射测量的镜片（5），并获得所述镜片的要进行反射测量的面（5a）的平均曲率值；

/3/选择这些参照样品之一，从而使得该选定的参照样品的曲率值与该有待进行反射测量的镜片面（5a）的平均曲率值匹配；

/4/使用该装置（100），并且该选定的参照样品被固定在支架中，进行第一反射测量并从光强传感器（12）获得第一强度值；

/5/在支架中用该镜片（5）替代该参照样品，并进行第二反射测量并从光强传感器（12）获得第二强度值；以及

/6/通过将在步骤/3/中选定的参照样品的反射值与分别在步骤/4/和/5/中获得的第一强度值和第二强度值结合，获得该镜片面（5a）的反射值的结果；

其中，参照样品的已知反射值和在步骤/4/和/5/中进行的测量涉及同一个入射角（α）值和同一个波长窗口。

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