CN103801099A - 一种脱苯再生一体塔负压蒸馏工艺系统 - Google Patents
一种脱苯再生一体塔负压蒸馏工艺系统 Download PDFInfo
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Abstract
一种脱苯再生一体塔负压蒸馏工艺系统，属于冶金焦化行业粗苯回收技术领域。包括脱苯再生一体塔（1），再生油汽回流管道（2）、热贫油自流管道（3）、苯汽管道（4）；所述的脱苯再生一体塔（1）分为三段，上段脱苯段（5）、中段再生段（6）、下段塔底油槽（7），再生段（6）顶部通过再生油汽回流管道（2）与脱苯段（5）相连接，脱苯段（5）底部通过热贫油自流管道（3）与塔底油槽（7）相连接，脱苯段（5）顶部通过苯汽管道（4）与真空系统相接，实现脱苯段（5）及再生段（6）的负压操作条件。优点在于，工艺设备数量少、管道系统简单，总图占地面积小、工程投资低，工艺操作简单，设备维修量少。
Description
技术领域
本发明属于冶金焦化行业粗苯回收技术领域，特别是涉及一种脱苯再生一体塔负压蒸馏工艺系统，尤其是能实现富油脱苯、循环贫油再生及贫油贮存功能的脱苯再生一体塔。
背景技术
目前国内公知的粗苯回收系统中将脱苯塔、再生器、贫油槽作为独立设备分别设置，分别实现富油脱苯、循环贫油再生及贫油贮存功能。这种工艺布置形式设备分散，设备之间连接管线长，操作检修不便，总图占地面积大，工程投资高。
发明内容
本发明提供了一种脱苯再生一体塔负压蒸馏工艺系统，克服了上述粗苯回收工艺系统的设备分散，设备之间连接管线长，操作检修不便，总图占地面积大，工程投资高等缺点。
本发明将原有工艺脱苯塔、再生器及贫油槽合成脱苯再生一体塔，实现了富油脱苯、循环贫油再生及贫油贮存功能。
脱苯再生一体塔结构分为三段，上段脱苯段、中段再生段、下段塔底油槽，再生段顶部通过再生油汽回流管道与脱苯段相连接，再生油汽通过塔内压差回流到脱苯段，脱苯段底部通过热贫油自流管道与塔底油槽相连接，热贫油依靠设备本身位差自流入塔底油槽，脱苯段顶部通过苯汽管道与真空系统相接，实现脱苯段及再生段的负压操作条件。
本发明提供了一种脱苯再生一体塔负压蒸馏工艺系统，工艺设备数量少、管道系统简单，总图占地小、工程投资低，工艺操作简单，设备维修量小。
附图说明
图1是脱苯再生一体塔负压蒸馏工艺系统示意图。其中，脱苯再生一体塔1、再生油汽回流管道2、热贫油自流管道3、苯汽管道4、脱苯段5、再生段6、塔底油槽7。
具体实施方式
在图1所示实施例中，一种脱苯再生一体塔负压蒸馏工艺系统将原有工艺脱苯塔、再生器及贫油槽合成脱苯再生一体塔1，实现了富油脱苯、循环贫油再生及贫油贮存功能。脱苯再生一体塔1结构分为三段，上段脱苯段5、中段再生段6、下段塔底油槽7，再生段6顶部通过再生油汽回流管道2与脱苯段5相连接，再生油汽通过塔内压差回流到脱苯段5，脱苯段5底部通过热贫油自流管道3与塔底油槽7相连接，热贫油依靠设备本身位差自流入塔底油槽7，脱苯段5顶部通过苯汽管道4与真空系统相接，实现脱苯段5及再生段6的负压操作条件。
本发明将原有工艺脱苯塔、再生器及贫油槽有效的合为一体塔，实现了富油脱苯、循环贫油再生及贫油贮存功能，缩短了脱苯塔与贫油槽、再生器之间的管道连接，工艺设备数量少、管道系统简单，总图占地面积小、工程投资低，工艺操作简单，设备维修量少。
Claims (2)
1.一种脱苯再生一体塔负压蒸馏工艺系统，包括脱苯再生一体塔（1）、再生油汽回流管道（2）、热贫油自流管道（3）、苯汽管道（4）；其特征在于：脱苯再生一体塔（1）分为三段，上段脱苯段（5）、中段再生段（6）、下段塔底油槽（7）；再生段（6）顶部通过再生油汽回流管道（2）与脱苯段（5）相连接，再生油汽通过塔内压差回流到脱苯段（5）；脱苯段（5）底部通过热贫油自流管道（3）与塔底油槽（7）相连接，热贫油依靠设备本身位差自流入塔底油槽；脱苯段（5）顶部通过苯汽管道（4）与真空系统相接，实现脱苯段（5）及再生段（6）的负压操作条件。
2.根据权利要求1所述的系统，其特征在于：将原有工艺脱苯塔、再生器及贫油槽合成脱苯再生一体塔，实现了富油脱苯、循环贫油再生及贫油贮存功能。
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2014
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| C06 | Publication | ||
| PB01 | Publication | ||
| C10 | Entry into substantive examination | ||
| SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
| C02 | Deemed withdrawal of patent application after publication (patent law 2001) | ||
| WD01 | Invention patent application deemed withdrawn after publication |
Application publication date: 20140521 |