CN103700744A - 发光器件 - Google Patents

发光器件 Download PDF

Info

Publication number
CN103700744A
CN103700744A CN201310716962.2A CN201310716962A CN103700744A CN 103700744 A CN103700744 A CN 103700744A CN 201310716962 A CN201310716962 A CN 201310716962A CN 103700744 A CN103700744 A CN 103700744A
Authority
CN
China
Prior art keywords
width
electrode
barrier layer
expansion electrode
current barrier
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
CN201310716962.2A
Other languages
English (en)
Inventor
杨力勋
蔡培崧
徐宸科
林素慧
赵志伟
黄少华
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Anhui Sanan Optoelectronics Co Ltd
Original Assignee
Anhui Sanan Optoelectronics Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Anhui Sanan Optoelectronics Co Ltd filed Critical Anhui Sanan Optoelectronics Co Ltd
Priority to CN201310716962.2A priority Critical patent/CN103700744A/zh
Publication of CN103700744A publication Critical patent/CN103700744A/zh
Priority to PCT/CN2014/086725 priority patent/WO2015096520A1/zh
Pending legal-status Critical Current

Links

Images

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L33/00Semiconductor devices having potential barriers specially adapted for light emission; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof
    • H01L33/02Semiconductor devices having potential barriers specially adapted for light emission; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof characterised by the semiconductor bodies
    • H01L33/14Semiconductor devices having potential barriers specially adapted for light emission; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof characterised by the semiconductor bodies with a carrier transport control structure, e.g. highly-doped semiconductor layer or current-blocking structure
    • H01L33/145Semiconductor devices having potential barriers specially adapted for light emission; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof characterised by the semiconductor bodies with a carrier transport control structure, e.g. highly-doped semiconductor layer or current-blocking structure with a current-blocking structure
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L33/00Semiconductor devices having potential barriers specially adapted for light emission; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof
    • H01L33/36Semiconductor devices having potential barriers specially adapted for light emission; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof characterised by the electrodes
    • H01L33/38Semiconductor devices having potential barriers specially adapted for light emission; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof characterised by the electrodes with a particular shape

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • Led Devices (AREA)

Abstract

本发明公开了一光电器件。该光电器件至少包括:发光外延叠层,至少包括:第一导电类型的第一半导体层、第二导电类型的第二半导体层及夹在两者之间的有源层;第一电极,位于第一半导体层表面上方,包括焊盘和扩展电极,所述扩展电极由所述焊盘向外延伸而成;电流阻挡层,位于所述扩展电极的下方,其延伸方向与所述扩展电极一致,但边缘与所述扩展电极的边缘非平行排列,使得电流倾向于绕过而非穿过电流阻挡层从电极向器件扩散。

Description

发光器件
技术领域
本发明涉及一种半导体发光器件,属于半导体器件制造技术领域。 
背景技术
发光二极管(LED)的核心基本结构包括p型半导体层(p区)、有源层(发光层或发光部)和n型半导体层(n区)。当LED受到正向偏压的作用时,p区中的空穴向n区移动,n区中的电子向p区移动,电子和空穴在有源层复合。从理论上讲,电子和空穴复合释放出的能量绝大部分以光(辐射跃迁)的形式释放出来。由于LED具有低能耗、环保、小型化、寿命长等优点,其具有广阔的市场发展前景。 
发明内容
本发明公开了一种发光器件结构,在这种结构中至少包括一个电极结构和与该电极结构配合使用的电流阻挡层。所述发光器件,具体包括:发光外延叠层,至少包括:第一导电类型的第一半导体层、第二导电类型的第二半导体层及夹在两者之间的有源层;第一电极,位于第一半导体层表面上方,包括焊盘和扩展电极,所述扩展电极由所述焊盘向外延伸而成;电流阻挡层,位于所述扩展电极的下方,其边缘与所述扩展电极的边缘非平行排列,电流倾向于绕过而非穿过电流阻挡层从电极向器件扩散。 
在一些实施例中,所述发光器件至少包括层叠的半导体结构以及电极结构和电流阻挡层。电极结构至少包括一个焊盘和一个扩展电极,其中焊盘可以用来与外电路做电连接,扩展电极用来促进电流在器件上的扩散。同时,在整个扩展电极上,与焊盘相连的部分在与扩展电极延伸方向正交方向上拥有最大的宽度,且扩展电极在与其延伸方向正交的方向上的宽度从邻近焊盘的位置向扩展电极的末端减小,使得在整个扩展电极的与延伸方向正交的横截面上的电流密度近似相等。同时,至少在扩展电极的下方存在电流阻挡层,电流倾向于绕过而非穿过电流阻挡层从电极向器件扩散。电流阻挡层的延伸方向与扩展电极一致,并且电流阻挡层在与其延伸方向正交方向上的宽度从邻近焊盘的位置向扩展电极的末端减小。 
在一些实施例中,所述发光器件至少包括第一导电类型的第一半导体层、第二导电类型的第二半导体层以及位于两类半导体层之间的发光层。至少在第一半导体层上方有一电极,该电极与第一半导体层直接接触。 
在一些实施例中,所述发光器件至少包括第一导电类型的第一半导体层、第二导电类型的第二半导体层以及位于两类半导体层之间的发光层。至少在第一半导体层上方有一电极,该电极与第一半导体层之间至少还存在一种透明导电材料。 
在一些实施例中,所述电流阻挡层在与其延伸方向正交的方向上的宽度,大于相应位置的扩展电极的宽度,并且两者的宽度差距从邻近焊盘的位置向扩展电极的末端减小。 
在一些实施例中,所述电流阻挡层在与其延伸方向正交的方向上的宽度,小于相应位置上扩展电极的宽度,并且两者的宽度差距从邻近焊盘的位置向扩展电极的末端增大。 
在一些实施例中,所述扩展电极包括若干分支,其不与焊盘直接相连接。所述分支在与其延伸方向正交的方向上的宽度从起始端向末端减小。并且,至少在主扩展电极的下方存在电流阻挡层,电流倾向于绕过而非穿过电流阻挡层从电极向器件扩散,电流阻挡层的延伸方向与电极主扩展电极一致,并且电流阻挡层在与其延伸方向正交方向上的宽度从邻近焊盘的位置向扩展电极的末端减小。 
更优的,在扩展电极分支的下方也存在电流阻挡层,且电流阻挡层在与其延伸方向正交的方向上的宽度从所述分支起始端的位置向所述分支的末端减小,所述电流阻挡层在与其延伸方向的正交方向上的宽度可以大于或小于相应位置上的所述扩展电极分支的宽度。 
附图说明
图1是一种公知的发光器件结构图。 
图2是图1沿AA’线的剖面图。 
图3是另一种公知的发光器件结构图。 
图4是图3沿BB’的剖面图。 
图5是依据本发明的一实施例的发光器件的结构图。 
图6是图5沿CC’线的剖面图。 
图7是图5沿DD’线的剖面图。 
图8是依据本发明的另一实施例的发光器件的结构图。 
图9是依据本发明的再一实施例的发光器件结构图。 
图10是图9沿EE’线的剖面图。 
图11是依据本发明的又一实施例的发光器件结构图。 
符号说明: 
第一半导体层141、241、341、441、541、641;
焊盘121、221、321、421、521、621;
扩展电极122、222、322、422、522、622、623;
发光部142、242、342、542;
第二半导体层143、243、343、543;
电流阻挡层231、232、331、332、431、432、531、532、631、632、633;
透明导电层551。
具体实施方式
发光二极管可以将外部注入的电流转换成特定波长的光发射出来。因此,通过合适的电极设计来优化电流注入的方式,对于提高器件的能量利用效率和长期工作稳定性具有重要的意义。 
图1是一种公知的发光器件结构101的俯视图。该发光器件包含第一半导体层141、发光部142、第二半导体层143以及与第一半导体层141直接接触的电极。该电极包括焊盘121和扩展电极122。其中焊盘可以通过导线或者其他导体与外电路相连接,扩展电极促进外电路注入的电流在第一半导体层141上的扩散。 
图2是图1沿AA’线的剖面图。当器件101与外电路接通时,电流经由焊盘121、扩展电极122扩散到第一半导体层141,然后从第一半导体层141注入发光部142,该发光部142将部分电能转换成光能并发射出去,最终电流流入第二半导体层143中(143可以直接与外电路接通),这样就形成了一完整回路。 
在器件101中,扩展电极121为宽度均一的条状结构,因此随着电流扩散到第一半导体层141上,扩展电极在与其延伸方向正交的横截面上的电流密度从邻近焊盘位置向扩展电极的末端会不断的减小。如此,当操作电流较小时该扩展电极(特别是扩展电极的末端位置)电流密度很低,导致电极的利用效率很低;当操作电流较大时,扩展电极与焊盘相邻的区域电流密度过大,容易由于电流过载导致材料损耗,导致器件的使用寿命缩短。进一步地,如图2中虚线箭头所示,电流倾向于从电极正下方的半导体层叠结构中流回外电路,因为这样的电流路径最短。在这种情况下,一方面,在远离电极的位置电流过小,对于发光部的利用效率过低;另一方面,电极正下方的发光部会产生较多的光,而这些光向外发射时较容易被电极所遮挡,导致光损失。 
图3和图4是另一种公知的发光器件结构102,且图4是沿图3沿BB’的剖面图。与图1不同的是,至少在扩展电极222的下方存在一电流阻挡层232。较优的,在电极焊盘221的下方也存在电流阻挡层231。 
由于电流倾向于绕过而非穿过电流阻挡层,因此电流阻挡层可以更好地避免电流直接注入电极正下方的半导体层叠结构,使得电极的电流更好的扩散到整个第一半导体层上。 
在图3中,可以看出,扩展电极222和电流阻挡层232的边沿互相平行。当电流注入时,在邻近焊盘的电极位置具有最大的电流密度,扩展电极上的电流密度从邻近焊盘位置向末端不断减小,使得从扩展电极222扩散到第一半导体241的电流密度从邻近焊盘向[z1] 末端也不断减小。因此,器件102依然存在当操作电流较小时,扩展电极(特别是扩展电极的末端位置)电流密度很低,导致电极的利用效率很低;当操作电流较大时,扩展电极与焊盘相邻的区域电流密度过大,容易因为电流过载导致材料损耗,导致器件的使用寿命缩短的问题。 
图5、图6和图7是依据本发明的一实施例103的结构示意图。该发光器件至少包括:第一半导体层341、发光部342、第二半导体层344及直接位于其上的电极结构。其中电极结构包括焊盘321和扩展电极322。至少在扩展电极322的下方存在一电流阻挡层332。较佳的,在焊盘的下方同样存在电流阻挡层331。在本实施例中,电流阻挡层332的延伸方向与扩展电极322一致,但电流阻挡层边缘332a与扩展电极的边缘331a非平行排列。扩展电极322在与其延伸方向正交的方向上的宽度保持不变,而电流阻挡层332在邻近焊盘的位置(即起始端a)的宽度最大,并向延伸方向(即未端b)缩小幅度。通过此种设计,尽管扩展电极322在邻近焊垫的部分具有较高的电势,但是电流阻挡层332所引起的阻值也相应地升高,从而提高整个扩展电极322向第一半导体层341扩散电流的均匀性。 
图8是依据本发明的另一实施例104的结构示意图。器件104与器件103不同的地方在于,在邻近焊盘421的位置,扩展电极422具有最大的宽度,并且宽度随着与焊盘距离的增大而减小。通过这种设计,可以使得扩展电极422的宽度与相应位置处的电流强度尽量匹配,使得在整个扩展电极422与延伸方向正交方向的横截面上的电流密度保持基本一致,从而提高电极材料的利用效率并且提高器件的整体稳定性。在图8中,电流阻挡层432在与其延伸方向正交的方向上的宽度,从邻近焊盘的位置向延伸方向的末端的缩小幅度大于相对应的扩展电极的宽度的缩小幅度。即,在位置a处,扩展电极宽度与电流阻挡层宽度的差值,小于在位置b处,扩展电极宽度与电流阻挡层宽度的差值。 
图9和图10是依据本发明的再一实施例的结构示意图,器件105的电流阻挡层532的面积大于扩展电极522。如图9所示,在邻近焊盘521的位置,扩展电极522和电流阻挡层532具有最大的宽度,并且宽度随着与焊盘距离的增大而减小,但是电流阻挡层532的缩小幅度大于相对应的扩展电极的缩小幅度。即在位置a处,扩展电极宽度与电流阻挡层宽度的差值,大于在位置b处,扩展电极宽度与电流阻挡层宽度的差值。如图10所示,电流阻挡层532与扩展电极522之间还存在一透明导电层551,551存在于整个第一半导体层541上方。 
图11是依据本发明的又一实施例的结构示意图。器件106与104的区别在于:扩展电极622还包括若干个分支623。分支623的起始端a具有最大的宽度,并向末端b减小。进一步地,可在分支扩展电极的下方设置电流阻挡层633,且电流阻挡层在与其延伸方向正交方向上的宽度从邻近主扩展电极632的位置向分支的末端减小。 
以上所述仅是本发明的优选实施方式,应当指出,对于本技术领域的普通技术人员,在不脱离本发明原理的前提下,还可以做出若干改进和润饰,这些改进和润饰也应视为本发明的保护范围。 

Claims (10)

1.一种发光器件,包括:
发光外延叠层,至少包括:第一导电类型的第一半导体层、第二导电类型的第二半导体层及夹在两者之间的有源层;
第一电极,位于第一半导体层表面上方,包括焊盘和扩展电极,所述扩展电极由所述焊盘向外延伸而成;
电流阻挡层,位于所述扩展电极的下方,其延伸方向与所述扩展电极一致,但边缘与所述扩展电极的边缘非平行排列,使得电流倾向于绕过而非穿过电流阻挡层从电极向器件扩散。
2.根据权利要求1所述的一种发光器件,其特征在于:所述电流阻挡层在邻近焊盘的位置具有最大的宽度,并且宽度随着与焊盘距离的增大而减小。
3.根据权利要求1所述的一种发光器件,其特征在于:在邻近焊盘的位置,所述扩展电极和电流阻挡层具有最大的宽度,并且宽度随着与焊盘距离的增大而减小,但是所述电流阻挡层的缩小幅度大于相对应的扩展电极的缩小幅度。
4.根据权利要求1所述的一种发光器件,其特征在于:所述电流阻挡层在与其延伸方向正交的方向上的宽度,大于相应位置上扩展电极在与其延伸方向正交方向上的宽度,二者的宽度差距从邻近焊盘的位置向扩展电极的末端减小。
5.根据权利要求1所述的一种发光器件,其特征在于:所述电流阻挡层在与其延伸方向正交的方向上的宽度,小于相应位置上扩展电极在与其延伸方向正交方向上的宽度,二者的宽度差距从邻近焊盘的位置向扩展电极的末端增大。
6.根据权利要求1所述的一种发光器件,其特征在于:所述扩展电极包括若干分支,其不与所述焊盘直接相连接。
7.根据权利要求6所述的一种发光器件,其特征在于:所述分支在其延伸方向上的宽度从起始端向末端减小。
8.根据权利要求6所述的一种发光器件,其特征在于:在所述分支下方存在电流阻挡层,在与其延伸方向的正交方向上的宽度小于相应位置上的所述扩展电极分支的宽度。
9.根据权利要求6所述的一种发光器件,其特征在于:在所述分支下方存在电流阻挡层,在与其延伸方向的正交方向上的宽度大于相应位置上的所述扩展电极分支的宽度。
10.根据权利要求8或9所述的一种发光器件,其特征在于:所述电流阻挡层在与其延伸方向正交的方向上的宽度从所述分支起始端的位置向所述分支的末端减小。
CN201310716962.2A 2013-12-23 2013-12-23 发光器件 Pending CN103700744A (zh)

Priority Applications (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN201310716962.2A CN103700744A (zh) 2013-12-23 2013-12-23 发光器件
PCT/CN2014/086725 WO2015096520A1 (zh) 2013-12-23 2014-09-17 发光器件

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN201310716962.2A CN103700744A (zh) 2013-12-23 2013-12-23 发光器件

Publications (1)

Publication Number Publication Date
CN103700744A true CN103700744A (zh) 2014-04-02

Family

ID=50362214

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CN201310716962.2A Pending CN103700744A (zh) 2013-12-23 2013-12-23 发光器件

Country Status (2)

Country Link
CN (1) CN103700744A (zh)
WO (1) WO2015096520A1 (zh)

Cited By (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2015096520A1 (zh) * 2013-12-23 2015-07-02 厦门市三安光电科技有限公司 发光器件
CN104766911A (zh) * 2015-04-09 2015-07-08 聚灿光电科技股份有限公司 Led芯片及其制造方法
EP3046153A1 (en) * 2015-01-16 2016-07-20 Kabushiki Kaisha Toshiba Semiconductor light emitting device
CN106935687A (zh) * 2017-04-25 2017-07-07 聚灿光电科技股份有限公司 Led芯片及其制备方法
CN109473527A (zh) * 2018-11-13 2019-03-15 厦门乾照光电股份有限公司 发光二极管的半导体芯片和电流扩展方法
CN111129247A (zh) * 2020-01-03 2020-05-08 厦门三安光电有限公司 一种半导体发光元件
CN112117358A (zh) * 2020-09-22 2020-12-22 宁波天炬光电科技有限公司 单芯片大功率led芯片结构
CN113097355A (zh) * 2020-01-08 2021-07-09 安徽三安光电有限公司 发光二极管及其制作方法
CN113707779A (zh) * 2021-08-30 2021-11-26 安徽三安光电有限公司 发光二极管及发光装置

Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5309001A (en) * 1991-11-25 1994-05-03 Sharp Kabushiki Kaisha Light-emitting diode having a surface electrode of a tree-like form
CN102194929A (zh) * 2010-03-10 2011-09-21 Lg伊诺特有限公司 发光器件
CN102447029A (zh) * 2010-10-11 2012-05-09 Lg伊诺特有限公司 发光器件和包括该发光器件的照明器具
CN102903819A (zh) * 2012-10-30 2013-01-30 安徽三安光电有限公司 具有扩展电极的发光二极管
CN103165781A (zh) * 2011-12-09 2013-06-19 奇力光电科技股份有限公司 发光二极管元件

Family Cites Families (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP5087097B2 (ja) * 2010-03-08 2012-11-28 株式会社東芝 半導体発光素子
KR20110125363A (ko) * 2010-05-13 2011-11-21 주식회사 에피밸리 3족 질화물 반도체 발광소자
CN102437263A (zh) * 2011-12-16 2012-05-02 映瑞光电科技(上海)有限公司 发光二极管及其制造方法
CN103700744A (zh) * 2013-12-23 2014-04-02 安徽三安光电有限公司 发光器件

Patent Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5309001A (en) * 1991-11-25 1994-05-03 Sharp Kabushiki Kaisha Light-emitting diode having a surface electrode of a tree-like form
CN102194929A (zh) * 2010-03-10 2011-09-21 Lg伊诺特有限公司 发光器件
CN102447029A (zh) * 2010-10-11 2012-05-09 Lg伊诺特有限公司 发光器件和包括该发光器件的照明器具
CN103165781A (zh) * 2011-12-09 2013-06-19 奇力光电科技股份有限公司 发光二极管元件
CN102903819A (zh) * 2012-10-30 2013-01-30 安徽三安光电有限公司 具有扩展电极的发光二极管

Cited By (13)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2015096520A1 (zh) * 2013-12-23 2015-07-02 厦门市三安光电科技有限公司 发光器件
EP3046153A1 (en) * 2015-01-16 2016-07-20 Kabushiki Kaisha Toshiba Semiconductor light emitting device
US9472712B2 (en) 2015-01-16 2016-10-18 Kabushiki Kaisha Toshiba Semiconductor light emitting device
CN104766911A (zh) * 2015-04-09 2015-07-08 聚灿光电科技股份有限公司 Led芯片及其制造方法
CN106935687A (zh) * 2017-04-25 2017-07-07 聚灿光电科技股份有限公司 Led芯片及其制备方法
CN109473527A (zh) * 2018-11-13 2019-03-15 厦门乾照光电股份有限公司 发光二极管的半导体芯片和电流扩展方法
CN111129247A (zh) * 2020-01-03 2020-05-08 厦门三安光电有限公司 一种半导体发光元件
CN111129247B (zh) * 2020-01-03 2022-04-12 厦门三安光电有限公司 一种半导体发光元件
CN113097355A (zh) * 2020-01-08 2021-07-09 安徽三安光电有限公司 发光二极管及其制作方法
CN113097355B (zh) * 2020-01-08 2022-08-30 安徽三安光电有限公司 发光二极管及其制作方法
CN112117358A (zh) * 2020-09-22 2020-12-22 宁波天炬光电科技有限公司 单芯片大功率led芯片结构
CN112117358B (zh) * 2020-09-22 2021-07-16 宁波天炬光电科技有限公司 单芯片大功率led芯片结构
CN113707779A (zh) * 2021-08-30 2021-11-26 安徽三安光电有限公司 发光二极管及发光装置

Also Published As

Publication number Publication date
WO2015096520A1 (zh) 2015-07-02

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CN103700744A (zh) 发光器件
CN201898147U (zh) 微型发光导线与非导电纱线的结构
CN102074629B (zh) 具有夹心式电流阻挡结构的发光二极管
KR100875128B1 (ko) 고내정전압을 갖는 발광다이오드 및 그의 제조방법
CN105355743B (zh) 发光二极管及其制作方法
CN105826439B (zh) 一种发光二极管芯片及其制备方法
CN103456866B (zh) 一种全方位发光的倒装led芯片
CN106887490B (zh) 一种半导体led芯片
US8710531B2 (en) Light-emitting diode devices
CN215578550U (zh) Led芯片结构
CN112599587B (zh) 一种具有缓冲层结构的半导体器件
CN201689890U (zh) 一种具有反馈功能的串联式发光二极管
CN101350384A (zh) 具有改善出光率的led芯片及其制作工艺
CN207719202U (zh) 垂直结构芯片串联结构
CN105679909A (zh) 一种孔洞电极的发光二极管
CN103094430B (zh) 一种发光结构
CN201780985U (zh) 高亮发光二极管
US8729572B2 (en) Light emitting diode package having a voltage stabilizing module consisting of two doping layers
CN205122639U (zh) 超大功率垂直芯片的集成封装结构
CN103456874B (zh) 一种可三维出光的led器件及其制作方法
CN202487644U (zh) 改善电流传输的led芯片
CN202034407U (zh) Led芯片结构
CN208127203U (zh) 一种有机绝缘膜的半导体发光二极管
CN102832311B (zh) 发光二极管结构
CN202205749U (zh) 直立堆叠式发光二极管结构

Legal Events

Date Code Title Description
C06 Publication
PB01 Publication
C10 Entry into substantive examination
SE01 Entry into force of request for substantive examination
C02 Deemed withdrawal of patent application after publication (patent law 2001)
WD01 Invention patent application deemed withdrawn after publication

Application publication date: 20140402