CN103699261A - 触控面板及其制造方法 - Google Patents

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Abstract

本发明涉及触控技术领域，公开了一种触控面板及其制造方法。在所述触控面板中，透明导电层被所述高度差结构分割成为第一电极、第二电极子件阵列和填充块，并且第二电极子件阵列由导电的桥接线阵列串接成多列第二电极，因此省略了对透明导电层进行的构图工艺，从而减少了制作工艺，降低了生产成本。同时，由于透明导电层覆盖整个衬底基板，改善了整个触控面板透光率和反射率的均匀性，进而改善了显示画面的均匀性。

Description

触控面板及其制造方法
技术领域
本发明涉及触控技术领域，特别是涉及一种触控面板及其制造方法。
背景技术
随着科技的进步，触控面板因其在使用上更直观，更符合人性化设计，而被广泛应用于各种电子产品中。为了提高市场竞争力，减少制作工艺，降低成本和提高性能成为各生产商不断追求的目标。
在触控面板技术中，相对于电阻式触控面板，电容式触控面板具有寿命长、透光率高、可以支持多点触控等优点。并且，电容式触控面板对噪声和对地寄生电容也有很好的抑制作用。因此，电容式触摸屏已成为如今触控面板制造的热点之一。如图1所示，触控面板10＇包括多条行分布的驱动电极11＇、多条列分布的感应电极12＇以及多个检测单元（图中未示出）。驱动电极11＇和感应电极12＇横纵交叉分布，并在交叉处形成检测电容矩阵。电容式触控面板的触摸检测原理为：分别向各行驱动电极施加触控扫描信号，检测单元依次检测与每行驱动电极对应的感应电极的输出信号，从而检测出检测电容矩阵中的电容变化，实现触摸检测，确定触摸位置。
对于使用触控面板的电子产品，为了不影响画面显示，需要选择驱动电极11＇和感应电极12＇材料的透过率为90％-95％。但是，如图2所示，在形成横纵交叉分布的驱动电极11＇和感应电极12＇时，会导致整个触控面板各部分的透光率和反射率不同，使得画面显示不均匀。
发明内容
本发明提供一种触控面板及其制造方法，用以解决现有技术中在形成横纵交叉分布的驱动电极和感应电极时，会导致整个触控面板各部分的透过率和反射率不同，使得画面显示不均匀的问题。
为解决上述技术问题，本发明提供一种触控面板，包括：
衬底基板；
绝缘的高度差结构，所述高度差结构布置在所述衬底基板上；
透明导电层，所述透明导电层覆盖整个所述衬底基板，所述透明导电层被所述高度差结构分割成为第一电极、第二电极子件阵列以及位于第一电极和第二电极子件阵列之间的填充块，所述第一电极、所述第二电极子件和所述填充块中的相邻两者之间相对于所述衬底基板的高度不同从而在高度方向上彼此错开，使得所述第一电极、所述第二电极子件和所述填充块中的相邻两者之间彼此绝缘；
其中，所述第二电极子件阵列由导电的桥接线阵列串接成多列第二电极，各所述第二电极的延伸方向与所述第一电极的延伸方向垂直。
此外，本发明还提供一种制造触控面板的方法，包括：
准备衬底基板；
在所述衬底基板上形成导电的桥接线阵列；
形成绝缘的高度差结构，所述高度差结构布置在所述衬底基板上并且覆盖所述桥接线阵列，所述高度差结构形成有窗口阵列，所述窗口阵列露出各桥接线的两个端部；
形成透明导电层，所述透明导电层覆盖整个所述衬底基板，所述透明导电层落入所述窗口阵列的部分形成为第二电极子件阵列，其余部分被所述高度差结构分割成为第一电极和位于第一电极和第二电极子件阵列之间的填充块，所述第一电极、所述第二电极子件和所述填充块中的相邻两者之间相对于所述衬底基板的高度不同从而在高度方向上彼此错开，使得所述第一电极、所述第二电极子件和所述填充块中的相邻两者之间彼此绝缘，
其中，各所述桥接线露出的两个端部的连线方向与所述每一电极的延伸方向垂直；各所述第二电极子件与相应的桥接线的端部搭接，使得所述桥接线将所述第二电极子件阵列串接成多列第二电极，各所述第二电极的延伸方向与所述第一电极的延伸方向垂直。
本发明的上述技术方案的有益效果如下：
上述技术方案中，由于透明导电层被所述高度差结构分割成为第一电极、第二电极子件阵列和填充块，并且第二电极子件阵列由导电的桥接线阵列串接成多列第二电极，因此省略了对透明导电层进行的构图工艺，从而减少了制作工艺，降低了生产成本。同时，由于透明导电层覆盖整个衬底基板，改善了整个触控面板透光率和反射率的均匀性，进而改善了显示画面的均匀性。
附图说明
为了更清楚地说明本发明实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本发明的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动性的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。
图1表示现有技术中触控面板的结构示意图；
图2表示图1沿A-A方向的剖视图；
图3表示本发明实施例中触控面板的结构示意图一；
图4表示图3沿B-B方向的剖视图；
图5-图11表示图3中触控面板的制造过程示意图。
具体实施方式
下面将结合附图和实施例，对本发明的具体实施方式作进一步详细描述。以下实施例用于说明本发明，但不用来限制本发明的范围。
如图3-图11所示，本发明实施例中提供一种触控面板，其包括衬底基板10、导电的桥接线1的阵列、绝缘的高度差结构、透明导电层（如：氧化铟锡、氧化铟锌）。其中，桥接线1的阵列布置在衬底基板10上，如图5所示。所述高度差结构布置在衬底基板10上并且覆盖桥接线1阵列，所述高度差结构形成有窗口17阵列，窗口17阵列露出各桥接线1的两个端部，如图7所示。所述透明导电层覆盖整个衬底基板10，所述透明导电层落入窗口17阵列的部分形成为第二电极子件3阵列，其余部分被所述高度差结构分割成为第一电极2以及位于第一电极2和第二电极子件3阵列之间的填充块5，6，第一电极2、第二电极子件3和填充块5、6中的相邻两者之间相对于衬底基板10的高度不同从而在高度方向上彼此错开，使得第一电极2、第二电极子件3和填充块5、6中的相邻两者之间彼此绝缘，如图11所示。各桥接线1露出的两个端部的连线方向与每一电极2的延伸方向垂直，各第二电极子件3与相应的桥接线1的端部搭接，使得桥接线1将第二电极子件3阵列串接成多列第二电极，各所述第二电极的延伸方向与第一电极2的延伸方向垂直，从而在第一电极2和所述第二电极的交叉处形成检测电容矩阵，能够实现对触摸的检测。
其中，第一电极2为感应电极，所述第二电极为驱动电极。桥接线1的尺度非常小，在通常的设计中，桥接线1的尺度为70微米以下。
具体的，所述高度差结构包括第一绝缘层12和位于第一绝缘层12上方的第二绝缘层15，第一绝缘层12和第二绝缘层15均由无机绝缘材质形成。其中，第二绝缘层15落入第一绝缘层12的范围内，第二绝缘层15的面积小于第一绝缘层12的面积，从而露出部分第一绝缘层12，如图10所示。两层绝缘层方便形成所需的高度差结构。具体的工艺过程为：首先，形成第一绝缘层12，采用刻蚀工艺在第一绝缘层12中形成窗口17阵列，如图7所示；然后，在第一绝缘层12上方形成第二绝缘层15，采用刻蚀工艺对第二绝缘层15进行刻蚀，使得第二绝缘层15落入第一绝缘层12的范围内，第二绝缘层15的面积小于第一绝缘层12的面积，从而露出部分第一绝缘层12。
进一步地，第二绝缘层15形成有多个槽隙11，所述透明导电层落入所述槽隙11的部分形成为与所述第一电极2相邻的填充块6，槽隙11使得第一电极2相对于衬底基板10的高度不同于相邻的填充块6相对于衬底基板10的高度，从而使得第一电极2与相邻的填充块6在高度方向上错开。同时，相当于衬底基板10高度相同的第一电极2和填充块5通过槽隙11错开。
为了使得第一电极2和相邻的填充块6通过槽隙11完全断开，本实施例中的触控面板还包括光敏层14，光敏层14布置在第二绝缘层15与形成第一电极2和所述第二电极的透明导电层之间，第二绝缘层15和光敏层14的截面形成为顶端大底端小的多个T型结构。
在一个具体的实施方式中，第一绝缘层12和第二绝缘层15选择氮化硅、氧化硅、氮氧化硅或任意两者的结合或三者的结合，并通过以下过程形成所述T型结构：
首先，在第二绝缘层15上涂覆光敏层14，如：透明有机树脂层，如图8所示；然后，对光敏层14进行曝光，显影，形成光敏层不保留区域和光敏层保留区域，如图9所示；最后，采用干刻法刻蚀掉光敏层不保留区域的第二绝缘层15，形成多个槽隙11，露出第一绝缘层12，使得第一绝缘层12的表面形成一个高度差。由于干刻过程中会出现底层过刻现象，使得第二绝缘层15和剩余的光敏层14的纵截面组成顶端大底端小的T型结构，如图10所示，从而可以保证透明导电层不同高度且相邻图案之间的完全断开，如图11所示。
上述技术方案中，由于透明导电层被所述高度差结构分割成为第一电极、第二电极子件阵列和填充块，并且第二电极子件阵列由导电的桥接线阵列串接成多列第二电极，因此省略了对透明导电层进行的构图工艺，从而减少了制作工艺，降低了生产成本。同时，由于透明导电层覆盖整个衬底基板，改善了整个触控面板透光率和反射率的均匀性，进而改善了显示画面的均匀性。此外，由于桥接线1的尺度非常小，所以桥接线1的阵列不会对触控面板透光率和反射率的均匀性产生负面的影响。
显然，以上只是为了有助于发明的理解而作的举例，对于本技术领域的普通技术人员来说，在不脱离本发明技术原理的前提下，还可以做出不同的变型。
例如，在上述实施例中，在第一电极2和第二电极子件3的阵列之间，透明显示层被高度差结构分割成为填充块5和填充块6两部分，其中，填充块6与第一电极2齐平。然而，本发明不限于此，填充块5和填充块6可以形成为一体，并且第一电极2、第二电极子件3和填充块中的相邻两者之间相对于衬底基板10的高度不同从而在高度方向上彼此错开，使得第一电极2、第二电极子件3和填充块中的相邻两者之间彼此绝缘。
此外，在上述实施例中，第一电极2、第二电极子件3和填充块相对于衬底基板10的高度为，第一电极2最高，填充块其次，第二电极子件3最低。然而，本发明不限于此，可以设定为，第一电极2最低，填充块其次，第二电极子件3的阵列最高。在这种情况下，第二绝缘层15上可以形成有凹部阵列，透明导电层落入凹部阵列的部分形成为第二电极子件3的阵列，然后第二电极子件3的阵列由导电的桥接线1的阵列串接成多列第二电极。或者，可以设定为其他高度顺序。
最后，触控面板还可以包括第三绝缘层16，第三绝缘层16构成与衬底基板10相反的一侧的顶面，起到绝缘保护的作用，如图4所示。
在实际应用过程中，需保证触控面板中各层的透过率大于90％，最好大于95％，以不影响正常的画面显示。
下面结合图4-图11，说明根据本发明的触控面板的制造方法，具体包括：
准备衬底基板10；
在衬底基板10上形成导电的桥接线1阵列；
形成绝缘的高度差结构，所述高度差结构布置在衬底基板10上并且覆盖桥接线1阵列，所述高度差结构形成有窗口17阵列，窗口17阵列露出各桥接线1的两个端部；
形成透明导电层，所述透明导电层覆盖整个衬底基板10，所述透明导电层落入窗口17阵列的部分形成为第二电极子件3阵列，其余部分被所述高度差结构分割成为第一电极2和位于第一电极2和第二电极子件3阵列之间的填充块5和6，第一电极2、第二电极子件3和填充块5和6中的相邻两者之间相对于衬底基板10的高度不同从而在高度方向上彼此错开，使得第一电极2、第二电极子件3和填充块5和6中的相邻两者之间彼此绝缘，
其中，各桥接线1露出的两个端部的连线方向与每一电极2的延伸方向垂直；各第二电极子件3与相应的桥接线1的端部搭接，使得桥接线1将第二电极子件3阵列串接成多列第二电极，各第二电极的延伸方向与第一电极2的延伸方向垂直。
其中，第一电极2为感应电极，所述第二电极为驱动电极。
如图6-图10所示，形成所述高度差结构的步骤包括：
首先，形成第一绝缘层12，采用刻蚀工艺在第一绝缘层12中形成窗口17阵列，如图7所示；
然后，在第一绝缘层12上方形成第二绝缘层15，采用刻蚀工艺对第二绝缘层15进行刻蚀，使得第二绝缘层15落入第一绝缘层12的范围内，第二绝缘层15的面积小于第一绝缘层12的面积，从而露出部分第一绝缘层12。
其中，第一绝缘层12和第二绝缘层15均由无机绝缘材质形成。
进一步地，上述工艺过程中，在对第二绝缘层15进行刻蚀的步骤中，在第二绝缘层15中形成多个槽隙11，所述透明导电层落入所述槽隙11的部分形成为与所述第一电极2相邻的填充块6，槽隙11使得第一电极2相对于衬底基板10的高度不同于相邻的填充块6相对于衬底基板10的高度，从而使得第一电极2与相邻的填充块6在高度方向上错开。同时，相当于衬底基板10高度相同的第一电极2和填充块5通过槽隙11错开。
进一步地，对所述第二绝缘层15进行刻蚀的步骤还包括：
首先，在第二绝缘层15上涂覆光敏层14，如：透明有机树脂层，如图8所示；
然后，对光敏层14进行曝光，显影，形成光敏层不保留区域和光敏层保留区域，如图9所示；
最后，采用干刻法刻蚀掉光敏层不保留区域的第二绝缘层15，形成多个槽隙11，露出第一绝缘层12，使得第一绝缘层12的表面形成一个高度差。由于干刻过程中会出现底层过刻现象，使得第二绝缘层15和剩余的光敏层14的纵截面组成顶端大底端小的T型结构，如图10所示。
通过上述步骤形成的T型结构，可以使得第一电极2和相邻的填充块6通过槽隙11完全断开，如图11所示。
最后，本实施例中制备触控面板的制造方法还包括形成第三绝缘层16的步骤，第三绝缘层16构成与衬底基板10相反的一侧的顶面。起到绝缘保护的作用，如图4所示。
在实际应用过程中，需保证触控面板中各层的透过率大于90％，最好大于95％，以不影响正常的画面显示。
本发明的技术方案可以用于Add On、OGS、On Cell等触摸显示装置上。
以上所述仅是本发明的优选实施方式，应当指出，对于本技术领域的普通技术人员来说，在不脱离本发明技术原理的前提下，还可以做出若干改进和替换，这些改进和替换也应视为本发明的保护范围。

Claims (11)

1.一种触控面板，其特征在于，包括：
衬底基板；
绝缘的高度差结构，所述高度差结构布置在所述衬底基板上；
透明导电层，所述透明导电层覆盖整个所述衬底基板，所述透明导电层被所述高度差结构分割成为第一电极、第二电极子件阵列以及位于第一电极和第二电极子件阵列之间的填充块，所述第一电极、所述第二电极子件和所述填充块中的相邻两者之间相对于所述衬底基板的高度不同从而在高度方向上彼此错开，使得所述第一电极、所述第二电极子件和所述填充块中的相邻两者之间彼此绝缘；
其中，所述第二电极子件阵列由导电的桥接线阵列串接成多列第二电极，各所述第二电极的延伸方向与所述第一电极的延伸方向垂直。
2.根据权利要求1所述的触控面板，其特征在于，
所述高度差结构包括第一绝缘层和位于所述第一绝缘层上方的第二绝缘层，所述第一绝缘层和所述第二绝缘层均由无机绝缘材质形成；
所述第一绝缘层形成有窗口阵列，所述透明导电层落入所述窗口阵列的部分形成为所述第二电极子件阵列；
所述第二绝缘层落在所述第一绝缘层的范围内，所述第二绝缘层的面积小于所述第一绝缘层的面积，从而露出部分第一绝缘层。
3.根据权利要求2所述的触控面板，其特征在于，
所述第二绝缘层形成有多个槽隙，所述透明导电层落入所述槽隙的部分形成为与所述第一电极相邻的填充块。
4.根据权利要求2或3所述的触控面板，其特征在于，
所述桥接线阵列布置在所述衬底基板上，并且所述第一绝缘层覆盖所述桥接线阵列，所述窗口阵列露出各桥接线的两个端部；
各所述桥接线露出的两个端部的连线方向与所述每一电极的延伸方向垂直；各所述第二电极子件与相应的桥接线的端部搭接，使得所述第二电极子件阵列串接成多列所述第二电极。
5.根据权利要求2至4中任一项所述的触控面板，其特征在于，
还包括光敏层，所述光敏层布置在所述第二绝缘层与所述透明导电层之间，所述第二绝缘层和所述光敏层的截面形成为顶端大底端小的多个T型结构。
6.根据权利要求1至5中任一项所述的触控面板，其特征在于，
还包括第三绝缘层，所述第三绝缘层构成与所述衬底基板相反的一侧的顶面。
7.根据权利要求1至6中任一项所述的触控面板，其特征在于，
所述第一电极为感应电极，所述第二电极为驱动电极。
8.一种触控面板的制造方法，其特征在于，包括：
准备衬底基板；
在所述衬底基板上形成导电的桥接线阵列；
形成绝缘的高度差结构，所述高度差结构布置在所述衬底基板上并且覆盖所述桥接线阵列，所述高度差结构形成有窗口阵列，所述窗口阵列露出各桥接线的两个端部；
形成透明导电层，所述透明导电层覆盖整个所述衬底基板，所述透明导电层落入所述窗口阵列的部分形成为第二电极子件阵列，其余部分被所述高度差结构分割成为第一电极和位于第一电极和第二电极子件阵列之间的填充块，所述第一电极、所述第二电极子件和所述填充块中的相邻两者之间相对于所述衬底基板的高度不同从而在高度方向上彼此错开，使得所述第一电极、所述第二电极子件和所述填充块中的相邻两者之间彼此绝缘，
其中，各所述桥接线露出的两个端部的连线方向与所述每一电极的延伸方向垂直；各所述第二电极子件与相应的桥接线的端部搭接，使得所述桥接线将所述第二电极子件阵列串接成多列第二电极，各所述第二电极的延伸方向与所述第一电极的延伸方向垂直。
9.根据权利要求8所述的制造方法，其特征在于，
形成所述高度差结构的步骤包括：
首先形成第一绝缘层，采用刻蚀工艺在第一绝缘层中形成窗口阵列；
然后在所述第一绝缘层上方形成第二绝缘层，采用刻蚀工艺对所述第二绝缘层进行刻蚀，使得所述第二绝缘层落入所述第一绝缘层的范围内，所述第二绝缘层的面积小于所述第一绝缘层的面积，从而露出部分第一绝缘层，
其中，所述第一绝缘层和所述第二绝缘层均由无机绝缘材质形成。
10.根据权利要求9所述的制造方法，其特征在于，
在对所述第二绝缘层进行刻蚀的步骤中，在所述第二绝缘层中形成多个槽隙，所述透明导电层落入所述槽隙的部分形成为与所述第一电极相邻的填充块。
11.根据权利要求9或10所述的制造方法，其特征在于，
对所述第二绝缘层进行刻蚀的步骤包括：
在所述第二绝缘层上涂覆光敏层；
对所述光敏层进行曝光，显影，形成光敏层不保留区域和光敏层保留区域；
采用干刻法刻蚀掉所述第二绝缘层位于光敏层不保留区域的部分，露出所述第一绝缘层，所述第二绝缘层和所述光敏层的截面形成为顶端大底端小的多个T型结构。
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