CN103676488B - 掩模交接机构及具有该掩模交接机构的掩模台 - Google Patents

Abstract

一种具有所述掩模交接机构的掩模台，包括：承版台；第一转接板和第二转接板；第一电机和第二电机，第一电机和第二电机用于为所述掩模台提供扫描向运动驱动力、微动方向驱动力，以及通过第一电机和第二电机的差动提供Rz微动方向的驱动力；第一光栅尺和第二光栅尺；第一方向测量镜和第二方向测量镜；以及掩模交接机构，所述掩模交接机构固定设置在所述底座上，并位于所述掩模台扫描运动方向上的一掩模交接位处。本发明所述掩模台通过固定设置所述掩模交接机构于所述掩模交接位处，所述掩模交接机构并具有Rz和Z向运动功能，降低所述掩模台的Rz行程需求。同时，所述掩模台具有第一电机、第二电机，以及第一光栅尺、第二光栅尺，降低所述掩模台的设计难度。

Description

掩模交接机构及具有该掩模交接机构的掩模台

技术领域

本发明涉及半导体设备技术领域，尤其涉及一种掩模交接机构及具有该掩模交接机构的掩模台。

背景技术

在现有技术中，光刻装置主要用于集成电路IC、平板显示领域，或者其它微型器件的制造。通过光刻装置，具有不同掩模图案的多层掩模在精确对准下依次成像在涂覆有光刻胶的晶片上，例如半导体晶片或LCD面板。光刻装置大体上分为两类，一类是步进光刻装置，掩模图案一次曝光成像在晶片的一个曝光区域，随后晶片相对于掩模移动，将下一个曝光区域移动到掩模图案和投影物镜下方，再一次将掩模图案曝光在晶片的另一曝光区域，重复这一过程直到晶片上所有曝光区域都拥有掩模图案的像。另一类是步进扫描光刻装置，在上述过程中，掩模图案不是一次曝光成像，而是通过投影光场的扫描移动成像。在掩模图案成像过程中，掩模版与晶片同时相对于投影系统和投影光束移动。在上述的光刻设备中，需具有相应的装置作为掩模版和晶片的载体，装载有掩模版、晶片的载体产生精确的相互运动来满足光刻需要。上述掩模版的载体被称之为承版台，晶片的载体被称之为承片台。

在扫描光刻装置中，掩模台一般由微动台和粗动台构成。所述微动台完成掩模版的精密微调。所述粗动台完成掩模版的大行程扫描曝光运动。所述掩模版的交接是扫描光刻机中最为关键的一个动作流程，而且所述掩模台的运动工况直接受所述掩模版的交接流程所限制。

在传统的扫描光刻装置中，掩模传输系统将所述掩模版送至交接位后，由于所述掩模传输系统的运动误差和所述掩模版的制版精度的存在，会导致所述掩模版存在一个Rz的上版误差。为满足掩模对准的捕捉视场大小需求，上版Rz误差需要进行补偿。一般是通过所述光刻装置中的预对准系统对上版误差测量后将其反馈给所述掩模台或者所述掩模传输系统，再由所述掩模台或者所述掩模传输系统进行补偿。

但是，在大掩模版扫描光刻装置中，比如应用于平板显示领域的拼接镜头光刻装置中，G4.5代到G6一般采用520×610mm²和520×800mm²，而G6以上则采用850*1200mm和850*1400mm，甚至更大。由于掩模版尺寸增大，使得其和利用6英寸掩模版的IC领域光刻装置相比，其掩模版的上版Rz误差大大增大。而且由于所述大掩模版的制造成本极为昂贵，为降低大掩模版损坏的风险，所述大掩模版的掩模传输系统通常不设置Rz旋转机构。当所述大掩模版的掩模传输系统将所述大掩模版传输至掩模交接位后，掩模预对准机构将Rz上版误差反馈给掩模台，由掩模台对上版的Rz误差进行补偿。这直接导致掩模台Rz行程需求增大，掩模台的设计难度增加。

故针对现有技术存在的问题，本案设计人凭借从事此行业多年的经验，积极研究改良，于是有了发明一种掩模交接机构及其具有该掩模交接机构的掩模台。

发明内容

本发明是针对现有技术中，传统掩模台Rz行程需求增大，掩模台的设计难度增加等缺陷提供一种掩模交接机构。

本发明的又一目的是针对现有技术中，传统掩模台Rz行程需求增大，掩模台的设计难度增加等缺陷提供一种具有掩模交接机构的掩模台。

本发明的第三目的是针对现有技术中，传统掩模台Rz行程需求增大，掩模台的设计难度增加等缺陷提供一种具有所述掩模台的光刻机。

为了解决上述问题，本发明提供一种掩模交接机构，所述掩模交接机构包括：交接手，其顶部支撑并吸附掩模版；垂直运动机构，所述垂直运动机构固定连接所述交接手的底部，并驱动所述交接手的沿垂向运动；以及旋转机构，所述旋转机构设置于所述垂直运动机构的底部，并驱动所述垂直运动机构和交接手沿Rz向旋转运动。

可选的，所述垂直运动机构进一步包括：导轨连接板，其上表面与所述交接手固定连接；音圈电机，所述音圈电机的定子设置于旋转机构上，所述音圈电机的动子与所述导轨连接板下表面固定连接，并驱动所述导轨连接板沿垂向运动；导轨，所述导轨沿垂向设置于旋转机构上并设有滑块，所述滑块与所述导轨连接板固定连接，为所述垂直运动机构提供垂直运动导向。

可选的，所述导轨连接板与所述旋转机构之间还设有一复位装置，用于在所述掩模版完成交接后所述交接手复位于零位。

可选的，所述旋转机构进一步包括：旋转底板，设置于一基座上，所述旋转底板上分别固定连接所述音圈电机的定子和导轨，并使得所述垂直运动机构具有Rz向旋转功能；编码尺，所述编码尺的读头固定设置在所述基座上，所述编码尺的尺带对应设置于所述旋转底板上，为所述旋转机构提供位置测量；垂向气动轴承，所述垂向气动轴承固定设置在所述旋转底板下，并为所述旋转底板提供垂向支撑功能；环形导轨，所述环形导轨设置在所述旋转底板与所述基座之间；环形气浮轴承，所述环形气浮轴承设置在所述环形导轨与所述旋转底板之间，并为所述旋转底板提供Rz向导向功能；以及直线电机，所述直线电机的定子与所述基座固定连接，所述直线电机的动子与所述旋转底板固定连接，并为所述旋转机构提供Rz向驱动力。

为实现本发明之又一目的，本发明提供一种具有所述掩模交接机构的掩模台，所述掩模台沿Y向作扫描运动、沿X向作微动运动，所述掩模台包括：承版台，所述承版台用于承载所述掩模版；第一转接板和第二转接板，所述第一转接板和所述第二转接板分别设置在所述承版台的两侧，并分别通过固定设置在所述第一转接板和所述第二转接板下的第一气动轴承和第二气动轴承活动设置在一底座上；第一电机和第二电机，所述第一电机和所述第二电机的定子固定设置在所述底座上，所述第一电机和第二电机的动子分别与所述第一转接板和第二转接板固定连接，为所述掩模台提供沿所述掩模台扫描运动方向和微动运动方向运动的驱动力；第一光栅尺和第二光栅尺，所述第一光栅尺和所述第二光栅尺的读头或尺带分别设置于所述第一转接板和第二转接板上，所述第一光栅尺和所述第二光栅尺的尺带或读头分别对应设置在所述底座上，为所述掩模台初始化和所述第一电机和第二电机的运动控制提供位置测量信号；以及掩模交接机构，所述掩模交接机构固定设置在位于所述掩模台扫描运动方向上的一掩模交接位处。

可选的，所述承版台上还固定设置有垂直于掩模台扫描运动方向和微动运动方向的测量镜，对应所述测量镜还设置有激光干涉仪测量系统，为所述掩模台的运动控制提供位置测量信号。

可选的，所述第一电机和所述第二电机中至少一个是粗微动一体式电机。

可选的，所述第一电机和所述第二电机均采用粗微动一体式电机，其分别包括：线圈座，固定设置于第一转接板或第二转接板上，所述线圈座上设有粗动线圈和微动线圈；磁铁座，所述磁铁座上间隔设置有分别对应粗动线圈和微动线圈的粗动磁铁和微动磁铁；具有不同极性的所述粗动磁铁之间形成磁场，当所述粗动线圈通入电流后，所述第一电机或第二电机沿扫描运动方向输出驱动力；具有不同极性的所述微动磁铁之间形成磁场，当所述微动线圈通入电流后，所述第一电机或第二电机沿微动运动方向输出驱动力。

可选的，所述第一光栅尺和所述第二光栅尺分别包括：粗动光栅尺，所述粗动光栅尺的读头和尺带分别沿扫描运动方向对应设置，对掩模台在扫描运动方向上的运动进行位置测量；微动光栅尺，所述微动光栅尺的读头和尺带分别沿微动运动方向对应设置，对掩模台在微动运动方向上的运动进行位置测量。

为实现本发明之第三目的，本发明提供一种具有所述掩模台的光刻机，所述光刻机包括：照明系统，所述照明系统用于为所述光刻机的曝光装置提供曝光光源；掩模台，所述掩模台用于支撑和定位所述掩模版；投影物镜，所述投影物镜由多组镜头拼装而成，组成大视场曝光装置，并通过各镜头的交叉布局，将单镜头的小视场构成大的曝光视场，将所述掩模版上的图案曝光在所述待图案化基底上；工件台，所述工件台用于承载所述待图案化基底，并提供定位和支撑功能；激光干涉仪，所述激光干涉仪用于为所述掩模台和所述工件台的精密运动提供位置信号；掩模预对准机构，所述掩模预对准机构用于测量所述掩模版的上版误差，并提供所述上版误差信号以进行上版误差补偿；以及掩模传输系统，所述掩模传输系统具有X向运动功能，并为所述掩模版提供传输功能。

综上所述，本发明所述掩模台通过固定设置所述掩模交接机构于所述掩模台扫描运动方向上的一掩模交接位处，所述掩模交接机构并具有Rz和Z向运动功能，当所述掩模版被传送至所述掩模交接位后，便通过所述掩模交接机构补偿所述掩模版上版误差，降低所述掩模台的Rz行程需求。同时，所述掩模台具有第一电机、第二电机，以及第一光栅尺、第二光栅尺，降低了所述掩模台的设计难度。

附图说明

图1所示为本发明掩模台的主视结构示意图；

图2所示为本发明掩模台的俯视结构示意图；

图3所示为本发明所述掩模交接机构的结构示意图；

图4所示为本发明掩模台的工作流程示意图；

图5所示为本发明掩模交接机构的具体结构示意图；

图6所示为所述第一电机的动定子分离结构示意图；

图7所述为所述第一电机的主视结构示意图；

图8所示为所述第一光栅尺的结构示意图；

图9所示为具有本发明所述掩模台的光刻机结构示意图；

图10所示为具有本发明所述掩模台的光刻机俯视结构示意图。

具体实施方式

为详细说明本发明创造的技术内容、构造特征、所达成目的及功效，下面将结合实施例并配合附图予以详细说明。

请参阅图1、图2，图1所示为本发明掩模台的主视结构示意图。图2所示为本发明掩模台的俯视结构示意图。所述掩模台1包括承版台10，所述承版台10用于承载所述掩模版11；第一转接板12a和第二转接板12b，所述第一转接板12a和所述第二转接板12b分别设置在所述承版台10的两侧并与所述承版台10相邻布置，所述第一转接板12a和第二转接板12b通过分别固定设置在所述第一转接板12a和所述第二转接板12b下的第一气动轴承13a和第二气动轴承13b活动设置在所述底座14上；第一电机15a和第二电机15b，所述第一电机15a和所述第二电机15b的定子固定设置在所述底座14上，所述第一电机15a和第二电机15b的动子与所述承版台10固定连接，所述第一电机15a和所述第二电机15b用于为所述掩模台1提供扫描向运动驱动力、微动方向驱动力，以及通过所述第一电机15a和所述第二电机15b的差动提供微动方向的驱动力；第一光栅尺16a和第二光栅尺16b，所述第一光栅尺16a和所述第二光栅尺16b的读头或尺带固定设置在所述第一转接板12a和所述第二转接板12b上；所述第一光栅尺16a和所述第二光栅尺16b的尺带或读头分别对应设置在所述底座14上，所述第一光栅尺16a和第二光栅尺16b用于为所述掩模台1初始化和所述第一电机15a和第二电机15b的控制提供位置测量信号；以及掩模交接机构17，所述掩模交接机构17固定设置在所述底座14上，并位于所述掩模台1扫描运动方向上的一掩模交接位170处。

在本实施例中，第一光栅尺16a和第二光栅尺16b是将尺带(如标尺光栅)安装在底座14上，将包含有指示光栅的读头安装在承版台10上。但是，在实际使用中并不局限于这种安装方式，例如可以选择将读头安装在底座14上，并将尺带安装在承版台10上，也可以根据运动行程与承版台10的尺寸关系选择间隔设置多个读头。

显然地，在本发明中，所述第一光栅尺16a和第二光栅尺16b用于为所述掩模台1初始化和所述第一电机15a和所述第二电机15b的控制提供位置测量信号。若所述第一光栅尺16a和所述第二光栅尺16b的测量精度不能满足所述掩模台1的使用需求时，本发明所述掩模台1可进一步包括固定设置在所述承版台10上并分别垂直于所述掩模台1扫描运动方向和微动运动方向的测量镜18a、18b，对应所述测量镜18a、18b还设置有用于为所述掩模台1的运动控制提供位置测量信号的激光干涉仪测量系统19。所述激光干涉仪测量系统19用于为所述掩模台1和所述待图案化基底之承载体(未图示)的精密运动控制提供位置信号。即，所述掩模台1通过所述第一光栅尺16a和所述第二光栅尺16b完成初始化后，便切换所述第一光栅尺16a和所述第二光栅尺16b至激光干涉仪测量系统19，以完成所述掩模台1的位置测量。

请参阅图3，并结合参阅图2，图3所示为本发明所述掩模交接机构的结构示意图。所述掩模交接机构17包括交接手171，所述交接手171顶部支撑并吸附所述掩模版11；垂直运动机构172，所述垂直运动机构172固定连接所述交接手171的底部，并驱动所述交接手171的沿垂向运动；以及旋转机构173，所述旋转机构173设置于所述垂直运动机构172的底部，并驱动所述垂直运动机构172和所述交接手171沿Rz向旋转运动。

在本发明中，具体地，所述交接手171间隔设置在所述垂直运动机构172上，并用于为所述掩模版11的吸附提供真空和支撑功能；所述垂直运动机构172用于实现所述交接手171的垂向运动功能，并为所述掩模版11的吸附提供真空管路(未图示)。

请继续参阅图1，并结合参阅图3、图4，详述本发明所述掩模交接机构17的工作原理。

图4所示为本发明掩模台的工作流程示意图。在本发明中，所述掩模版11通过真空吸附的方式承载在所述承版台10上。所述承版台10并通过分别固定设置在所述第一转接板12a和所述第二转接板12b下的第一气动轴承13a和第二气动轴承13b在所述底座14上滑动。所述承版台10上还固定设置有垂直于掩模台1扫描运动方向和微动运动方向的测量镜18a、18b，对应所述测量镜18a、18b还设置有激光干涉仪测量系统19，用于为所述掩模台1的运动控制提供位置测量信号。

本发明所述掩模台1的掩模交接机构17的运动过程包括以下步骤：

执行步骤S1：所述掩模台1吸附所述掩模版11运动至所述掩模台1扫描运动方向上的掩模交接位170处；

执行步骤S2：所述掩模交接机构17从所述零位h₀运动至所述接版位h₁，并开启真空以吸附所述掩模版11；

执行步骤S3：测量所述掩模版11的上版Rz误差，并通过所述旋转机构173进行上版误差补偿，随后所述掩模交接机构17从接版位h₁运动至交版位h₂，关闭真空，同时所述承版台10开启真空以吸附所述掩模版11；

执行步骤S4：所述掩模交接机构17从交版位h₂运动至零位h₀；

执行步骤S5：所述掩模台1运动至零位h₀；

执行步骤S6：所述掩模台1等待掩模版11的交接信号，并进行后续动作。

请参阅图5，并结合参阅图3，图5所示为本发明掩模交接机构的具体结构示意图。作为具体实施方式，本发明所述掩模交接机构17的垂直运动机构172进一步包括导轨连接板1721，其上表面与所述交接手171固定连接；音圈电机1722，所述音圈电机1722的定子设置于旋转机构173上，所述音圈电机1722的动子与所述导轨连接板1721下表面固定连接，并驱动所述导轨连接板1721沿垂向运动；导轨1723，所述导轨1723沿垂向设置于旋转机构173上并设有滑块1724，所述滑块1724与所述导轨连接板1721固定连接，为所述垂直运动机构172提供垂直运动导向。

进一步地，所述导轨连接板1721与所述旋转机构173之间还设有一复位装置1725，用于在所述掩模版11完成交接后所述交接手171复位于零位h₀。请继续参阅图3、图5，并结合参阅图2，本发明所述掩模交接机构17的旋转机构173进一步包括旋转底板1731，所述旋转底板1731设置于一基座1732上，所述旋转底板1731上分别固定连接所述音圈电机1722的定子和导轨1723，并使得所述垂直运动机构172具有Rz向旋转功能；编码尺1733，所述编码尺1733的读头固定设置在所述基座1732上，所述编码尺1733的尺带对应设置于所述旋转底板1731上，为所述旋转机构173提供位置测量；垂向气动轴承1734，所述垂向气动轴承1734固定设置在所述旋转底板1731下，并为所述旋转底板1731提供垂向支撑功能；环形导轨1735，所述环形导轨1735设置在所述旋转底板1731与所述基座1732之间；环形气浮轴承1736，所述环形气浮轴承1736设置在所述环形导轨1735与所述旋转底板1731之间，并为所述旋转底板1731提供Rz向导向功能；以及直线电机1737，所述直线电机1737的定子与所述基座1732固定连接，所述直线电机1737的动子与所述旋转底板1731固定连接，并为所述旋转机构173提供Rz向驱动力。

请继续参阅图1，并结合参阅图6、图7，在本实施例中，所述第一电机15a和所述第二电机15b具有相同的结构设计，所述第一电机15a和所述第二电机15b均为粗微动一体式电机。在本实施例中，以所述第一电机15a为例进行阐述，所述第二电机15b具有相同的结构，在此不予赘述。图6所示为所述第一电机的动定子分离结构示意图。图7所述为所述第一电机的主视结构示意图。所述第一电机15a包括线圈座151，所述线圈座151用于固定间隔设置的所述粗动线圈152和所述微动线圈153；磁铁座154，所述磁铁座154上间隔设置有分别对应粗动线圈152和微动线圈153的粗动磁铁155和微动磁铁156。具有不同极性的所述粗动磁铁155之间形成磁场。当所述粗动线圈152通入电流后，所述第一电机15a或第二电机15b沿扫描运动方向输出驱动力。同样地，具有不同极性的所述微动磁铁156之间形成磁场。当所述微动线圈153通入电流后，所述第一电机15a或第二电机15b沿微动运动方向输出驱动力。在本实施例中，所述粗动磁铁155和所述微动磁铁156的磁极排布仅为列举，不应视为对本技术方案的限制。

显然地，在本发明中，所述第一电机15a和所述第二电机15b可以采用直线电机和可为所述掩模台1同时提供扫描运动方向粗动、微动运动方向微动，以及Rz向微动驱动力的电机。

请参阅图8，并结合参阅图2，在本实施例中，所述第一光栅尺16a和所述第二光栅尺16b具有相同的结构设计。在本实施例中，以所述第一光栅尺16a为例进行阐述，所述第二光栅尺16b具有相同的结构，在此不予赘述。图8所示为所述第一光栅尺的结构示意图。所述第一光栅尺16a和所述第二光栅尺16b分别包括粗动光栅尺，所述粗动光栅尺的尺带160和读头161分别沿扫描运动方向对应设置，对掩模台1在扫描运动方向上的运动进行位置测量；微动光栅尺，所述微动光栅尺的读头162和尺带163分别沿微动运动方向对应设置，对掩模台在微动运动方向上的运动进行位置测量。所述微动光栅尺通过干涉扫描或者成像扫描可完成所述掩模台1在微动运动方向的位置测量。所述粗动光栅尺通过干涉扫描或者成像扫描可完成所述掩模台1在粗动运动方向的位置测量。所述第一光栅尺16a用于为所述掩模台的初始化和所述第一电机15a提供控制信号。

在本实施例中，第一光栅尺16a和第二光栅尺16b采用扫描式光栅仅为举例清楚说明本发明的技术方案，不应视为对本技术方案的限制。实际使用中，本领域技术人员也可以选择如透射相位式光栅或者其他类型的光栅尺进行位移测量。

请参阅图9、图10，并结合参阅图1、图2、图3、图4，图9所示为具有本发明所述掩模台的光刻机结构示意图。图10所示为具有本发明所述掩模台的光刻机俯视结构示意图。所述光刻机2包括照明系统21，所述照明系统21用于为所述光刻机2的曝光装置提供曝光光源；掩模台1，所述掩模台1用于支撑和定位所述掩模版11；投影物镜22，所述投影物镜22由多组镜头拼装而成，组成大视场曝光装置，并通过各镜头的交叉布局，将单镜头的小视场构成大的曝光视场，将所述掩模版11上的图案曝光在所述待图案化基底上；工件台23，所述工件台23用于承载所述待图案化基底，并提供定位和支撑功能；激光干涉仪24，所述激光干涉仪24用于为所述掩模台1和所述工件台23的精密运动提供位置信号；掩模预对准机构25，所述掩模预对准机构25用于测量所述掩模版11的上版误差，并提供所述上版误差信号以进行上版误差补偿；掩模传输系统26，所述掩模传输系统26具有X向运动功能，并为所述掩模版11提供传输功能。

综上所述，本发明所述掩模台通过固定设置所述掩模交接机构于所述掩模台扫描运动方向上的一掩模交接位处，所述掩模交接机构并具有Rz和Z向运动功能，当所述掩模版被传送至所述掩模交接位后，便通过所述掩模交接机构补偿所述掩模版上版误差，降低所述掩模台的Rz行程需求。同时，所述掩模台具有第一电机、第二电机，以及第一光栅尺、第二光栅尺，降低了所述掩模台的设计难度。

本领域技术人员均应了解，在不脱离本发明的精神或范围的情况下，可以对本发明进行各种修改和变型。因而，如果任何修改或变型落入所附权利要求书及等同物的保护范围内时，认为本发明涵盖这些修改和变型。

Claims (9)

1.一种掩模交接机构，其特征在于，所述掩模交接机构包括：

交接手，其顶部支撑并吸附掩模版；

垂直运动机构，所述垂直运动机构固定连接所述交接手的底部，并驱动所述交接手的沿垂向运动；以及，

旋转机构，所述旋转机构设置于所述垂直运动机构的底部，并驱动所述垂直运动机构和交接手沿Rz向旋转运动；

所述垂直运动机构进一步包括：

导轨连接板，其上表面与所述交接手固定连接；

音圈电机，所述音圈电机的定子设置于旋转机构上，所述音圈电机的动子与所述导轨连接板下表面固定连接，并驱动所述导轨连接板沿垂向运动；

导轨，所述导轨沿垂向设置于旋转机构上并设有滑块，所述滑块与所述导轨连接板固定连接，为所述垂直运动机构提供垂直运动导向。

2.如权利要求1所述的掩模交接机构，其特征在于，所述导轨连接板与所述旋转机构之间还设有一复位装置，用于在所述掩模版完成交接后所述交接手复位于零位。

3.如权利要求1或2所述的掩模交接机构，其特征在于，所述旋转机构进一步包括：

旋转底板，设置于一基座上，所述旋转底板上分别固定连接所述音圈电机的定子和导轨，并使得所述垂直运动机构具有Rz向旋转功能；

编码尺，所述编码尺的读头固定设置在所述基座上，所述编码尺的尺带对应设置于所述旋转底板上，为所述旋转机构提供位置测量；

垂向气动轴承，所述垂向气动轴承固定设置在所述旋转底板下，并为所述旋转底板提供垂向支撑功能；

环形导轨，所述环形导轨设置在所述旋转底板与所述基座之间；

环形气浮轴承，所述环形气浮轴承设置在所述环形导轨与所述旋转底板之间，并为所述旋转底板提供Rz向导向功能；以及，

直线电机，所述直线电机的定子与所述基座固定连接，所述直线电机的动子与所述旋转底板固定连接，并为所述旋转机构提供Rz向驱动力。

4.一种具有如权利要求1～3中任一权利要求所述掩模交接机构的掩模台，所述掩模台沿Y向作扫描运动、沿X向作微动运动，其特征在于，所述掩模台包括：

承版台，所述承版台用于承载所述掩模版；

第一转接板和第二转接板，所述第一转接板和所述第二转接板分别设置在所述承版台的两侧，并分别通过固定设置在所述第一转接板和所述第二转接板下的第一气动轴承和第二气动轴承活动设置在一底座上；

第一电机和第二电机，所述第一电机和所述第二电机的定子固定设置在所述底座上，所述第一电机和第二电机的动子分别与所述第一转接板和第二转接板固定连接，为所述掩模台提供沿所述掩模台扫描运动方向和微动运动方向运动的驱动力；

第一光栅尺和第二光栅尺，所述第一光栅尺和所述第二光栅尺的读头或尺带分别设置于所述第一转接板和第二转接板上，所述第一光栅尺和所述第二光栅尺的尺带或读头分别对应设置在所述底座上，为所述掩模台初始化和所述第一电机和第二电机的运动控制提供位置测量信号；以及，

掩模交接机构，所述掩模交接机构固定设置在位于所述掩模台扫描运动方向上的一掩模交接位处。

5.如权利要求4所述的掩模台，其特征在于，所述承版台上还固定设置有垂直于掩模台扫描运动方向和微动运动方向的测量镜，对应所述测量镜还设置有激光干涉仪测量系统，为所述掩模台的运动控制提供位置测量信号。

6.如权利要求4～5中任一权利要求所述的掩模台，其特征在于，所述第一电机和所述第二电机中至少一个是粗微动一体式电机。

7.如权利要求6所述的掩模台，其特征在于，所述第一电机和所述第二电机均采用粗微动一体式电机，其分别包括：

线圈座，固定设置于第一转接板或第二转接板上，所述线圈座上设有粗动线圈和微动线圈；

磁铁座，所述磁铁座上间隔设置有分别对应粗动线圈和微动线圈的粗动磁铁和微动磁铁；

具有不同极性的所述粗动磁铁之间形成磁场，当所述粗动线圈通入电流后，所述第一电机或第二电机沿扫描运动方向输出驱动力；具有不同极性的所述微动磁铁之间形成磁场，当所述微动线圈通入电流后，所述第一电机或第二电机沿微动运动方向输出驱动力。

8.如权利要求4～5中任一权利要求所述的掩模台，其特征在于，所述第一光栅尺和所述第二光栅尺分别包括：

粗动光栅尺，所述粗动光栅尺的读头和尺带分别沿扫描运动方向对应设置，对掩模台在扫描运动方向上的运动进行位置测量；

微动光栅尺，所述微动光栅尺的读头和尺带分别沿微动运动方向对应设置，对掩模台在微动运动方向上的运动进行位置测量。

9.一种具有如权利要求4～8中任一权利要求所述掩模台的光刻机，其特征在于，所述光刻机包括：

照明系统，所述照明系统用于为所述光刻机的曝光装置提供曝光光源；

掩模台，所述掩模台用于支撑和定位所述掩模版；

投影物镜，所述投影物镜由多组镜头拼装而成，组成大视场曝光装置，并通过各镜头的交叉布局，将单镜头的小视场构成大的曝光视场，将所述掩模版上的图案曝光在待图案化基底上；

工件台，所述工件台用于承载所述待图案化基底，并提供定位和支撑功能；

激光干涉仪，所述激光干涉仪用于为所述掩模台和所述工件台的精密运动提供位置信号；

掩模预对准机构，所述掩模预对准机构用于测量所述掩模版的上版误差，并提供所述上版误差信号以进行上版误差补偿；以及，

掩模传输系统，所述掩模传输系统具有X向运动功能，并为所述掩模版提供传输功能。