CN103611488A - 螺旋板波纹规整填料 - Google Patents

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周灵丹
季锦林
汤立新
杨宇
许宁
蒋丽芬
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Nanjing College of Chemical Technology
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Abstract

本发明涉及一种用金属材料制成的螺旋板波纹规整填料,属于炼油、石化、化工、轻工以及环保工业的气液、液液传质分离设计技术领域。本发明主要的技术特点就是把波纹填料的波纹形状由V型改至U型,并把波纹片卷制成螺旋形规整填料,使气液两相流体的流动通道平行且相互独立,液体在整个填料层界面上流动分布均匀,达到了改善塔内整体液体的分布情况,促进液膜表面进一步的更新,在不增加填料比表面积的情况下增加有效的传质面积,从而提高填料的综合性能。

Description

螺旋板波纹规整填料
技术领域:
本发明涉及一种用金属材料制成的螺旋板波纹规整填料,属于炼油、石化、化工、轻工以及环保工业的气液、液液传质分离设计技术领域。
背景技术:
波纹规整填料是由许多带孔的波纹片定向排列而成,当用于气液传质操作时,液相在波纹填料表面形成的液膜与传统规整填料或湿壁塔的塔壁表面降膜流动所形成的液膜有很大区别:后者只有一个气液接触面,液膜的另一面为液固接触面,可称之为单面传质液膜,与固体填料表面接触的液体其流动一般为层流流动,而层流内层的存在会影响液膜的流动状态;而孔网降膜流动时网孔处的液膜,两面均为气液接触面,可称为双面传质液膜,其可以有效增加填料表面润湿率,加剧气液界面湍动程度,提高传质效果。同时波纹填料特有的Z字型流体通道,使气液两相流动规则化,提高通量。但波纹填料由于波峰存在,液体在重力的作用下易形成偏流。在迎液面上,液体倾向流向波峰;在背液面上,液体倾向流向波谷,不利于传质。而气相在流体通道结构单元内呈不对称流动,在通道交叉点处易引起气流的摩擦碰撞,致使气相的动能损耗,压降增大,操作费用提高。此时基于使气液两相流体的流动通道平行且相互独立,液体在整个填料层界面上流动分布均匀的要求,开发出了相应的新型高效填料(螺旋网圆柱体规整填料[1]和筛孔网板波纹填料片及规整填料[2]等)。
发明内容:
本发明就是通过设计一定结构的波纹填料,来改善塔内整体液体的分布情况,促进液膜表面进一步的更新,在不增加填料比表面积的情况下增加有效的传质面积,从而提高填料的综合性能。
本发明主要的技术特点就是把波纹填料的波纹形状由V型改至U型,并把波纹片卷制成螺旋形规整填料,从而实现①改变气液流向,由逆流为错流;②适当的层间距可使液体在填料空隙间形成液膜;③螺旋的通道增大了填料层的持液量,延长了气液二相接触的时间;④由U型波纹片形成的螺旋通道互相平行,气体在其内部沿着流线型的曲面运行,不存在交叉点,降低了压降;⑤在重力场中,液体沿螺旋通道下降时,会形成一定的离心力,加剧液体的湍动,消除液滴聚并成团的可能,液膜表面更新好;同时液体在穿过填料的孔流动时,被分割成小液滴,减小液滴直径,增加传质面积,强化传质,达到液体整体均匀分布。
附图说明:
图1本发明一种螺旋板波纹规整填料的结构示意图。
图2为图1的俯视图。
图3本发明螺旋板波纹规整填料的局部立体图。
具体实施方式:
本发明的工作过程是,液相自上从液体分布器喷洒沿波纹填料滑落,并迅速拉网成膜,气相从塔底向上流动与液体逆流接触进行传质,由于液体在重力场中的沉降演变到漩涡流场中的惯性流动、从强化膜式传质到喷雾传质,有效的强化了气液传质过程,大大提高了传质效率;并且螺旋板波纹规整填料的操作弹性较普通波纹板大,操作范围较宽。

Claims (4)

1.螺旋板波纹规整填料,其特征在于:该规整填料由多层板波纹填料卷制而成,所述基本单元由平面板波纹填料压制成立体的波纹状结构,在两相邻的螺旋网之间,均距布设多条弹簧支撑圈。
2.根据权利要求1所述的螺旋板波纹规整填料,其特征在于:所述螺旋板波纹规整填料的纵截面为U字型,顶角取值110°~160°。
3.根据权利要求1所述的螺旋板波纹规整填料,其特征在于:弹簧支撑圈的弹簧直径为5~100mm,弹簧所用弹性丝的直径为0.5~5mm,相邻两弹簧支撑圈之间的间距为10~100mm。
4.根据权利要求1所述的螺旋板波纹规整填料,其特征在于:所述螺旋板波纹规整填料的孔形状为正方形,椭圆形或圆形,孔面积为18mm2~12800mm2,板波纹的厚度为0.2~2mm。
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Date Code Title Description
PB01 Publication
PB01 Publication
C10 Entry into substantive examination
SE01 Entry into force of request for substantive examination
C02 Deemed withdrawal of patent application after publication (patent law 2001)
WD01 Invention patent application deemed withdrawn after publication

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