CN103560071A - 一种双阀激光溅射反应源 - Google Patents
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Abstract
一种双阀激光溅射反应源,该装置结构由溅射激光,脉冲阀a,脉冲阀b,样品靶,反应通道以及喷嘴组成。该发明具有很强的通用性,不仅可以产生难熔的金属团簇,而且可以产生半导体甚至绝缘体的团簇。系统结构简单,便于维护和操作。
Description
技术领域
本发明属于质谱分析领域,具体涉及一种双阀激光溅射反应源。
背景技术
激光直接气化团簇源的原理是采用脉冲激光气化位于高真空(<10-8Torr)腔体中的固体样品,所产生的等离子体在没有缓冲气体存在的情况下直接向真空膨胀,形成团簇。该方法简单,但所形成的团簇尺寸范围有限,起初主要用来产生熔点较高材料的团簇如碳团簇等。后来,Smalley等人首创的激光溅射超声分子束载带的团簇源,可以产生很多种不同的团簇离子。聚焦激光束溅射固体样品表面,产生的等离子体迅速与脉冲阀产生的超声分子束碰撞冷却形成团簇。该方法能够产生丰富的金属团簇,但对所产生的金属团簇,它们是如何在团簇源里形成的?目前我们还是不得而知的。
发明内容
为了解决上述问题,本发明的目的在Smally的团簇源的基础之上,额外增加了一个脉冲阀,之前所产生的金属团簇与反应气体发生反应之后,形成了新的金属团簇,通过比较,本发明得到新的金属团簇反应产物。
本发明提供了一种双阀激光溅射反应源,该装置结构由溅射激光,脉冲阀a,脉冲阀b,样品靶,反应通道以及喷嘴组成;脉冲阀a位于装置的顶端,下端与反应通道相连,反应通道的下端与喷嘴相连,在反应通道的右侧是样品靶,左侧是脉冲阀b。
本发明提供的双阀激光溅射反应源,所述的溅射激光波长为532nm。
本发明提供的双阀激光溅射反应源,所述脉冲阀a和脉冲阀b组成双脉冲阀;所述脉冲阀a用来产生金属团簇;所述脉冲阀b喷出的反应气与脉冲阀a产生的金属团簇发生反应之后,得到新的金属团簇。
本发明的优点:对第一个脉冲阀形成的金属团簇,通过第二个脉冲阀喷出的反应气与之前的金属团簇发生反应之后,得到新的金属团簇,通过比较之后,可以区别溅射产物以及反应产物,从而可以理解金属团簇是如何在团簇源形成的。
附图说明
图1为一种双阀激光溅射反应源的结构示意图;其中1为溅射激光;2为脉冲阀a;3为脉冲阀b;4为样品靶;5为反应通道;6为喷嘴。
具体实施方式
下面的实施例将对本发明予以进一步的说明,但并不因此而限制本发明。
如图1所示,本发明提供了一种双阀激光溅射反应源,该装置结构由溅射激光,脉冲阀a,脉冲阀b,样品靶,反应通道以及喷嘴组成;脉冲阀a位于装置的顶端,下端与反应通道相连,反应通道的下端与喷嘴相连,在反应通道的右侧是样品靶,左侧是脉冲阀b。
与单脉冲阀激光溅射团簇源不同,双脉冲阀激光溅射源采用了两个脉冲阀和一个额外的反应孔道。这种设计主要用来研究生成团簇与小分子的反应、团簇反应物以及反应中间体等。主脉冲阀用来引入惰性气体载气,生成纯的团簇之后,在反应孔道部分,由次脉冲阀引入反应气体(CO,O2等),生成的团簇与反应气体碰撞相互作用,生成反应物以及反应中间体。两个脉冲阀的时序需要分别控制。因此,该发明可以实现金属团簇是如何在离子源里形成的。
Claims (5)
1.一种双阀激光溅射反应源,其特征在于:该装置结构由溅射激光,脉冲阀a,脉冲阀b,样品靶,反应通道以及喷嘴组成;
脉冲阀a位于装置的顶端,脉冲阀a的下端与反应通道相连,反应通道的下端与喷嘴相连,在反应通道的右侧是样品靶,左侧是脉冲阀b。
2.按照权利要求1所述双阀激光溅射反应源,其特征在于:所述的溅射激光波长为532nm。
3.按照权利要求1所述双阀激光溅射反应源,其特征在于:所述脉冲阀a和脉冲阀b组成双脉冲阀。
4.按照权利要求1所述双阀激光溅射反应源,其特征在于:所述的脉冲阀a用来产生金属团簇。
5.按照权利要求1所述双阀激光溅射反应源,其特征在于:脉冲阀b喷出的反应气与脉冲阀a产生的金属团簇发生反应之后,得到新的金属团簇。
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- 2013-10-09 CN CN201310468675.4A patent/CN103560071A/zh active Pending
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