CN103558714B - 一种光配向设备及其配向方法和显示装置生产系统 - Google Patents
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Abstract
本发明提供一种光配向设备及其配向方法和显示装置生产系统。该光配向设备包括光配向机构以及待取向基板配向区,光配向机构包括配向单元以及用于带动配向单元移动的步进单元,配向单元用于对待取向基板进行配向,配向单元包括多个间隔、均匀排列的光源,步进单元用于带动配向单元移动,配向单元的移动方向与光源的排列方向相同。该光配向设备通过设置步进单元,使得配向单元能随步进单元移动至光照强度的相对薄弱区,同时,配向单元能够在位置移动后仍然保持均匀的光照强度,从而使配向单元在整个配向过程中的光配向更加均匀,进而避免了待取向基板表面的取向膜因光配向均匀度不佳而导致的不良,从而进一步保证了采用该取向基板的显示面板的质量。
Description
技术领域
本发明涉及显示技术领域,具体地,涉及一种光配向设备及其配向方法和显示装置生产系统。
背景技术
液晶显示面板通常由上基板和下基板对合形成,液晶填充于上基板和下基板对合形成的空隙内。其中:上基板包括上玻璃基板、偏振板及三基色滤光片,用于实现图像的彩色化。下基板包括下玻璃基板、导电玻璃微板、半导体开关器件以及连接半导体开关器件的纵横线,用于对液晶分子的偏转进行控制。为保证液晶分子在初始状态的取向方向,在上基板和下基板相对的内侧通常还设置有取向膜。取向膜的表面经处理后呈各向异性,对液晶分子有一定的锚定作用,即使在没有电场控制的情况下,液晶分子也能在取向膜的作用下保持特定取向。
现有工艺中,取向膜的形成一般采用摩擦法,摩擦法具有工艺简单、成本低等优点。在摩擦取向过程中,通过摩擦布对取向膜表面进行摩擦处理,使其表面由各向同性转变为各向异性。在摩擦法工艺中,由于摩擦布的固有性质,常常容易出现取向膜的表面被划伤、静电伤害或残留灰尘颗粒等问题,直接影响取向膜的取向效果。另外,采用摩擦法形成取向膜还会导致取向膜表面出现较大预倾角,由此进一步导致具有水平电场的显示面板出现
对比度降低等问题。
随着科学技术的进步,目前还出现了采用光配向技术形成取向膜的方法。光配向技术是使用线性偏振紫外光对光敏取向膜材料进行光配向(即曝光)处理,使得取向膜材料表面发生光化学反应,从而使其表面转变为各向异性,实现对液晶分子的取向。光配向技术的优势在于,使用非物理接触的方式对取向膜进行取向处理,不会对取向膜表面造成划伤和静电伤害,也不会在取向膜表面残留灰尘颗粒。另外,采用光配向技术形成的取向膜表面的预倾角小,有利于提高显示面板的对比度,适用于生产高品质的液晶显示面板。
光配向技术的关键在于光照均匀度,光照均匀度对取向效果具有直接影响,均匀度不好会导致显示面板出现残像等显示不良。现有技术中的光配向设备通常都采用高压水银长灯管作为光源。高压水银长灯管设置在箱体内,由于高压水银长灯管的长度较长,每个箱体内通常只放置一个灯管,如图1所示,长灯管11的长度基本与箱体2的长度相等,所以长灯管11的长度方向通常沿箱体2的长度方向设置。由于长灯管11制造工艺的限制,长灯管11在有效发光区域内的光照均匀度很难控制,而且,灯管越长,其光照均匀度就越差,且光照均匀度的调整灵活性也差,这在大世代液晶显示面板的光配向技术应用上存在较大限制。同时,由于高压水银长灯管11采用石英材质,该材质的灯管易碎,且灯管长度越长,其制造成本越高,价格越昂贵,势必增加生产成本。另外,随着光敏取向膜材料的发展,低照度材料越来越成为开发趋势,其在形成取向膜时需要的曝光能量低,配向工艺所需时间短,产能大,在实际生产中具有优势,但是长灯管11一般光强较大,在需要的曝光能量低时,长灯管11常常无法应对。
发明内容
本发明针对现有技术中存在的上述技术问题,提供一种光配向设备及其配向方法和显示装置生产系统。该光配向设备,通过设置步进单元,使配向单元在整个配向过程中的光配向更加均匀,从而避免了待取向基板表面的取向膜因光配向均匀度不佳而导致的不良。
本发明提供一种光配向设备,包括光配向机构以及待取向基板配向区,所述光配向机构包括配向单元以及用于带动所述配向单元移动的步进单元,所述配向单元用于对所述待取向基板进行配向,所述配向单元包括多个间隔、均匀排列的光源,所述步进单元用于带动所述配向单元移动,所述配向单元的移动方向与所述光源的排列方向相同。
优选的,所述光源包括线光源,所述配向单元还包括箱体,所述箱体为长方体形,多个所述线光源均设置在所述箱体内且相互平行,所述线光源的长度方向与所述箱体的长度方向垂直,多个所述线光源沿所述箱体的长度方向依次等间距排列;所述步进单元包括第一轨道,所述箱体设置于所述第一轨道上,所述第一轨道的延伸方向与所述箱体的长度方向相同。
优选的,所述配向单元包括N个相同的所述箱体,N个所述箱体沿所述箱体的宽度方向依次平行排列;单个所述箱体内相邻的两个所述线光源之间的间距为L,相邻所述箱体在长度方向上依次错开L/N间距排列,所述步进单元单次带动所述配向单元沿所述第一轨道的步进距离为L/2N,其中,N≥2。
优选的,所述配向单元还包括偏振器,所述偏振器设置于所述箱体内、且位于所述线光源与所述待取向基板配向区之间,所述偏振器用于将所述线光源发出的光调节为线偏振光,所述线偏振光均匀叠加之后的光强范围为40-3000mJ。
优选的,所述配向单元还包括波长过滤器,所述波长过滤器设置于所述箱体内、且位于所述线光源与所述偏振器之间,透过所述波长过滤器的所述线光源的光线的波长范围为200-400nm。
优选的,所述配向单元还包括反光镜,所述反光镜设置于所述箱体内、且位于所述线光源远离所述波长过滤器的一侧,所述反光镜的形状为弧面形状,所述反光镜的内弧面与所述线光源相对。
优选的,所述线光源为紫外光水银灯管,所述水银灯管的长度小于等于所述箱体的宽度。
优选的,所述光配向设备还包括基板加载机构,所述基板加载机构包括基台以及用于带动所述基台移动的移动单元,所述基台与所述光配向机构相对应时,所述基台的台面为所述待取向基板配向区,所述基台的移动方向与所述配向单元的移动方向垂直。
优选的,所述箱体底部在长度方向上的两端分别设置有支撑架,所述支撑架设置于所述第一轨道上;所述移动单元包括第二轨道,所述第二轨道的延伸方向与所述第一轨道的延伸方向垂直,所述基台设置于所述第二轨道的上方、且低于所述箱体的底面,所述箱体的底面为透明的。
优选的,所述光配向设备还包括外壳,所述基台、所述箱体、所述第一轨道和所述第二轨道均设置于所述外壳内;所述外壳的与所述第二轨道相对的至少一个侧面上,在与所述基台的台面高度相当的位置开设有开口,所述开口的尺寸大于等于所述待取向基板在厚度方向上的尺寸。
优选的,所述步进单元还包括第一电机,所述第一电机用于驱动所述箱体沿所述第一轨道移动;和/或,所述移动单元还包括第二电机,所述第二电机用于驱动所述基台沿所述第二轨道移动。
本发明还提供一种显示装置生产系统,包括上述光配向设备。
本发明还提供一种采用上述光配向设备进行光配向的配向方法,包括:
步骤S1:使待取向基板以第一速度通过配向单元,所述配向单元对所述待取向基板进行一次光配向;
步骤S2:步进单元带动所述配向单元移动一个步进距离;
步骤S3:使所述待取向基板以所述第一速度再次通过所述配向单元,所述配向单元对所述待取向基板进行再次光配向;
或者,所述光配向方法还进一步包括:重复所述步骤S2和所述步骤S3至少一次。
优选的,所述第一速度与所述配向单元的光照强度成正比;所述步进距离为L/2N,其中,N为所述配向单元中箱体的数量,N≥2,L为同一所述箱体内相邻的两个光源之间的间距。
本发明的有益效果:本发明所提供的光配向设备,通过设置步进单元,使得配向单元能随步进单元移动至光照强度的相对薄弱区,从而使配向单元在整个配向过程中的光配向更加均匀,进而避免了待取向基板表面的取向膜因光配向均匀度不佳而导致的不良,从而进一步保证了采用该取向基板的显示面板的质量。
附图说明
图1为现有技术中长灯管在箱体内的结构示意图;
图2为本发明实施例1中光配向设备的结构示意图;
图3为图2中线光源的光照曲线图;
图4为本发明实施例1中配向单元的结构示意图;
图5为本发明实施例1中光配向设备的配向过程示意图;
图6为本发明实施例1中一次光配向的光照曲线图;
图7为本发明实施例1中配向单元移动一个步进距离的示意图;
图8为本发明实施例1中两次光配向的光照曲线图;
图9为本发明实施例2中四次光配向的光照曲线图。
其中的附图标记说明:
1.线光源;2.箱体;21.第一箱体;22.第二箱体;3.第一轨道;4.偏振器;5.波长过滤器;6.反光镜;7.基台;8.第二轨道;9.外壳;91.开口;10.支撑架;11.长灯管;01.第一光照曲线;02.第二光照曲线;03.第三光照曲线;04.第四光照曲线。
具体实施方式
为使本领域的技术人员更好地理解本发明的技术方案,下面结合附图和具体实施方式对本发明一种光配向设备及其配向方法和显示装置生产系统作进一步详细描述。
实施例1:
本实施例提供一种光配向设备,包括光配向机构以及待取向基板配向区,光配向机构包括配向单元以及用于带动配向单元移动的步进单元,配向单元用于对待取向基板进行配向,配向单元包括多个间隔、均匀排列的光源,步进单元用于带动配向单元移动,配向单元的移动方向与光源的排列方向相同。
下面以图2为例,对本发明的方案进行详细介绍。
如图2所示,光源可包括线光源1,配向单元还包括箱体2,箱体2可为长方体形(当然,也可以为其他形状),多个线光源1均设置在箱体2内且相互平行,线光源1的长度方向与箱体2的长度方向垂直,多个线光源1沿箱体2的长度方向依次等间距排列。步进单元包括第一轨道3,箱体2设置于第一轨道3上,第一轨道3的延伸方向与箱体2的长度方向相同。
其中,配向单元包括N个相同的箱体2,N个箱体2沿箱体2的宽度方向依次平行排列;单个箱体2内相邻的两个线光源1之间的间距为L,相邻箱体2在长度方向上依次错开L/N间距排列,步进单元单次带动配向单元沿第一轨道3的步进距离为L/2N,其中,N≥2。
在本实施例中,将多个这样的较短的水银灯管(以下简称短灯管)平行并等间距排列,能够使光照能量均匀叠加,从而获得更好的光照均匀度。另外,相比于长度较长的水银灯管,该短灯管光强较小,能满足目前低能量光配向的需求;并且,短灯管在有效发光区域内的光照均匀度相对较好,同时,短灯管便于调整,从而使得短灯管的光照均匀度容易控制,容易取得良好的光配向效果。可见,采用短灯管既满足了目前低能量光配向的需求,又有利于取得良好的光配向效果;且短灯管的制造成本低,价格便宜,从而节约了光配向设备的成本。
较佳的,线光源1为紫外光水银灯管,水银灯管的长度小于等于箱体2的宽度。相对现有技术箱体中的光源,本实施例中的线光源1采用长度较短的水银灯管,以获得均匀的光照强度。图3为该较短的水银灯管的光照曲线图,从图3中可见,对应着水银灯管正下方的光照强度最大,距离水银灯管越远,光照强度越小。
需要说明的是,单个箱体2内相邻的两个线光源1之间的间距L的设定,需要根据选定的单个线光源1的光照强度,以确保N个箱体2内所有线光源1的光线均匀叠加之后的光照强度能足以对待取向基板进行光配向为宜。即单个箱体2内相邻两个线光源1的间距设置要使得整个配向单元内线光源1发出的光均匀地照射到待取向基板上,且使得光配向过程中的整体光照强度恰好能制备出取向良好的取向膜。
如图2所示,在本实施例中以N=2,即配向单元包括两个相同的箱体2进行示例性说明。此时,单个箱体2内相邻的两个线光源1之间的间距为L,两个箱体2在长度方向上错开L/2的距离,从而使得两个箱体2内相邻的两个线光源1之间的间距均为L/2;步进单元单次带动配向单元沿第一轨道3的移动距离为L/4。如此设置,使配向单元对待取向基板进行光配向时,线光源1发出的光能够更加均匀地照射到待取向基板上,从而取得良好的光配向效果。
进一步的,如图4所示,配向单元还包括偏振器4,偏振器4设置于箱体2内、且位于线光源1与待取向基板配向区之间,偏振器4用于将线光源1发出的光调节为线偏振光,线偏振光均匀叠加之后的光强范围为40-3000mJ。该光强范围既适于对目前普遍采用的低照度光敏取向膜材料进行光配向,也适于对高照度光敏取向膜材料进行光配向,即能很好地满足低照度及高照度光敏材料的光配向需求。
较佳的,配向单元还包括波长过滤器5,波长过滤器5设置于箱体2内、且位于线光源1与偏振器4之间,透过波长过滤器5的线光源1的光线的波长范围为200-400nm。该波长范围的光线能使待取向基板表面的光敏取向膜材料由各向同性转变为各向异性,即使得待取向基板表面形成良好的取向特性。
另外,配向单元还可以包括反光镜6,反光镜6设置于箱体2内、且位于线光源1远离波长过滤器5的一侧,反光镜6的形状为弧面形状,反光镜6的内弧面与线光源1相对。弧面形反光镜6的设置能将线光源1发出的光线汇聚并进行反射,从而避免光线的发散损失,进而提高了光源的利用率。
光配向设备还可以包括基板加载机构,基板加载机构包括基台7以及用于带动基台7移动的移动单元,基台7的台面对应着所述光配向机构时为待取向基板配向区,基台7的移动方向与配向单元的移动方向垂直。如此设置,使得待取向基板在往返经过配向单元时能进行两次配向,提高了光配向效率;同时,由于配向单元能在步进单元的带动下在与待取向基板的移动方向垂直的方向上移动,使得配向单元能随步进单元移动至光照强度的相对薄弱区,从而使得配向单元对待取向基板的光照强度更均匀,有利于提高光配向均匀度。
另外,如图2所示,箱体2底部在长度方向上的两端还可以分别设置有支撑架10,支撑架10设置于第一轨道3上。移动单元包括第二轨道8,第二轨道8的延伸方向与第一轨道3的延伸方向垂直,基台7设置于第二轨道8的上方、且低于箱体2的底面。如此设置,便于在光配向过程中,基台7从箱体2下方通过,从而使线光源1发出的光照射到设置于基台7台面上的待取向基板上,从而对待取向基板进行配向。其中,箱体2的底面为透明的,便于光线透过。
较佳的,光配向设备还可以包括外壳9,基台7、箱体2、第一轨道3和第二轨道8均设置于外壳9内,第一轨道3和第二轨道8优选位于外壳9的内底面上。其中,外壳9的与第二轨道8相对的至少一个侧面上,在与基台7的台面高度相当的位置开设有开口91,开口91的尺寸大于等于待取向基板在厚度方向上的尺寸。该开口91用于将待取向基板加载至外壳9内的基台7上,或者,将待取向基板从外壳9内的基台7上取出。外壳9的设置有利于避免光配向过程中光线的发散损失,从而使光照强度的控制更为可靠,保证良好的光配向效果。
进一步的,步进单元还可以包括第一电机,第一电机用于驱动箱体2沿第一轨道3移动;和/或,移动单元还包括第二电机,第二电机用于驱动基台7沿第二轨道8移动。
本实施例还提供一种上述光配向设备的配向方法,如图5所示,包括:
步骤S1:使待取向基板以第一速度通过配向单元,配向单元对待取向基板进行一次光配向。
在该步骤中,首先将待取向基板加载至基台7台面上;基台7以第一速度沿第二轨道8移动,并从配向单元的下方通过;通过时,配向单元对待取向基板进行一次光配向。
图6所示为该次光配向过程中的光照曲线图,图6中的第一光照曲线01和第二光照曲线02分别为此次光配向中两个箱体2(即第一箱体21和第二箱体22)内的线光源1的光照曲线。在此次光配向过程中,两个箱体2内相邻的两个线光源1之间的间距均为L/2,其中,L为同一箱体内相邻的两个线光源1之间的间距。待取向基板实际接受的光照强度为第一箱体21和第二箱体22内的线光源1的光照强度之和,从图6可以看出,对应着两个箱体2内相邻的两个线光源1之间的间距的中心点,光照强度稍小于其他区域的光照强度,即光照强度的相对薄弱区。
需要说明的是,该次光配向并未使待取向基板表面的取向膜彻底形成。
步骤S2:步进单元带动配向单元移动一个步进距离,该步进距离为L/4,如图7所示。
在完成步骤S1之后,配向单元中的两个箱体2分别沿第一轨道3向同一方向移动L/4的距离,即箱体2移动之后,箱体2内的每个线光源1均向同一方向移动了L/4的距离,但两个箱体2内相邻的两个线光源1之间的间距仍然均为L/2,所以配向单元在移动之后,箱体2内的线光源1的分布均匀度并未改变,仍然与配向单元移动前的分布均匀度相同,只是每个线光源1都相应地挪动到了一个新位置,而该新位置恰好为两个箱体2内相邻的两个线光源1之间的间距的中心点,也即待取向基板实际接受的光照强度稍小于其他区域的光照强度的位置。
步骤S3:使待取向基板以第一速度再次通过配向单元,配向单元对待取向基板进行再次光配向。
在该步骤中,待取向基板再次通过配向单元时,被再次光配向,图8中的第三光照曲线03和第四光照曲线04分别为此次光配向中两个箱体2(即第一箱体21和第二箱体22)内的线光源1的光照曲线。待取向基板在第一次光配向的基础上,再次接受第一箱体21和第二箱体22内的线光源1的光照,从图8可以看出,对应着两个箱体2内相邻的两个线光源1之间的间距的中心点,光照强度基本与其他区域的光照强度相同,即待取向基板表面任意位置的光照强度基本趋于一致,从而使待取向基板表面的光照强度更加均匀。
经过此次光配向后,待取向基板表面的取向膜彻底形成。
在本实施例中,只要选定单个线光源1的光照强度以及设定相邻线光源1之间的间距L,即确保两个箱体2内线光源1的光线在均匀叠加之后的光照强度能足以对待取向基板进行光配向,并使配向单元在计算好的时间内对待取向基板进行两次光配向,就可以使取向膜彻底形成。使配向单元在计算好的时间内对待取向基板进行光配向,可通过控制移动单元带动待取向基板经过配向单元的第一速度来实现。例如:如果计算好的时间较短,则第一速度较快;如果计算好的时间较长,则第一速度较慢。
能够想到的是,也可以通过选定单个线光源1的光照强度以及设定相邻线光源1之间的间距L,使配向单元在计算好的时间内对待取向基板进行一次光配向,就彻底形成取向膜;或者,通过选定单个线光源1的光照强度以及设定相邻线光源1之间的间距L,使配向单元在计算好的时间内对待取向基板进行多次光配向,即重复步骤S2和步骤S3至少一次,从而最终彻底形成取向膜,都是完全可以的。所有的这些情况,只要确保在每次光配向过程中,配向单元的光配向保持一定的光照强度均匀度即可。
需要说明的是,第一速度与配向单元的总的光照强度成正比,例如:如果光照强度较大,待取向基板每次通过配向单元的第一速度要快一点;如果光照强度较小,待取向基板每次通过配向单元的第一速度要慢一点。总之,只要确保在根据第一速度计算好的一次或多次光配向时间内,待取向基板能够在均匀的光照强度下完成彻底取向即可。第一速度与光配向时间成反比,二者可以按照反比例关系调整设定。
实施例2:
本实施例提供一种光配向设备,与实施例1不同的是,本实施例中N=1,即配向单元只包括一个箱体2。光配向设备的其它结构及设置均与实施例1中相同,不再赘述。
本实施例还提供一种该光配向设备的配向方法,与实施例1中的配向方法不同的是,基于实施例1中所选定的线光源1的光照强度和设定的相邻线光源1之间的间距L(即一个箱体2内的线光源1的数量也与实施例1中相同),且在步进单元单次带动配向单元移动一个步进距离L/4的基础上,本实施例中的配向单元需要向同一方向步进移动三次,相应地,待取向基板需要在基板加载机构的带动下沿第二轨道往返两次(即四次单程)通过配向单元下方,即待取向基板需要进行四次光配向,才能彻底配向完毕。其中,待取向基板每次通过配向单元下方的速度与实施例1中的第一速度相同。具体为:
待取向基板在基板加载机构的带动下沿第二轨道第一次通过配向单元下方,配向单元对待取向基板进行1/4光照强度的光配向,该次光配向保持一定的光照均匀度,该次光配向的光照曲线如图9中的第一光照曲线01。首次光配向后,待取向基板的光配向程度只有1/4。
配向单元向一个方向移动一个步进距离L/4,待取向基板在基板加载机构的带动下沿第二轨道返回,并第二次通过配向单元下方,配向单元对待取向基板进行第二次1/4光照强度的光配向,该次光配向仍然保持首次光配向时的光照均匀度,该次光配向的光照曲线如图9中的第二光照曲线02。第二次光配向后,待取向基板的光配向程度为1/2。
配向单元再向同一个方向移动一个步进距离L/4,待取向基板在基板加载机构的带动下沿第二轨道第三次通过配向单元下方,配向单元对待取向基板进行第三次1/4光照强度的光配向,该次光配向仍然保持首次光配向时的光照均匀度,该次光配向的光照曲线如图9中的第三光照曲线03。第三次光配向后,待取向基板的光配向程度为3/4。
配向单元再向同一个方向移动一个步进距离L/4,待取向基板在基板加载机构的带动下沿第二轨道返回,并第四次通过配向单元下方,配向单元对待取向基板进行第四次1/4光照强度的光配向,该次光配向仍然保持首次光配向时的光照均匀度,该次光配向的光照曲线如图9中的第四光照曲线04。第四次光配向后,待取向基板彻底配向完毕。
实施例3:
本实施例提供一种光配向设备,与实施例1-2不同的是,本实施例中N=3,即配向单元包括三个相同的箱体,相邻箱体在长度方向上依次错开L/3间距排列,从而使得三个箱体任意相邻的两个箱体内相邻的两个线光源之间的间距均为L/3。步进单元单次带动配向单元沿第一轨道的移动距离为L/6。光配向设备的其它结构及设置均与实施例1中相同,不再赘述。
本实施例中,由于单个箱体内相邻线光源之间的间距L与实施例1中相同,将相邻的两个箱体内相邻的两个线光源之间的间距设置为L/3,以及配向单元单次移动距离设置为L/6,使配向单元在光配向过程中能够更加均匀地对待取向基板进行光照射,从而在实施例1的基础上进一步提高了光配向均匀度,进而能够进一步提升光配向的效果。
需要说明的是,本实施例中,由于单个线光源的光照强度和单个箱体内相邻线光源之间的间距L与实施例1中相同,加之,相邻的两个箱体内相邻的两个线光源之间的间距设置为L/3,以及配向单元单次移动距离设置为L/6,使整个配向单元在光配向过程中的光照强度增大,因此,本实施例中对待取向基板进行彻底光配向所需要的总的光配向时间比实施例1中短,相应地,待取向基板通过配向单元下方的速度比实施例1中的第一速度快。
本实施例中光配向设备的配向方法与实施例1中相同,此处不再赘述。
另外需要说明的是,在本实施例的基础上,虽然随着箱体数量的增加,相邻的两个箱体内相邻的两个线光源之间的间距(即L/N)会更小,同时,步进单元单次带动配向单元沿第一轨道的移动距离(即L/2N)也会更小,从而使得整个配向单元的光照均匀度更好;但同时也会使得整个配向单元在光配向过程中的光照强度更大。为保证待取向基板获得预期的光配向效果,应使得整个配向单元的光照强度不能超过待取向基板彻底光配向应该满足的光照强度范围。
实施例1-3的有益效果:实施例1-3中的光配向设备通过设置步进单元,使得配向单元能随步进单元移动至光照强度的相对薄弱区,同时,配向单元能够在位置移动后仍然保持均匀的光照强度,从而使配向单元在整个配向过程中的光配向更加均匀,进而避免了待取向基板表面的取向膜因光配向均匀度不佳而导致的不良,从而进一步保证了采用该取向基板的显示面板的质量。该光配向设备适用于高端显示面板的光敏取向膜取向工艺。
实施例4:
本实施例提供一种显示装置生产系统,包括实施例1-3中任一的光配向设备。
该显示装置生产系统由于采用上述光配向设备,从而使得显示装置内取向膜的取向更加均匀,进而提升了整个显示装置的显示品质。该生产系统特别适用于高端显示装置的低照度光敏取向膜取向工艺。
可以理解的是,以上实施方式仅仅是为了说明本发明的原理而采用的示例性实施方式,然而本发明并不局限于此。对于本领域内的普通技术人员而言,在不脱离本发明的精神和实质的情况下,可以做出各种变型和改进,这些变型和改进也视为本发明的保护范围。
Claims (12)
1.一种光配向设备,包括光配向机构以及待取向基板配向区,其特征在于,所述光配向机构包括配向单元以及用于带动所述配向单元移动的步进单元,所述配向单元用于对所述待取向基板进行配向,所述配向单元包括多个间隔、均匀排列的光源,所述步进单元用于带动所述配向单元移动,所述配向单元的移动方向与所述光源的排列方向相同;
所述光源包括线光源,所述配向单元还包括箱体,所述箱体为长方体形,多个所述线光源均设置在所述箱体内且相互平行,所述线光源的长度方向与所述箱体的长度方向垂直,多个所述线光源沿所述箱体的长度方向依次等间距排列;所述步进单元包括第一轨道,所述箱体设置于所述第一轨道上,所述第一轨道的延伸方向与所述箱体的长度方向相同;
所述配向单元包括N个相同的所述箱体,N个所述箱体沿所述箱体的宽度方向依次平行排列;单个所述箱体内相邻的两个所述线光源之间的间距为L,相邻所述箱体在长度方向上依次错开L/N间距排列,所述步进单元单次带动所述配向单元沿所述第一轨道的步进距离为L/2N,其中,N≥2。
2.根据权利要求1所述的光配向设备,其特征在于,所述配向单元还包括偏振器,所述偏振器设置于所述箱体内、且位于所述线光源与所述待取向基板配向区之间,所述偏振器用于将所述线光源发出的光调节为线偏振光,所述线偏振光均匀叠加之后的光强范围为40-3000mJ。
3.根据权利要求2所述的光配向设备,其特征在于,所述配向单元还包括波长过滤器,所述波长过滤器设置于所述箱体内、且位于所述线光源与所述偏振器之间,透过所述波长过滤器的所述线光源的光线的波长范围为200-400nm。
4.根据权利要求3所述的光配向设备,其特征在于,所述配向单元还包括反光镜,所述反光镜设置于所述箱体内、且位于所述线光源远离所述波长过滤器的一侧,所述反光镜的形状为弧面形状,所述反光镜的内弧面与所述线光源相对。
5.根据权利要求1-4任意一项所述的光配向设备,其特征在于,所述线光源为紫外光水银灯管,所述水银灯管的长度小于等于所述箱体的宽度。
6.根据权利要求5所述的光配向设备,其特征在于,所述光配向设备还包括基板加载机构,所述基板加载机构包括基台以及用于带动所述基台移动的移动单元,所述基台与所述光配向机构相对应时,所述基台的台面为所述待取向基板配向区,所述基台的移动方向与所述配向单元的移动方向垂直。
7.根据权利要求6所述的光配向设备,其特征在于,所述箱体底部在长度方向上的两端分别设置有支撑架,所述支撑架设置于所述第一轨道上;所述移动单元包括第二轨道,所述第二轨道的延伸方向与所述第一轨道的延伸方向垂直,所述基台设置于所述第二轨道的上方、且低于所述箱体的底面,所述箱体的底面为透明的。
8.根据权利要求7所述的光配向设备,其特征在于,所述光配向设备还包括外壳,所述基台、所述箱体、所述第一轨道和所述第二轨道均设置于所述外壳内;所述外壳的与所述第二轨道相对的至少一个侧面上,在与所述基台的台面高度相当的位置开设有开口,所述开口的尺寸大于等于所述待取向基板在厚度方向上的尺寸。
9.根据权利要求8所述的光配向设备,其特征在于,所述步进单元还包括第一电机,所述第一电机用于驱动所述箱体沿所述第一轨道移动;和/或,所述移动单元还包括第二电机,所述第二电机用于驱动所述基台沿所述第二轨道移动。
10.一种显示装置生产系统,其特征在于,包括权利要求1-9任意一项所述的光配向设备。
11.一种采用权利要求1-9任意一项所述的光配向设备进行光配向的配向方法,其特征在于,包括:
步骤S1:使待取向基板以第一速度通过配向单元,所述配向单元对所述待取向基板进行一次光配向;
步骤S2:步进单元带动所述配向单元移动一个步进距离;
步骤S3:使所述待取向基板以所述第一速度再次通过所述配向单元,所述配向单元对所述待取向基板进行再次光配向;
或者,所述光配向方法还进一步包括:重复所述步骤S2和所述步骤S3至少一次;
所述步进距离为L/2N,其中,N为所述配向单元中箱体的数量,N≥2,L为同一所述箱体内相邻的两个光源之间的间距。
12.根据权利要求11所述的配向方法,其特征在于,所述第一速度与所述配向单元的光照强度成正比。
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