CN103430130A - 滤光器 - Google Patents

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CN103430130A
CN103430130A CN2011800696421A CN201180069642A CN103430130A CN 103430130 A CN103430130 A CN 103430130A CN 2011800696421 A CN2011800696421 A CN 2011800696421A CN 201180069642 A CN201180069642 A CN 201180069642A CN 103430130 A CN103430130 A CN 103430130A
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D.I.克罗夫特
B.T.菲利普斯
B.本森
C.G.阿丁顿
A.吴
S.R.克拉克
G.亚当斯
J.斯塔西亚克
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Hewlett Packard Development Co LP
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Abstract

这里公开的实施例涉及滤光器(100)。在一个实施例中,滤光器包括图案(120)。该图案可以反射或者发非可见荧光。

Description

滤光器
背景技术
为了允许用户与显示器设备交互,可以向显示器设备中集成电感、电阻或者电容传感器。然而电感传感器经常对于大型显示器而言太昂贵而电阻和电容传感器一般没有为更复杂功能、诸如手写捕获或者图形设计提供充分分辨率。
用于用户与显示器设备交互的其他技术包括向显示器设备的表面涂敷光学图案而光学读取器型触笔由用户用来检测这一图案。当前图案通常由反射触笔投射的IR光的红外(IR)反射墨形成。触笔基于在反射的IR光与非反射的IR光之间的对比度检测图案。然而这样的对比度可能难以在显示器设备的玻璃或者塑料表面上检测。而且,由于这些图案阻挡从显示器设备的表面发射的一些可见光,这些图案可能使显示器设备的图像质量降级。
附图说明
以下详细描述参照附图,在附图中:
图1是示例滤光器的俯视图的框图;
图2是沿着图1的线A-A’取得的示例图案的横截面图的框图;
图3是沿着图1的线A-A’取得的另一示例图案的横截面图的框图;
图4是沿着图1的线A-A’取得的示例衬底的横截面图的框图;
图5是沿着图1的线A-A’取得的另一示例衬底的横截面图的框图;
图6是包括图1的滤光器的示例显示器系统的框图;
图7是图6的显示器系统的更详细框图;
图8是包括图3的滤光器的示例显示器系统的框图;并且
图9是用于根据图2的示例图案形成滤光器的示例方法的流程图。
具体实施方式
在以下描述中给出具体细节以提供对实施例的透彻理解。然而本领域普通技术人员将理解,无这些具体细节也可以实现实施例。例如可以在框图中示出系统以便不用不必要的细节模糊实施例。在其他实例中,可以示出公知过程、结构和技术而无非必需细节以便避免模糊实施例。
为了允许用户与显示器设备的交互,已经开发标记设备、诸如光笔以与显示器设备上的图案交互。例如这些标记设备可以被配置用于发射非可见光、诸如红外光,并且在显示器之上的图案可以被配置用于反射在图案上入射的发射的非可见光。未在图案上入射的发射的非可见光可能未被反射或者与图案的反射比较具有减少的反射。
标记设备还可以包括用于检测从图案反射的非可见光的检测器,诸如红外照相机。因而,检测器可以通过跟踪反射非可见光的图案部分的位置改变来确定在显示器设备之上移动标记设备的方向和/或速度。因此,检测器可以捕获在显示器之上的标记设备或者用户的手部移动作为数据。然后可以为给定的应用、诸如手写捕获或者图形设计传输和解释这一数据。
然而用于显示器设备的当前类型的图案制造成本高或者通过阻挡从显示器设备发射的可见光而使图像质量降级。实施例可以提供成本相对低和/或透射基本上所有可见光的图案。
现在参照附图,图1是示例滤光器100的俯视图的框图,其中示例滤光器100可以代表较大滤光器的一部分。在图1的实施例中,滤光器100包括衬底110和在衬底110之上的图案120。这里示出图案120包括多个点120。然而图案120不限于点120。例如图案120的实施例可以包括点、线、几何形状、曲线等的任何组合。
尽管图1中所示图案120包括多个元素,诸如点120,但是图案120的实施例范围可以从单个元素、诸如单个点120到比图1中所示浓度更高浓度的元素或者点120。已经随机排列图1中的点120,但是图案120的实施例也可以具有均匀排列的或者根据本领域已知的任何其他类型的分布而排列的元素。例如可以对称、不对称等地排列图案120。此外,图案120可以重复或者不重复。
在图1中,图案120可以透射基本上所有可见光以及发非可见荧光(fluoresce)之一,并且如以下将关于图2和3更详细描述的那样,如果图案120将透射基本上所有可见光,则图案120可以反射非可见光的至少一部分。术语部分可以指代整体的一部分。例如非可见光的一部分可以指代少于所有非可见光谱。在一些实施例中,术语基本上可以大于百分之97(97%)。另外,图案120的透射率或者反射率可以不包括任何空气到材料损耗。可见光可以包括电磁谱的对人眼可见的部分,并且非可见光可以包括电磁谱的对人眼不可见的部分。仅术语光可以包括可见和非可见光。例如可见光谱可以近似地包括在390纳米(nm)至750 nm范围中的波长。非可见光谱可以一般包括小于390 nm和大于750 nm的波长。然而可见和非可见光的波长可以有些重叠。例如也可以在非可见光谱中包括如400 nm一样高和如700 nm一样低的波长。术语发荧光可以包括重新辐射先前吸收的光,其中重新辐射的光通常为与吸收的光不同的波长。例如图案120可以以比图案120吸收的光更低的频率或者更高的波长发荧光。
图1中的点120中的至少两个点可以相互隔开0.25毫米(mm)与0.5 mm之间。另外,在图1中的相邻点120之间的平均长度可以在0.25 mm与1 mm之间。然而实施例可以包括隔开小于0.25 mm或者隔开大于0.5 mm的点120。衬底110可以是刚性材料、诸如玻璃或者柔性材料、诸如塑料。另外,衬底110可以是本领域已知的任何类型的材料。
图2是沿着图1的线A-A’取得的示例图案220的横截面图的框图。在图2的实施例中,图案220包括由衬底110之上的薄膜222和224的多个堆叠层形成的点220。薄膜222和224可以由电介质材料形成,其中不同类型的电介质材料具有不同折射率。
由于在薄膜222和224的边界处在入射与反射的光波之间的干涉效应,点220可以反射光谱的部分、诸如非可见光并且透射光谱的剩余部分、诸如可见光。另外,薄膜222和224的光学性质允许一般为非可见和可见光两者维持很低吸收水平。因此,点220一般不吸收可见光并且一般不吸收非可见光。点220也可以透射所有或者基本上所有可见光并且反射所有或者基本上所有或者至少一部分非可见光。如关于图7更详细说明的那样,根据图2的实施例,点220可以一般不阻挡来自其上沉积了点220的表面的光的通过,甚至在点220的密度相对高的地方。例如,如果点220根据一个实施例实质上或者几乎覆盖衬底110的整个表面,则经过衬底透射并且面向点210的基本上所有可见光将仍然穿过点220。
薄膜222和224的堆叠层被布置用于反射非可见光并且同时让可见光通过。在图2中存在在至少两个不同类型的材料222和224之间交替的薄膜220的四个堆叠层。两个类型的材料可以是本领域已知的任何类型的薄膜材料。例如两个不同类型的材料222和224可以包括SiO2以及TiO2、Nb2O5、Ta2O5、ZrO2和HfO2中的至少一种。根据使用的材料类型,点可以表现附加性质、诸如紫外(UV)保护、防刮、蒸汽屏蔽等。另外,其他实施例可以在多于两个类型的材料之间交替并且可以包括多于或者少于四个堆叠薄膜层。
在图2中,示出薄膜222和224的堆叠层具有相同厚度。然而其他实施例可以包括堆叠薄膜层中的至少两层具有不同厚度。因而,通过改变薄膜的厚度,实施例可以改变哪些波长的光从点220反射和/或哪些波长的光穿过点220。
例如一个实施例可以包括至少25个堆叠薄膜层,其中每个薄膜层厚度范围在25纳米(nm)与120 nm之间。此外,实施例可以包括其他类型的材料和/或在堆叠薄膜层之间、以上或者以下的层。
图3是沿着图1的线A-A’取得的另一示例图案320的横截面图的框图。在图3的实施例中,图案320包括在衬底110之上沉积并且由包括多个量子点的介质组成的点320,该多个量子点响应于吸收非可见光和可见光中的至少一种光来发非可见荧光。量子点可以是半导体,这些半导体具有在所有三个空间维度中局限的激子(exciton)。量子点的性质、诸如在由于吸收非可见光和可见光中的至少一种光而激发之后发荧光或者发射的光的频率可以根据量子点的大小和形状而变化。例如量子点可以形状为矩形或者三角形并且直径在2至10纳米(nm)之间。
示出图2和3中的点220和320具有80微米(μ)的宽度和0.5 μ的高度。然而点220和320可以具有大于或者小于80 μ的宽度和大于或者小于0.5 μ的高度。此外,尽管示出点220具有矩形形状并且示出点320具有圆形形状,但是点220和320不限于此并且可以用多种形状和大小来形成。
尽管在图2和3中单独示出点220和320,但是实施例可以包括在衬底110之上点220和320两者的组合。
图4是沿着图1的线A-A’取得的示例衬底400的横截面图的框图。图5是沿着图1的线A-A’取得的另一示例衬底500的横截面图的框图。在图4中示出衬底400具有多个凸形状410,而在图5中示出衬底500具有多个凹形状510。在图4和5中,图案120可以沿着凸形状410和凹形状510的表面。例如图案120可以在凸形状410的表面以上和在凹形状510的表面以下。凸形状410和凹形状510可以允许光被从图案120更高效地例如引向检测器以检测光。例如非可见光的更大百分比可以从图4或者5中的图案120在统一或者大体上平行的方向上反射。
然而实施例也可以具有在凸形状410以下和在凹形状510以上的图案120。另外,实施例可以具有凹和凸形状10和510中的仅单个形状或者凹和凸形状两者的组合。另外,衬底110的其他实施例也可以包括如下形状,这些形状具有各种其他类型的凸起或者下降的表面、诸如三角形或者方形形状的表面。
图6是包括图1的滤光器100的示例显示器系统600的框图。在图6的实施例中,显示器系统600包括标记设备610、在图1的滤光器100后面的显示器620和计算设备630。计算设备630包括处理器632和机器可读存储介质634。
标记设备610可以是用户用来在显示器620之上书写的书写器具、诸如触笔,该书写器具将与连接到显示器620的计算设备630一起使用。标记设备610可以通过确定标记设备610在显示器620之上相对于在滤光器100中包括的图案120的位置来收集与用户在显示器之上对标记设备610的移动有关的数据。这一数据然后可以通过有线或者无线通信传输到计算设备630和/或另一设备(未示出)。以下将关于图7和8更详细说明标记设备610。
显示器620可以包括集成显示器设备、诸如液晶显示器(LCD)面板或者其他类型的显示器面板。显示器620也可以包括一个或者多个外部显示器设备、诸如LCD面板、等离子体面板、阴极射线管(CRT)显示器或者任何其他显示器设备。显示器620可以连接到计算设备630并且可以显示与用户在显示器620之上对标记设备610的移动有关的信息。用户对标记设备610的移动可以通过计算设备630传送到显示器620。尽管在图6中示出显示器620和计算设备630具有有线连接,但是实施例也可以包括其他类型的连接、诸如无线连接。
在图6中,示出计算设备630为桌面型计算机。然而计算设备630的实施例也可以包括例如笔记本计算机、一体系统、石板(slate)计算设备、便携读取设备、无线电邮设备、移动电话等。
在计算设备630中包括的处理器632可以是一个或者多个中央处理单元(CPU)、基于半导体的微处理器和/或适合于取回和执行在机器可读存储介质中存储的指令的其他硬件设备。
在计算设备630中包括的机器可读存储介质634可以是包含或者存储可执行指令的任何电子、磁、光学或者其他物理存储设备。因此,机器可读存储介质634可以是例如随机访问存储器(RAM)、电可擦除可编程只读存储器(EEPROM)、存储驱动器、压缩盘只读存储器(CD-ROM)等。机器可读存储介质634可以存储处理器632可执行的一个或者多个应用。例如机器可读存储介质634可以包括用于解释用户对移动设备620的移动的手写或者图形设计应用。
图7是图6的显示器系统的更详细框图。在图7的实施例中,显示器系统700包括标记设备610、图1的滤光器100和在滤光器100以下的显示器620。滤光器100包括衬底110和图案120。图案120可以是包括如图3中示出的多个量子点320或者如图2中所示薄膜220的堆叠层的技术方案(solution)。量子点响应于吸收可见和非可见光中的至少一种光发非可见荧光。薄膜220的堆叠层反射非可见光并且透射可见光。显示器620从衬底110的边界在滤光器100处投射可见光Lvis
标记设备610包括投射器612和检测器614。如图7中所示,投射器612在滤光器100处投射非可见光Lmark,并且检测器614检测从滤光器100投射或者返回的非可见光Ldot。从滤光器100投射或者返回的非可见光Ldot可以包括从点220反射的光或者从点320发的荧光。投射器612可以包括非可见光发射源、诸如二极管,其中非可见光类型可以包括紫外(UV)或者红外(IR)光。例如IR光可以具有大于约700 nm的波长,并且UV光可以具有小于约400 nm的波长。检测器614可以包括非可见光检测源、诸如照相机。
在一个实施例中,投射器612可以在IR谱中投射非可见光Lmark,并且检测器614可以检测从点220反射的在IR谱中的非可见光Ldot。在这一实施例中,投射器612可以包括IR二极管,并且检测器可以包括IR照相机。
在另一实施例中,投射器612可以在UV谱中投射非可见光Lmark,并且检测器614可以检测从点220反射的在UV谱中的非可见光Ldot。在这一实施例中,投射器612可以包括UV二极管,并且检测器可以包括UV照相机。在实施例中,也可以在滤光器100之上涂敷保护涂层(未示出)。
如以上关于图2讨论的那样,点220允许基本上所有可见光穿过点220。因此,如果点220用于图6中的图案120,则图案或者点120的更紧密间距、诸如隔开小于0.25 mm不会使图像质量降级。
另外,更紧密间距将允许检测器614查看点120中的更多点或者减少它的视野。增加检测器614可查看的点120的数量可以允许标记设备610的更大跟踪精确度。因此,可以诸如在手写或者图形设计期间用更少错误捕获标记设备610的更高速或者更详细移动。替代地,如果减少检测器614的视野,则可以代之以在标记设备610中包括更小和/或更低成本的检测器,其中更小检测器将造成标记设备610的减少的总大小。
图8是包括图3的滤光器300的示例显示器系统800的框图。图8的实施例除了标记设备610未包括投射器并且仅点320可以在衬底110之上之外与图7的实施例有些相似。这里,检测器614可以检测点320响应于吸收从显示器620发射的可见光Lvis中的一些可见光而发出的非可见荧光Lflu、诸如IR光。因此,去除投射器可以造成更低成本、更小大小和减少功耗的标记设备610。
根据量子点的性质,量子点可以吸收可见和非可见光。然而可以变化在图3的点320中的每个点中的量子点的浓度或者点320在显示器620之上的密度使得从显示器620向用户投射可见光的阈值百分比,使得未大量减少显示器620的图像质量。
图9是用于根据图2的示例图案220形成滤光器200的示例方法的流程图。在图9的实施例中,在块910处,在衬底110之上经由沉积形成薄膜222和224的多个堆叠层。可以在块910处通过化学沉积、物理沉积等来形成薄膜222和224的堆叠层。化学沉积可以包括例如化学溶液沉积(CSD)、化学气相沉积(CVD)、等离子体增强CVD(PECVD)等。物理沉积可以包括例如物理气相沉积(PVD)而PVD的变体包括阴极电弧沉积、电子束物理气相沉积、蒸发沉积、脉冲式激光沉积、溅射沉积等。
经由PVD形成点220可以允许以相对低的成本形成相对大量点220。另外,可以根据制造商或者消费者的需要容易缩放点220的生产而仍然为PVD维持批到批或者卷到卷一致性。
然后在块920处通过例如旋涂(spin coating)在薄膜222和224的多层之上涂敷光阻剂层。由于点220由薄膜222和224的多层形成,所以点220反射基本上所有或至少一部分非可见光。
接着在块930处使光阻剂的部分暴露于强光、诸如UV。然后在块940处例如使用液体(“湿”)或者等离子体(“干”)化学剂来蚀刻掉光阻剂的未暴露部分以及在光阻剂的未暴露部分以下的薄膜222和224的多层。此后在块950处例如使用抗蚀剂(resist)剥离器来去除暴露的光阻剂以形成图案220,该抗蚀剂剥离器化学地变更暴露的光阻剂从而不粘附到衬底或者含氧等离子体(“灰化(ashing)”)。
最后在块950处在将透射可见光的显示器620之上涂敷图案化的衬底或者滤光器100,图案化的衬底100用于透射来自投射器610的基本上所有可见光并且反射至少部分或者基本上所有非可见光。
根据图案120的类型,可以不同地沉积图案120。例如,根据一个实施例,用于沉积图3的点320的方法可以包括在衬底110之上涂敷包括多个量子点的溶液,其中量子点响应于吸收非可见光和可见光中的至少一种光来发非可见荧光。涂敷点320可以包括向衬底110上印刷、喷射或者吸移(pipetting)包括量子点的溶液等。印刷可以包括例如一个或者多个喷射过程,诸如一个或者多个诸如通过使用喷墨部件的包括热和/或压电喷射的喷射过程。
在涂敷溶液之后,可以允许点320干燥或者粘附到衬底110。例如,如果经由印刷向衬底320涂敷点320,则在阈值时间段内未扰动在其上印刷点320的衬底的表面。阈值时间段可以是足以让点320变成粘附到衬底110的时间段。
可以例如将自动化机械跟踪系统用于协调(coordination)在清洁室中执行图9的以上方法。用于图9的以上方法的块的顺序不限于所示顺序。附加地,也可以在以上实施例中运用未示出的居间块。虽然流程图可以描述操作为依次过程,但是可以并行或者同时执行操作中的许多操作。此外,也可以重排操作的顺序。过程可以在它的操作完成时终止,但是可以具有未在附图中包括的附加步骤。
根据前文,这里公开的实施例提供滤光器,该滤光器包括用于透射基本上所有可见光以及发非可见荧光之一的图案,并且如果图案用于透射基本上所有可见光,则图案用于反射基本上所有非可见光或者非可见光的部分。以这一方式,根据一个实施例,用户可以与使用标记设备来与投射可见光的显示器交互,该标记设备然后甚至在图案包括在显示器之上的相对高密度点时仍然投射非可见光。因此,用户可以诸如相对于手写捕获或者图形设计在显示器之上用标记设备执行详细或者复杂的移动而无损于显示器的图像质量。另外,可以以相对高的量和相对低的成本生产滤光器。

Claims (15)

1.一种滤光器(100),包括:
衬底(110);以及
沿着所述衬底的表面的图案(120),其中:
所述图案用于透射基本上所有可见光和发非可见荧光之一,并且
如果所述图案用于透射基本上所有可见光,则所述图案用于反射所述非可见光的至少一部分。
2.根据权利要求1所述的滤光器,其中如果所述图案用于反射所述非可见光的至少一部分,则所述图案由薄膜(220)的多个堆叠层形成。
3.根据权利要求2所述的滤光器,其中薄膜的堆叠层在至少两个不同类型的材料(222和224)之间交替。
4.根据权利要求2所述的滤光器,其中薄膜的堆叠层中的至少两层具有不同厚度。
5.根据权利要求2所述的滤光器,其中薄膜的堆叠层包括SiO2以及TiO2、Nb2O5、Ta2O5、ZrO2和HfO2中的至少一种。
6.根据权利要求2所述的滤光器,其中所述图案未吸收所述可见光并且所述图案未吸收所述非可见光。
7.根据权利要求1所述的滤光器,其中如果所述图案用于发非可见荧光,则所述图案包括用于响应于吸收所述可见和非可见光中的至少一种光来发非可见荧光的多个量子点(320)。
8.一种显示器系统(800),包括:
根据权利要求7所述的滤光器;
在所述滤光器之下的显示器(620),所述显示器用于在所述滤光器处投射可见光;以及
检测器(614),用于检测从所述滤光器投射的非可见光。
9.根据权利要求8所述的显示器系统,其中所述多个量子点用于响应于吸收可见光来发红外(IR)荧光,并且所述检测器用于检测IR光。
10.根据权利要求1所述的滤光器,其中所述图案包括多个点,并且在所述多个点中的相邻点之间的平均长度小于0.25毫米(mm)。
11.根据权利要求1所述的滤光器,其中所述衬底包括凹(510)和凸形状(410)中的至少一个,并且所述图案沿着凹和凸形状中的至少一个的表面。
12.一种显示器系统(700),包括:
根据权利要求1所述的滤光器;
在所述滤光器之下的显示器(620),所述显示器用于在所述滤光器处投射可见光;
投射器(612),用于在所述滤光器处投射非可见光;以及
检测器(614),用于检测从所述滤光器返回的非可见光。
13.一种显示器系统,包括:
显示器(620),用于透射可见光;
滤光器(100),包括显示器之上的点(120),图案包括多个量子点(320)和薄膜(220)的堆叠层之一;
投射器(612),用于在所述图案处投射非可见光;以及
检测器(614),用于检测从所述图案反射和发荧光之一的非可见光。
14.根据权利要求13所述的显示器系统,其中:
所述量子点响应于吸收可见光和非可见光中的至少一种光来发荧光,并且
薄膜的堆叠层反射非可见光的至少一部分并且透射基本上所有可见光。
15.一种用于形成滤光器(900)的方法,包括:
在衬底之上经由沉积形成薄膜的多个堆叠层(910);
在薄膜的多个层之上涂敷光阻剂的层(920);
使光阻剂的部分暴露(930)
蚀刻掉所述光阻剂的未暴露部分和在所述光阻剂的未暴露部分以下的薄膜的多个层(940);
去除暴露的光阻剂以形成图案(950);并且
在显示器之上涂敷图案化的衬底以透射可见光,所述图案化的衬底用于透射基本上所有可见光并且反射非可见光的至少一部分(960)。
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