CN103409725A - 旋转异形靶阴极机构及磁控溅射镀膜装置 - Google Patents

Abstract

本发明公开一种旋转异形靶阴极机构，其靶管绕磁钢部件相对旋转，带动整个的靶材沿固定的磁场做持续旋转，因此，让所有的靶材表面都得到均匀的刻蚀，从而大大提高了阴极靶材的利用率，且靶材呈异形靶面结构，保证靶材的最终刻蚀厚度一致，进一步提高阴极靶材的利用率；由此延长了更换靶材的周期，提高了整条生产线连续溅射生产的产能；采用旋转阴极靶材设置，解决了平面阴极在连续镀膜中的掉渣及打弧问题，保持溅镀工艺稳定，提高镀膜质量；而磁钢部件相对于竖直方向偏离设置，使溅射到内壁的靶材较少，保持设备的高清洁度，且清洁维护简洁，且该旋转异形靶阴极机构的结构简单。本发明还公开一种具有旋转异形靶阴极机构的磁控溅射镀膜装置。

Description

旋转异形靶阴极机构及磁控溅射镀膜装置

技术领域

本发明涉及磁控溅射镀膜技术领域，尤其涉及一种旋转异形靶阴极机构及具有该机构的磁控溅射镀膜装置。

背景技术

磁控溅射镀膜，主要用在太阳能光伏电池、建材用Low-e镀膜玻璃、平板显示等的镀膜生产上。在磁控溅射镀膜设备中，常见阴极主要有旋转阴极、平面阴极及扫描阴极，三种阴极的镀膜原理均是利用气体辉光放电过程产生正离子，这些正离子在电场的加速下撞击作为阴极的靶材，使其中的原子（或分子）脱离阴极而在阳极（基片）沉积，实现薄膜的沉积，完成镀膜工序。

常见的三种阴极结构中，平面阴极及扫描阴极在使用过程中，对靶材刻蚀的区域面积小，因此最大的问题在于靶材的利用率较低，其中，普通平面阴极的靶材利用率只有20-30%，而扫描阴极的靶材利用率也只有60%左右，这就相应地增加了靶材的使用数量及靶材的更换次数，从而增加了磁控溅射镀膜的成本。另外，平面阴极的溅射会在靶材非溅射区形成很厚的电介质层聚集，从而容易产生电介质的击穿或电弧，从而影响镀膜质量。自1989年，圆柱旋转阴极作为镀膜工业的一个标志性进步问世以来，极大地提高了靶材的利用率；这种旋转阴极的靶材为圆筒状，在溅射过程中该阴极不断旋转，靶材面积更大，靶材的利用率可达91%以上，因此，极大的提高了靶材的利用率；由于靶材的利用率得到极大提高，相应的，延长了换靶材的周期，从而提高了整条生产线连续溅射生产的产能，在磁控溅射镀膜工业中应用越来越广泛；且由于旋转阴极的靶面在不停地旋转，彻底解决了平面阴极在连续镀膜中的掉渣及打弧问题，保持溅镀工艺稳定，提高了镀膜质量。

但是旋转阴极的设置上，相对于平面阴极需要进一步设置旋转阴极驱动装置，需要更多其他配合部件，结构更复杂，因而其成本是平面阴极设备的三倍左右，并且需要较高的维护成本。另外，在溅镀过程中，旋转阴极的两端磁力相对较为集中，因此，刻蚀后会导致靶材的最终厚度不一致，降低靶材的利用率；另外，众所周知的是在溅镀过程中，靶材总会溅射到溅镀室的内壁上从而造成设备的污染，设备的清洁难道较大，同时也造成了靶材的浪费。

因此，急需一种结构简单、靶材利用率高、镀膜质量好、且产能更高的旋转异形靶阴极机构及具有该机构的磁控溅射镀膜装置以解决现有技术的不足。

发明内容

本发明的目的在于提供一种结构简单、靶材利用率高、镀膜质量好、且产能更高的旋转异形靶阴极机构。

本发明的另一目的在于提供一种具有旋转异形靶阴极机构的磁控溅射镀膜装置，其结构简单、靶材利用率高、镀膜质量好、且产能更高。

为实现上述目的，本发明的技术方案为：提供一种旋转异形靶阴极机构，设置于磁控溅射镀膜装置的旋转阴极腔体内，其包括支撑杆、磁钢部件、靶管及靶材，所述支撑杆固定连接于所述所述旋转阴极腔体内，所述磁钢部件呈密封设置并连接于所述支撑杆上，且所述磁钢部件相对于竖直方向偏离设置，所述靶管转动地套设于所述支撑杆及所述磁钢部件外，所述靶管内的空隙形成冷却水通道，所述靶材设于所述靶管外，且所述靶材呈异形靶面结构。

较佳地，所述靶材的两端形成有锥形台阶，从而使所述靶材呈异形靶面结构，由于靶材两端对应磁力集中的区域另外加置了锥形台阶，因此，可保证靶材最终刻蚀厚度接近一致，提高靶材利用率。

较佳地，所述旋转异形靶阴极机构还包括一橡胶材质的连接座，所述连接座的一端卡合于所述支撑杆上，所述磁钢部件连接于所述连接座的另一端，所述连接座与所述靶管之间的空隙形成所述冷却水通道，靶管的内壁即是冷却水通道，冷却水循环良好，对靶材冷却效果极佳，避免了电子轰击靶材后不久就不断发热的现象出现，保证溅镀工艺稳定。

较佳地，所述连接座上开设有相连通的第一卡槽及第二卡槽，所述第一卡槽与所述支撑杆相对应，所述第二卡槽与所述磁钢部件相对应，所述第一卡槽卡合于所述支撑杆上，所述磁钢部件卡合于所述第二卡槽内，连接座使磁钢部件的连接较为简单，且能方便地调整其角度。

较佳地，所述旋转异形靶阴极机构还包括密封体，所述密封体呈全密封地焊接于所述磁钢部件外，且密封体经过氦检，因此，当冷却水流经时，不会因漏水而使磁钢部件长期被水浸蚀从而产生溅射磁场的磁力逐渐衰退的现象。

较佳地，所述磁钢部件相对于竖直方向偏离8度，这样的角度设置，在保证膜层质量的同时，能大量减少靶材溅到旋转阴极腔体的内壁上，减少清理及维护，也避免了靶材的浪费。

对应地，本发明还提供一种磁控溅射镀膜装置，包括旋转阴极腔体、真空腔体、驱动机构及两旋转异形靶阴极机构，所述旋转阴极腔体与所述真空腔体密封连接从而形成溅镀室，所述旋转阴极腔体与所述真空腔体之间设置有供基片进出的入口及出口，且所述真空腔体与抽真空系统连接，两所述旋转异形靶阴极机构均设置于所述旋转阴极腔体内，所述驱动机构设置于所述转阴极腔体外，其中，所述旋转异形靶阴极机构如上所述，且两所述旋转异形靶阴极机构的磁钢部件相向偏离，两所述旋转异形靶阴极机构的靶管可相对转动。

较佳地，所述溅镀室内还设置有传输机构，所述传输机构与所述入口、所述出口相对应并位于两所述旋转异形靶阴极机构的下方，所述传输机构用于传输基片。

较佳地，所述磁控溅射镀膜装置还包括两布气管，两所述布气管分别设置于两所述旋转异形靶阴极机构的两侧，且所述布气管的轴向与所述支撑杆的轴向一致，所述布气管的中心处设置有进气口，所述布气管上还间隔地开设有若干布气孔，且沿所述进气口至所述布气管两端的方向上，相邻两所述布气孔间的孔间距逐渐变小，从而保证溅镀室内的气体均匀，保证溅镀工艺的稳定性。

较佳地，所述磁控溅射镀膜装置还包括两沿所述支撑杆的轴向设置的屏蔽板，两所述屏蔽板分别设置于两所述旋转异形靶阴极机构的两侧，屏蔽板用于防止靶材溅射到溅镀室的内壁上，以保证溅镀室的清洁，且屏蔽板便于清洁及维护。

较佳地，所述旋转阴极腔体的一端还设置有支撑座，所述支撑杆的一端固定连接于所述支撑座上。

较佳地，所述磁控溅射镀膜装置还包括旋转头，所述旋转头转动地设置于所述支撑座上，且所述旋转头的一端与所述靶管的一端固定连接，所述旋转头的另一端与所述驱动机构相连接，且所述旋转头与所述支撑座之间通过磁流体密封；由于没有橡胶密封件，因此不会出现因摩擦而导致泄漏的现象。

较佳地，所述旋转阴极腔体的另一端还设置有支撑块，所述靶管的另一端通过轴承连接于所述支撑块上，且所述轴承为工程塑料轴承，绝缘性能可靠、摩擦系数小、耐高温、且结构简单，旋转顺畅，免维护，成本低。

较佳地，所述驱动机构的输出轴通过带轮与所述旋转头连接，用于驱动所述旋转头转动，驱动机构设置于旋转阴极腔体外，便于检修及维护。

较佳地，所述旋转阴极腔体外还设置有冷却水管，所述冷却水管与所述冷却水通道相连通。

较佳地，所述旋转阴极腔体外还设置有控制面板。

与现有技术相比，由于本发明的旋转异形靶阴极机构，其磁钢部件呈密封设置并固定连接于支撑杆上，且磁钢部件相对于竖直方向偏离设置，靶管转动地套设于支撑杆及磁钢部件外，所述靶管内的空隙形成冷却水通道，所述靶材套设于所述靶管外，且所述靶材呈异形靶面结构，工作时，靶管绕磁钢部件相对旋转，带动整个靶材沿固定的磁场做持续旋转，因此，让所有的靶材表面都得到均匀的刻蚀，从而大大的提高了阴极靶材的利用率，且靶材呈异形靶面结构，保证靶材的最终刻蚀厚度一致，进一步提高阴极靶材的利用率；由此延长了更换靶材的周期，提高了整条生产线连续溅射生产的产能；另外，采用旋转阴极靶材设置，解决了平面阴极在连续镀膜中的掉渣及打弧问题，保持溅镀工艺稳定，提高镀膜质量；而磁钢部件相对于竖直方向偏离设置，使溅射到溅镀室的内壁的靶材较少，保持设备的高清洁度，清洁维护简洁，且该旋转异形靶阴极机构的结构简单。具有本发明旋转异形靶阴极机构的磁控溅射镀膜装置也具有相同的技术效果。

附图说明

图1是本发明磁控溅射镀膜装置的内部结构示意图。

图2是图1沿A方向的结构示意图。

图3是图1中B部分的放大示意图。

图4是图1中C部分的放大示意图。

图5是本发明旋转异形靶阴极机构的截面放大示意图。

图6是图5中连接座的截面放大示意图。

图7是本发明靶材刻蚀前的部分剖视图。

图8是本发明靶材刻蚀后的部分剖视图。

图9是本发明磁控溅射镀膜装置使用状态的截面示意图。

具体实施方式

现在参考附图描述本发明的实施例，附图中类似的元件标号代表类似的元件。

结合图1-图9所示，本发明所提供的磁控溅射镀膜装置1，包括旋转阴极腔体10、真空腔体20、两旋转异形靶阴极机构40、两屏蔽板50、两布气管60及一驱动机构70；其中，旋转阴极腔体10设置于真空腔体20的上方并与之密封连接从而形成溅镀室30，旋转阴极腔体10与真空腔体20之间还设置有供基片进出的入口31及出口32，所述溅镀室30内还设置有传输机构33，所述传输机构33与入口31、出口32相对应，传输机构33用于传输基片。且真空腔体20的下方与抽真空系统连接。两布气管60及两旋转异形靶阴极机构40均设置于所述旋转阴极腔体10内并位于传输机构33的上方，且两布气管60分别设置于两旋转异形靶阴极机构40的两侧，两屏蔽板50分别设置在两布气管60的两侧。且旋转异形靶阴极机构40上设置有靶材46，所述靶材46呈异形靶面结构，即靶材46的外表面呈非圆柱面，一种优选方式中，所述靶材46的两端设置有锥形台阶461。工作时，布气管60向溅镀室30内提供氩气，并利用气体辉光放电过程中产生的正离子与旋转异形靶阴极机构40上设置的靶材46的表面原子之间的能量交换，把物质从源材料靶材46移向基片，实现薄膜的淀积，完成镀膜的工序。

如图1、图2所示，驱动机构70则设置于旋转阴极腔体10外，其用于驱动旋转异形靶阴极机构40上的靶材46转动，将驱动机构70设置于旋转阴极腔体10外，方便检修及维护。另外，在所述旋转阴极腔体10外，还设置有控制面板90，用于对磁控溅射镀膜装置1进行操作控制。

继续参阅图1、图2所示，所述布气管60的轴向与旋转异形靶阴极机构40的轴向一致，且布气管60连接于旋转阴极腔体10的上端，布气管60的中心处设置有进气口61，通过进气口61与进气管连接，在布气管60上间隔地开设有若干布气孔，且从进气口61向布气管60两端延伸的方向上，相邻两布气孔间的孔间距逐渐变小，也即，从布气管60的中心向其两端延伸的方向上，相邻布气孔间的孔间距逐渐变小，从而保持溅镀室30内的气体均匀，以保障溅镀工艺稳定。

参阅图9所示，两屏蔽板50沿布气管60轴向设置，且两屏蔽板50均延伸至传输机构33的上方，所述屏蔽板50用于防止镀膜过程中靶材46溅射到溅镀室30的内壁上，从而维持溅镀室30的清洁。

由于两旋转异形靶阴极机构40的结构及连接方式均相同，下面结合附图3-6所示，以其中一个为例对其具体结构及连接方式进行详细的描述。

如图3、图4所示，旋转阴极腔体10的一端设置有支撑块48，另一端设置有支撑座49，所述支撑块48与支撑座49用于配合安装旋转异形靶阴极机构40。

结合图3-图6所示，具体地，所述旋转异形靶阴极机构40包括支撑杆41、连接座42、磁钢部件43、密封体44、靶管45及靶材46。其中，所述密封体44呈全密封地焊接于磁钢部件43外，用于对磁钢部件43进行密封保护，优选地，所述密封体44包括多个不锈钢板，多个不锈钢板通过全密封焊接于磁钢部件43外，以对磁钢部件43进行密封，并经过氦检，这样，当冷却水经过时，不会因漏水而造成磁钢部件43长期被水浸湿而产生溅射磁场磁力逐渐衰退的现象；且本实施例中，磁钢部件43采用钐钴永久磁铁，磁钢均匀性为有效长度内±1.5%，当然并不以此为限。

继续参阅图3-图6，所述支撑杆41的一端固定连接于支撑座49上，另一端固定于旋转阴极腔体10内。磁钢部件43通过连接座42连接于支撑杆41上，靶管45转动地套设于支撑杆41及磁钢部件43外，所述靶管45内的空隙形成冷却水通道47。且靶管45的一端转动地连接于所述支撑块48上，靶管45与支撑块48之间设置有工程塑料轴承481，因此，绝缘性能可靠、摩擦系数小、耐高温，且结构简单，旋转顺畅，免维护，成本低；靶管45的另一端则固定连接有旋转头491，所述旋转头491转动地设置于支撑座49上，旋转头491与所述驱动机构70相连接，驱动机构70通过旋转头491带动靶管45转动；本实施例中，所述旋转头491与支撑座49之间通过磁流体492密封，由于无橡胶密封件，不会因磨损而导致泄漏，密封效果好。

如图5、图6所示，所述连接座42的一端卡合于支撑杆41上，磁钢部件43连接于该连接座42的另一端。具体地，所述连接座42为橡胶材质，连接座42的一端向内凹陷形成第二卡槽422，该连接座42还上开设有相连通第二卡槽422的第一卡槽421，第一卡槽421与支撑杆41相对应，第二卡槽422的宽度与磁钢部件43的长度相对应；因此，连接时，将连接座42的第一卡槽421卡合于支撑杆41上，并将磁钢部件43卡合于第二卡槽422内，从而将磁钢部件43连接于支撑杆41上，并使磁钢部件43相对于竖直方向偏离一定角度，且磁钢部件43向另一旋转异形靶阴极机构40偏转，具体见图5所示，假设经过支撑杆41轴心的竖直方向上的直线为L1，而磁钢部件43的对称轴所在直线为L2，磁钢部件43安装后，直线L2相对于直线L1向另一旋转异形靶阴极机构40偏转一定角度，因此，直线L2与L1之间形成有夹角为a，该夹角a优选为8°。

结合图7、图8所示，所述靶材46设于所述靶管45外，且靶材46设计为异形靶面结构，即，靶材46的外表面为非圆柱面；在一种具体方式中，在靶材46的两端形成有锥形台阶461，从而使所述靶材46呈异形靶面结构，由于在靶材46两端对应磁力集中的区域另外加置两锥形台阶461，可保证靶材46最终刻蚀厚度接近一致，提高靶材46利用率，靶材46被刻蚀后的状态如图8所示。靶材46作为薄膜溅镀的源材料，可制作为整体结构的靶材46，再设置于靶管45外，也可以在靶管45上分段焊接而成。

再次结合图1、图2所示，本发明中，驱动机构70的输出轴通过带轮与所述旋转头491连接，驱动机构70根据电控指示，驱动靶管45沿磁场持续的相对旋转运动。具体地，驱动机构70包括第一带轮71、第二带轮72、传输带73及驱动电机74，驱动电机74设置旋转阴极腔体10外，方便维修及维护；驱动电机74的输出轴一侧设置有第一带轮71，第二带轮72设置于支撑座49上并与第一带轮71位于同一竖直方向上，第一带轮71与第二带轮72之间通过传输带73连接，且第二带轮72与所述旋转头491连接，从而通过驱动电机74驱动靶管45转动。靶管45的旋转，使其上设置的靶材46同步旋转，靶材46沿固定的磁场做持续旋转，让所有的靶材46表面得到均匀的刻蚀，从而大大提高了阴极靶材46的利用率。

所述旋转阴极腔体10外还设置有冷却水管80，所述冷却水管80经过支撑座49后与冷却水通道47相连通。本发明采用大流量冷却水通道47设计，且圆柱形靶管45的内壁即是冷却水通道47，冷却水循环良好，对靶材46冷却效果极佳，避免了电子轰击靶材46后不久就不断发热的现象出现，保证溅镀工艺稳定。

参阅图9所示，本发明磁控溅射镀膜装置1的两旋转异形靶阴极机构40相平行地设置于旋转阴极腔体10内，且两旋转异形靶阴极机构40的磁钢部件43相向偏离，左侧的旋转异形靶阴极机构40的磁钢部件43向右偏离一定角度，右侧的旋转异形靶阴极机构40的磁钢部件43向左偏离一定角度，两磁钢部件43偏离竖直方向的角度均优选为8度，这样的角度调整，膜层质量完全不受影响，同时能减少靶材46溅到旋转阴极腔体10内的屏蔽板50上，减少屏蔽板50的清理维护，同时也避免了靶材46的浪费。

工作时，两所述旋转异形靶阴极机构40的靶管45相对转动；具体地，左侧的靶管45沿逆时针方向转动，右侧的靶管45则沿顺时针方向转动。采用两靶管45绕磁钢部件43可控制地相对旋转设计，使整个靶材46沿固定的磁场做持续旋转，让所有的靶材46表面得到均匀的刻蚀，从而大大提高了阴极靶材46的利用率。

下面结合附图1-图9所示，对本发明磁控溅射镀膜装置1的工作原理进行描述。

溅镀前，基片2通过入口31进入溅镀室30内，等待溅射镀膜处理。

溅射镀膜开始后，首先根据电控指示，驱动机构70运行并驱动靶管45转动；此过程中，磁钢部件43固定不动，靶管45转动从而带动靶材46穿透磁场并绕磁场做连续旋转。当真空腔体20由抽真空系统抽至一定压力之后，再通过布气管60向溅镀室30内充入一定流量的氩气并维持恒定压力为0.5Pa。

然后，连接一定功率的直流电源，在正负电极高压的作用下，氩原子被大量电离，产生辉光放电；电子e-在磁场的作用下被束缚在靠近被磁力线切割靶面的等离子体区域附近运动；电子在高压电场的作用下飞向基片（阳极）的过程中与Ar原子发生碰撞，电离出更多的Ar+离子和电子。Ar+离子在电场的作用下加速轰击靶材46（阴极），溅射出大量的靶材原子，呈中性的靶材原子（或分子）沉积在基片2上从而淀积成膜。旋转至被磁力线切割位置的靶材46的表面会被轰击、刻蚀，靶材46不停的旋转，整个靶材46就会被均匀的轰击、刻蚀；由于靶材46采用异形靶面设计，也即靶材46两端对应磁力集中的区域加工出加锥形台阶461，这样，可保证靶材46最终刻蚀厚度接近一致，提高靶材46利用率。

且由于所述磁钢部件43均相向偏离竖直方向8°，这样的角度调整，膜层质量完全不受影响，且这样的角度明显减少了向屏蔽板50溅射的靶材46，从而减少了清理维护的时间，同时也减少了靶材46的浪费。

溅镀完成后，基片2通过出口32输出溅镀室30，并进入下一工序进行处理。

由于本发明的旋转异形靶阴极机构40，其磁钢部件43呈密封设置并固定连接于支撑杆41上，且磁钢部件43相对于竖直方向偏离设置，靶管45转动地套设于支撑杆41及磁钢部件43外，所述靶管45内的空隙形成冷却水通道47，靶材46设于所述靶管45外，且所述靶材46呈异形靶面结构，工作时，靶管45绕磁钢部件43相对旋转，带动整个靶材46沿固定的磁场做持续旋转，因此，让所有的靶材46表面都得到均匀的刻蚀，从而大大提高了阴极靶材46的利用率，且靶材46呈异形靶面结构，保证靶材46的最终刻蚀厚度一致，进一步提高阴极靶材46的利用率；由此延长了更换靶材46的周期，提高了整条生产线连续溅射生产的产能；另外，阴极靶材46的旋转设置，解决了平面阴极在连续镀膜中的掉渣及打弧问题，保持溅镀工艺稳定，提高镀膜质量；而磁钢部件43相对于竖直方向偏离设置，使溅射到溅镀室的内壁的靶材较少，保持设备的高清洁度，且清洁维护简洁，且该旋转异形靶阴极机构40的结构简单。

具有本发明旋转异形靶阴极机构40的磁控溅射镀膜装置1也具有相同的技术效果。

以上所揭露的仅为本发明的优选实施例而已，当然不能以此来限定本发明之权利范围，因此依本发明申请专利范围所作的等同变化，仍属本发明所涵盖的范围。

Claims (16)

1.一种旋转异形靶阴极机构，设置于磁控溅射镀膜装置的旋转阴极腔体内，其特征在于：包括支撑杆、磁钢部件、靶管及靶材，所述支撑杆固定连接于所述所述旋转阴极腔体内，所述磁钢部件呈密封设置并连接于所述支撑杆上，且所述磁钢部件相对于竖直方向偏离设置，所述靶管转动地套设于所述支撑杆及所述磁钢部件外，所述靶管内的空隙形成冷却水通道，所述靶材设于所述靶管外，且所述靶材呈异形靶面结构。

2.如权利要求1所述的旋转异形靶阴极机构，其特征在于：所述靶材的两端形成有锥形台阶，从而使所述靶材呈异形靶面结构。

3.如权利要求1所述的旋转异形靶阴极机构，其特征在于：还包括一橡胶材质的连接座，所述连接座的一端卡合于所述支撑杆上，所述磁钢部件连接于所述连接座的另一端，所述连接座与所述靶管之间的空隙形成所述冷却水通道。

4.如权利要求3所述的旋转异形靶阴极机构，其特征在于：所述连接座上开设有相连通的第一卡槽及第二卡槽，所述第一卡槽与所述支撑杆相对应，所述第二卡槽与所述磁钢部件相对应，所述第一卡槽卡合于所述支撑杆上，所述磁钢部件卡合于所述第二卡槽内。

5.如权利要求1所述的旋转异形靶阴极机构，其特征在于：还包括密封体，所述密封体呈全密封地焊接于所述磁钢部件外。

6.如权利要求1所述的旋转异形靶阴极机构，其特征在于：所述磁钢部件相对于竖直方向偏离8度。

7.一种磁控溅射镀膜装置，包括旋转阴极腔体、真空腔体、驱动机构及两旋转异形靶阴极机构，所述旋转阴极腔体与所述真空腔体密封连接从而形成溅镀室，所述旋转阴极腔体与所述真空腔体之间设置有供基片进出的入口及出口，且所述真空腔体与抽真空系统连接，两所述旋转异形靶阴极机构均设置于所述旋转阴极腔体内，所述驱动机构设置于所述转阴极腔体外，其特征在于：所述旋转异形靶阴极机构如权利要求1-6任一项所述，且两所述旋转异形靶阴极机构的磁钢部件相向偏离，两所述旋转异形靶阴极机构的靶管可相对转动。

8.如权利要求7所述的磁控溅射镀膜装置，其特征在于：所述溅镀室内还设置有传输机构，所述传输机构与所述入口、所述出口相对应并位于两所述旋转异形靶阴极机构的下方，所述传输机构用于传输基片。

9.如权利要求7所述的磁控溅射镀膜装置，其特征在于：还包括两布气管，两所述布气管分别设置于两所述旋转异形靶阴极机构的两侧，且所述布气管的轴向与所述支撑杆的轴向一致，所述布气管的中心处设置有进气口，所述布气管上还间隔地开设有若干布气孔，且沿所述进气口至所述布气管两端的方向上，相邻两所述布气孔间的孔间距逐渐变小。

10.如权利要求7所述的磁控溅射镀膜装置，其特征在于：还包括两沿所述支撑杆的轴向设置的屏蔽板，两所述屏蔽板分别设置于两所述旋转异形靶阴极机构的两侧。

11.如权利要求7所述的磁控溅射镀膜装置，其特征在于：所述旋转阴极腔体的一端还设置有支撑座，所述支撑杆的一端固定连接于所述支撑座上。

12.如权利要求11所述的磁控溅射镀膜装置，其特征在于：还包括旋转头，所述旋转头转动地设置于所述支撑座上，且所述旋转头的一端与所述靶管的一端固定连接，所述旋转头的另一端与所述驱动机构相连接，且所述旋转头与所述支撑座之间通过磁流体密封。

13.如权利要求12所述的磁控溅射镀膜装置，其特征在于：所述旋转阴极腔体的另一端还设置有支撑块，所述靶管的另一端通过轴承连接于所述支撑块上。

14.如权利要求12所述的磁控溅射镀膜装置，其特征在于：所述驱动机构的输出轴通过带轮与所述旋转头连接，用于驱动所述旋转头转动。

15.如权利要求7所述的磁控溅射镀膜装置，其特征在于：所述旋转阴极腔体外还设置有冷却水管，所述冷却水管与所述冷却水通道相连通。

16.如权利要求7所述的磁控溅射镀膜装置，其特征在于：所述旋转阴极腔体外还设置有控制面板。

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