CN103400603B - 抗扭转并联双驱运动解耦伺服平台 - Google Patents

Abstract

本发明公开了一种抗扭转并联双驱运动解耦伺服平台，包括：基座；下层和上层直线电机组；解耦组件；支撑组件，连接组件和伺服运动平台。根据本发明实施例的抗扭转并联双驱运动解耦平台，采用抗扭转并联双驱式结构，通过平台正下方两层交错排布的导轨实现平台解耦，各分列于平台外侧的平行支撑导轨抑制了平台的扭转，第一和第二水平方向的运动组件可以互换，便于加工及维护，并且在工作时更容易保证运动平台在运动时的水平度，采用双驱的设计使得驱动力经过运动质量中心有利于实现高速高精度控制。从驱动力电信号的输入到运动平台的运动的执行结果在每个运动方向上更加一致，有利于控制平面运动的轨迹轮廓精度。

Description

抗扭转并联双驱运动解耦伺服平台

技术领域

本发明涉及平面驱动设备制造技术领域，特别涉及一种抗扭转并联双驱运动解耦伺服平台。

背景技术

目前广泛采用的两轴平面运动平台多采用旋转电机加滚珠丝杠等传动方式，在这种情况下，旋转电机通过丝杠将旋转运动转化为直线运动，存在传动环节，使得运动副之间存在间隙等非线性环节，且运动部分质量大，限制了平台的运动速度、加速度及控制精度等性能指标。所以开发新型驱动方式和机构(低摩擦、高加速度、运动解耦机构)的高速高精度运动系统已成为激光加工、精密光电检测等领域的重要研究内容。目前高速精密/超精密伺服平台多采用直线电机驱动的方式取代以往的旋转电机驱动方式以简化工作组件组成、减少装配和组件间隙误差。

串联式平台由底层驱动电机和上层驱动电机组成实现两个方向上的运动，其中底层电机的负载必然大于上层电机的负载，在设计上存在先天的不对称性；底层平台的驱动质量较大、运动惯量较大，不利于高速、高加速轨迹跟踪控制的实施。并联式平台以其高对称性，以及完全独立的解耦机构在高速高加速轨迹跟踪控制方面具有其独特优势。

现存的并联式运动平台由于平台与解耦机构的排布以及解耦机构装配间隙的限制导致在单一方向运动时平台在水平面方向会产生附加的力矩导致平台旋转，从而影响了运动精度。

发明内容

本发明旨在至少在一定程度上解决上述技术问题之一。

为此，本发明的一个目的在于提出一种并联的运动质量小、误差小的抗扭转并联双驱运动解耦伺服平台。

根据本发明实施例的抗扭转并联双驱运动解耦伺服平台，包括：基座、上层直线电机组、下层直线电机组、解耦组件、支撑组件、连接组件和运动平台。具体而言，所述上层直线电机组安装在所述基座上，所述上层直线电机组包括上层电机动子组和上层电机定子组，且所述上层电机定子组可驱动所述上层电机动子组沿第一水平方向移动；所述下层直线电机组安装在所述基座上，所述下层直线电机组包括下层电机动子组和下层电机定子组，且所述下层电机定子组可驱动所述下层电机动子组沿第二水平方向移动，其中所述第一水平方向和所述第二水平方向相互垂直；所述解耦组件分为上层和下层，所述解耦组件的上层包括沿第二水平方向延伸的上层滑块和与所述上层滑块相适配的上层解耦滑轨，所述上层解耦滑轨设在所述上层滑块和所述上层电机动子组之间，所述解耦组件的下层包括沿第一水平方向延伸的下层滑块和与所述下层滑块相适配的下层解耦滑轨，所述下层解耦滑轨设在所述下层滑块和所述下层电机动子组之间；所述支撑组件用于提供第一水平方向和第二水平方向的支撑与导向；所述连接组件设在所述上层直线电机组和下层直线电机组与所述解耦组件之间；所述运动平台安装在所述解耦组件上。

根据本发明实施例的抗扭转并联双驱运动解耦伺服平台，采用并联式结构，第一水平方向和第二水平方向的运动组件可以互换，便于加工及维护，通过基座上两层交错排布的导轨实现平台解耦，各分列于平台外侧的平行支撑导轨抑制了平台的扭转，并且在工作时更容易保证运动平台在运动时的水平度，采用双驱式结构，有利于驱动力通过运动质量中心从而防止运动平台在水平方向的扭转，本发明第一传感器和第二传感器直接检测运动平台在第一水平方向和第二水平方向的位移信号从而形成全闭环反馈，从驱动力电信号的输入到运动平台的运动的执行结果在每个运动方向上更加一致，有利于控制平面运动的轨迹轮廓精度。

另外，根据本发明实施例的抗扭转并联双驱运动解耦伺服平台，还可以具有如下附加的技术特征：

根据本发明的一个实施例，所述上层直线电机组包括沿第二直线方向间隔布置的第一上层直线电机和第二上层直线电机，所述下层直线电机组包括沿第一直线方向间隔布置的第一下层电机和第二下层电机。

根据本发明的一个实施例，所述支撑组件包括，上层支撑导轨、下层支撑导轨、上层支撑滑块及下层支撑滑块，所述上层支撑导轨为位于基座的第二水平方向的两侧且沿第一水平方向延伸的两条，所述下层支撑导轨为位于基座的第一水平方向的两侧且沿第二水平方向延伸的两条，所述上层支撑滑块与所述上层支撑导轨相适配，所述下层支撑滑块与所述下层支撑导轨相适配。

根据本发明的一个实施例，所述上层支撑滑块与所述上层电机动子组通过两个第一连接块和一个第一连接杆相连，且所述两个第一连接块下部形成有分别与所述两个第一支撑导轨适配的两个第一滑槽，所述下层支撑滑块与所述下层电机动子组通过两个第二连接块和一个第二连接杆相连且所述两个第二连接块下部形成有分别所述两个第二支撑导轨适配的两个第二滑槽。

根据本发明的一个实施例，所述上层支撑滑块和下层支撑滑块分别与所述运动平台一体形成。

根据本发明的一个实施例，还包括第一位移传感器和第二位移传感器，所述第一位移传感器安装在所述解耦组件的上层滑块上，所述第二位移传感器安装在所述解耦组件的下层滑块上，用于检测所述运动平台的移动距离。

根据本发明的一个实施例，所述第一位移传感器包括：第一光栅和第一计数器。所述第一光栅安装在上层解耦滑轨上；所述第一计数器安装在所述上层滑块上以计量所述第一光栅在所述第一水平方向上的移动位移。

根据本发明的一个实施例，所述第二位移传感器包括：第二光栅和第二计数器。所述第二光栅安装在下层解耦滑轨上；所述第二计数器安装在所述下层滑块上以计量所述第二光栅在所述第二水平方向上的移动位移。

根据本发明的一个实施例，所述上层电机动子组和所述下层电机动子组分别为永磁体。

根据本发明的一个实施例，所述上层直线电机组和所述下层直线电机组的电磁线圈固定安装在所述基座上，且所述上层直线电机组的电缆线由所述上层电机动子组引出，所述下层直线电机组的电缆线由所述下层电机动子组引出。

本发明的附加方面和优点将在下面的描述中部分给出，部分将从下面的描述中变得明显，或通过本发明的实践了解到。

附图说明

本发明的上述和/或附加的方面和优点从结合下面附图对实施例的描述中将变得明显和容易理解，其中：

图1是根据本发明实施例的抗扭转并联双驱运动解耦伺服平台的等轴侧图；

图2是根据图1中所示的抗扭转并联双驱运动解耦伺服平台的俯视图；

图3是根据图1中所示的抗扭转并联双驱运动解耦伺服平台的左视图；

图4是根据图1中所示的抗扭转并联双驱运动解耦伺服平台的右视图。

具体实施方式

下面详细描述本发明的实施例，所述实施例的示例在附图中示出，其中自始至终相同或类似的标号表示相同或类似的元件或具有相同或类似功能的元件。下面通过参考附图描述的实施例是示例性的，旨在用于解释本发明，而不能理解为对本发明的限制。

在本发明的描述中，需要理解的是，术语“中心”、“纵向”、“横向”、“长度”、“宽度”、“厚度”、“上”、“下”、“前”、“后”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“顶”、“底”“内”、“外”、“顺时针”、“逆时针”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本发明和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本发明的限制。

此外，术语“第一”、“第二”仅用于描述目的，而不能理解为指示或暗示相对重要性或者隐含指明所指示的技术特征的数量。由此，限定有“第一”、“第二”的特征可以明示或者隐含地包括一个或者更多个该特征。在本发明的描述中，“多个”的含义是两个或两个以上，除非另有明确具体的限定。

在本发明中，除非另有明确的规定和限定，术语“安装”、“相连”、“连接”、“固定”等术语应做广义理解，例如，可以是固定连接，也可以是可拆卸连接，或一体地连接；可以是机械连接，也可以是电连接；可以是直接相连，也可以通过中间媒介间接相连，可以是两个元件内部的连通。对于本领域的普通技术人员而言，可以根据具体情况理解上述术语在本发明中的具体含义。

在本发明中，除非另有明确的规定和限定，第一特征在第二特征之“上”或之“下”可以包括第一和第二特征直接接触，也可以包括第一和第二特征不是直接接触而是通过它们之间的另外的特征接触。而且，第一特征在第二特征“之上”、“上方”和“上面”包括第一特征在第二特征正上方和斜上方，或仅仅表示第一特征水平高度高于第二特征。第一特征在第二特征“之下”、“下方”和“下面”包括第一特征在第二特征正下方和斜下方，或仅仅表示第一特征水平高度小于第二特征。

下面参照附图详细描述本发明实施例的抗扭转并联双驱运动解耦伺服平台。

如图1至图4所示，根据本发明实施例的抗扭转并联双驱运动解耦伺服平台，包括：基座10、上层直线电机组20、下层直线电机组30、解耦组件70、支撑组件、连接组件和运动平台40。

具体而言，上层直线电机组20安装在基座10上，上层直线电机组20包括上层电机动子组21和上层电机定子组，且所述上层电机定子组可驱动上层电机动子组21沿第一水平方向(即如图1所述的Y向)移动。下层直线电机组30安装在基座10上，下层直线电机组30包括下层电机动子组31和下层电机定子组，且所述下层电机定子组可驱动下层电机动子组31沿第二水平方向(即如图1所述的X向)移动，其中所述第一水平方向和所述第二水平方向相互垂直。解耦组件70分为上层和下层，解耦组件70的上层包括沿第二水平方向延伸的上层滑块41和与上层滑块41相适配的上层解耦滑轨22，上层解耦滑轨22设在上层滑块41和上层电机动子组21之间，解耦组件70的下层包括沿第一水平方向延伸的下层滑块42和与下层滑块42相适配的下层解耦滑轨32，下层解耦滑轨32设在下层滑块42和下层电机动子组31之间。所述支撑组件用于提供第一水平方向和第二水平方向的支撑与导向。所述连接组件设在上层直线电机组20和下层直线电机组30与解耦组件70之间。运动平台40安装在解耦组件70上。

根据本发明实施例的抗扭转并联双驱运动解耦伺服平台，采用并联式结构，第一水平方向和第二水平方向的运动组件可以互换，便于加工及维护，通过基座10上两层交错排布的导轨实现平台解耦，各分列于平台外侧的平行支撑导轨抑制了平台的扭转，并且在工作时更容易保证运动平台在运动时的水平度，采用双驱式结构，有利于驱动力通过运动质量中心从而防止平台在水平方向的扭转，本发明第一传感器和第二传感器直接检测运动平台在第一水平方向和第二水平方向的位移信号从而形成全闭环反馈，从驱动力电信号的输入到运动平台的运动的执行结果在每个运动方向上更加一致，有利于控制平面运动的轨迹轮廓精度。

如图1所示，根据本发明的一个实施例，上层直线电机组20包括沿第二直线方向间隔布置的第一上层直线电机和第二上层直线电机，下层直线电机组30包括沿第一直线方向间隔布置的第一下层电机和第二下层电机。

有利地，所述支撑组件包括，上层支撑导轨25、下层支撑导轨35、上层支撑滑块24及下层支撑滑块34，上层支撑导轨25为位于基座10的第二水平方向的两侧且沿第一水平方向延伸的两条，下层支撑导轨35为位于基座10的第一水平方向的两侧且沿第二水平方向延伸的两条，上层支撑滑块24与上层支撑导轨25相适配，下层支撑滑块34与下层支撑导轨35相适配。

此外，上层支撑滑块24与上层电机动子组21相连，在上层支撑滑块24与上层支撑导轨25的适配下带动运动平台40沿第一水平方向运动，所述下层支撑滑块34与所述下层电机动子组31相连，在下层支撑滑块34与下层支撑导轨35的适配下带动运动平台40沿第二水平方向运动。

根据本发明的一个实施例，上层支撑滑块24和下层支撑滑块34分别与运动平台40台一体形成。

根据本发明的一个实施例，还包括第一位移传感器50和第二位移传感器60，第一位移传感器50安装在解耦组件70的上层滑块41上，第二位移传感器60安装在解耦组件70的下层滑块42上，用于检测运动平台40的移动距离。

此外，第一位移传感器50包括：第一光栅51和第一计数器52。第一光栅51安装在上层解耦滑轨22上。第一计数器52安装在上层滑块41上，以计量第一光栅51在所述第二水平方向上的移动位移。

进一步地，第二位移传感器60包括：第二光栅61和第二计数器62。第二光栅61安装在下层解耦滑轨32上。第二计数器62安装在下层滑块42上，以计量所第二光栅61在所述第一水平方向上的移动位移。

在本发明的一个实施例中，上层电机动子组21和下层电机动子组31分别为永磁体。

在本发明的一些具体示例中，上层直线电机组20和下层直线电机组30的电磁线圈固定安装在基座10上，且上层直线电机组20的电缆线由上层电机动子组21引出，下层直线电机组30的电缆线由下层电机动子组31引出。

下面参照附图详细描述本发明的一个具体实施例的抗扭转并联双驱运动解耦伺服平台。

如图1至图4所示，根据本发明实施例的抗扭转并联双驱运动解耦伺服平台,包括：基座10、上层直线电机组20、下层直线电机组30、上层直线电机动子组21和下层直线电机动子组31以及运动平台40。

具体而言，上层直线电机组20包括两个平行放置的上层直线电机，下层直线电机组30包括两个平行放置的下层直线电机。上层直线电机组20安装在基座10上，且上层直线电机组20的上层电机动子组21可沿第一水平方向(即如图1所示的Y向)移动，下层直线电机组30安装在基座10上，且下层直线电机组30的下层电机动子组31可沿第二水平方向(即如图1所示的X向)移动，第一水平方向和第二水平方向相互垂直。解耦组件70包括两层，解耦组件70的上层形成有上层滑块41，上层滑块41可滑动地安装在上层解耦滑轨22上，当上层直线电机组20驱动上层驱动杆件23，与上层驱动杆件23相连的上层支撑滑块24驱动上层解耦滑轨22使得固联在解耦组件70上的运动平台40沿第一水平方向运动，同时上层解耦滑轨22与上层滑块41无相对滑动，下层解耦滑轨32与下层滑块42相对滑动。解耦组件70的下层形成有下层滑块42，下层滑块42可滑动地安装在下层解耦滑轨32上，当下层直线电机组30驱动下层驱动杆件33，与下层驱动杆件33相连的下层支撑滑块34驱动下层解耦滑轨32使得固联在解耦组件70上的运动平台40沿第二水平方向运动，同时下层解耦滑轨32与下层滑块42无相对滑动，上层解耦滑轨22与上层滑块41相对滑动。

由此，根据本发明实施例的抗扭转双驱并联运动解耦伺服平台，采用并联式结构，第一水平方向和第二水平方向的运动组件可以互换，并且在工作时更容易保证运动平台40在运动时的水平度。通过平台正下方两层交错排布的上层解耦导轨22、下层解耦导轨32实现平台解耦，各分列于平台外侧上层支撑导轨25和下层支撑导轨35的各两个平行支撑导轨抑制了平台的扭转，第一水平方向和第二水平方向的运动组件可以互换，便于加工及维护，并且在工作时更容易保证运动平台40在运动时的水平度，采用双驱的设计使得驱动力经过运动质量中心有利于实现高速高精度控制。从驱动力电信号的输入到运动平台40运动的执行结果在每个运动方向上更加一致，有利于控制平面运动的轨迹轮廓精度。

根据本发明的一个实施例，运动平台40大体形成为矩形，运动平台40与解耦构件70相连，如图2和图3所示，上层直线电机组20下方形成有沿第一水平方向延伸的上层支撑滑块24，下层直线电机组30下方形成有沿第二水平方向延伸的下层支撑滑块34，且上层支撑滑块24和下层支撑滑块34相互垂直排布。上层支撑滑块24为分布在基座10沿第二水平方向的两侧的两个，下层支撑滑块34为分布在基座10沿第一水平方向的两侧的两个。上层支撑导轨24与上层驱动杆23相连，上层支撑滑块24与下层驱动杆33相连，由此，通过上层支撑滑块24和下层支撑滑块34与上层支撑导轨25和上层支撑导轨35的配合，可以实现运动平台40在第一水平方向和第二水平方向上的运动，并且保证了运动平台40在第一水平方向和第二水平方向上的运动轨迹。另外，运动平台40只通过两个解耦直线导轨与上层直线电机组20和下层直线电机组30连接，减少了线缆对于运动平台40的非线性干扰，提高了系统刚度，增加了系统带宽。

需要理解的是，上层滑块41与下层滑块42与运动平台40的连接结构没有特殊限制，优选地，根据本发明的一个实施例，上层滑块41和下层滑块42与运动平台40一体形成。由此，在不影响其装配以及功能的前提下，可以提高运动平台40整体的结构稳定性，并且降低制备成本。

为了检测并记录运动平台40的移动距离，如图3及图1所示，根据本发明的一个实施例，还包括第一位移传感器50和第二位移传感器60，第一位移传感器50和第二位移传感器60分别安装在解耦构件70上的上层滑块41和下层滑块42上以分别检测运动平台40在第一水平方向和第二水平方向上的移动距离。

具体地，第一位移传感器50包括第一光栅51和第一计数器52，第二位移传感器60包括第二光栅61和第二计数器62。

第一计数器52安装在上层滑块41上，以计量第一光栅51在第二水平方向上的移动距离，第二计数器62安装在下层滑块42上以计量第二光栅61在第一水平方向上的移动距离。从而计量运动平台40在第一水平方向和第二水平方向上的移动距离。第一计数器52可以通过螺钉固定安装在上层滑块41上,第二计数器62可以通过螺钉固定安装在下层滑块42，并且其计量结果可以通过信号线输出。

根据本发明的一个实施例，上层直线电机组20和下层直线电机组30为音圈直线电机。优选地，上层直线电机组20的上层电机动子组21为永磁体，下层直线电机组30的下层电机动子组31为永磁体。关于音圈直线电机以及永磁体，对于本领域普通技术人员来说，是可以理解并且容易实现的，因此不做详细描述。

根据本发明的一个实施例，上层直线电机组20和下层直线电机组30的电磁线圈固定安装在基座10上，且上层直线电机组20的电缆线由上层电机动子组21引出，下层直线电机组30的电缆线由下层电机动子组31引出。由此，通过信号线可直接从电磁线圈上引出，通过控制流入电磁线圈的电流，即可完成运动平台40在第一水平方向和第二水平方向上的运动。

下面具体描述根据本发明实施例的抗扭转并联双驱运动解耦伺服平台的工作原理。

当只为上层直线电机组20通电工作时，上层电机动子组21沿第一水平方向(即如图1所述的Y向)运动，并且驱动上层支撑滑块24，上层支撑滑块24带动运动平台40，使运动平台40的下方的下层滑块42与下层解耦滑轨32形成相对运动，即运动平台40沿第一水平方向发生位移。此时，上层滑块41与上层解耦滑轨22没有相对运动，第一位移传感器50测量运动平台40沿第二水平方向发生位移的距离。

当只为下层直线电机组30通电工作时，下层电机动子组31沿第二水平方向(即如图1所述的X向)运动，并且驱动下层支撑滑块34，下层支撑滑块34带动运动平台40，使运动平台40的下方的上层滑块41与上层解耦滑轨22形成相对运动，即运动平台40沿第二水平方向发生位移。此时，下层滑块42与上层解耦滑轨32没有相对运动，第二位移传感器60测量运动平台40沿第一水平方向发生位移的距离。

当上层直线电机组20和下层直线电机组30同时通电工作时，运动平台40在第一水平方向和第二水平方向形成的平面移动，即图1中所示的XY平面内做平面运动。第一位移传感器50和第二位移传感器60分别测量出运动平台40在第二水平方向和第一水平方向两个方向上的位移，并反馈给计算机，通过控制算法计算电机所需的控制电压，从而实现运动平台40的精密运动控制。

在本说明书的描述中，参考术语“一个实施例”、“一些实施例”、“示例”、“具体示例”、或“一些示例”等的描述意指结合该实施例或示例描述的具体特征、结构、材料或者特点包含于本发明的至少一个实施例或示例中。在本说明书中，对上述术语的示意性表述不一定指的是相同的实施例或示例。而且，描述的具体特征、结构、材料或者特点可以在任何的一个或多个实施例或示例中以合适的方式结合。

尽管上面已经示出和描述了本发明的实施例，可以理解的是，上述实施例是示例性的，不能理解为对本发明的限制，本领域的普通技术人员在不脱离本发明的原理和宗旨的情况下在本发明的范围内可以对上述实施例进行变化、修改、替换和变型。

Claims (7)

1.一种抗扭转并联双驱运动解耦伺服平台，其特征在于，包括：

基座；

上层直线电机组，所述上层直线电机组安装在所述基座上，所述上层直线电机组包括上层电机动子组和上层电机定子组，且所述上层电机定子组可驱动所述上层电机动子组沿第一水平方向移动；

下层直线电机组，所述下层直线电机组安装在所述基座上，所述下层直线电机组包括下层电机动子组和下层电机定子组，且所述下层电机定子组可驱动所述下层电机动子组沿第二水平方向移动，其中所述第一水平方向和所述第二水平方向相互垂直；

解耦组件，所述解耦组件分为上层和下层，所述解耦组件的上层包括沿第二水平方向延伸的上层滑块和与所述上层滑块相适配的上层解耦滑轨，所述上层解耦滑轨设在所述上层滑块和所述上层电机动子组之间，所述解耦组件的下层包括沿第一水平方向延伸的下层滑块和与所述下层滑块相适配的下层解耦滑轨，所述下层解耦滑轨设在所述下层滑块和所述下层电机动子组之间；

支撑组件，所述支撑组件用于提供第一水平方向和第二水平方向的支撑与导向；

连接组件：所述连接组件设在所述上层直线电机组和下层直线电机组与所述解耦组件之间；和

运动平台，所述运动平台安装在所述解耦组件上；

所述上层直线电机组包括沿第二直线方向间隔布置的第一上层直线电机和第二上层直线电机，所述下层直线电机组包括沿第一直线方向间隔布置的第一下层电机和第二下层电机；

所述支撑组件包括，上层支撑导轨、下层支撑导轨、上层支撑滑块及下层支撑滑块，所述上层支撑导轨为位于基座的第二水平方向的两侧且沿第一水平方向延伸的两条，所述下层支撑导轨为位于基座的第一水平方向的两侧且沿第二水平方向延伸的两条，所述上层支撑滑块与所述上层支撑导轨相适配，所述下层支撑滑块与所述下层支撑导轨相适配；

所述上层支撑滑块与所述上层电机动子组相连，在上层支撑滑块与所述上层支撑导轨的适配下带动所述运动平台沿第一水平方向运动，所述下层支撑滑块与所述下层电机动子组相连，在所述下层支撑滑块与所述下层支撑导轨的适配下带动所述运动平台沿第二水平方向运动。

2.根据权利要求1所述的抗扭转并联双驱运动解耦伺服平台，其特征在于，所述上层支撑滑块和下层支撑滑块分别与所述运动平台一体形成。

3.根据权利要求1所述的抗扭转并联双驱运动解耦伺服平台，其特征在于，还包括第一位移传感器和第二位移传感器，所述第一位移传感器安装在所述解耦组件的上层滑块上，所述第二位移传感器安装在所述解耦组件的下层滑块上，用于检测所述运动平台的移动距离。

4.根据权利要求3所述的抗扭转并联双驱运动解耦伺服平台，其特征在于，所述第一位移传感器包括：

第一光栅，所述第一光栅安装在上层解耦滑轨上；和

第一计数器，所述第一计数器安装在所述上层滑块上以计量所述第一光栅在所述第一水平方向上的移动位移。

5.根据权利要求3所述的抗扭转并联双驱运动解耦伺服平台，其特征在于，所述第二位移传感器包括：

第二光栅，所述第二光栅安装在下层解耦滑轨上；和

第二计数器，所述第二计数器安装在所述下层滑块上以计量所述第二光栅在所述第二水平方向上的移动位移。

6.根据权利要求1-5中任一项所述的抗扭转并联双驱运动解耦伺服平台，其特征在于，所述上层电机动子组和所述下层电机动子组分别为永磁体。

7.根据权利要求1-5中任一项所述的抗扭转并联双驱运动解耦伺服平台，其特征在于，所述上层直线电机组和所述下层直线电机组的电磁线圈固定安装在所述基座上，且所述上层直线电机组的电缆线由所述上层电机动子组引出，所述下层直线电机组的电缆线由所述下层电机动子组引出。