CN103365520B - 一种无蚀刻痕的电容屏Sensor制作方法 - Google Patents

一种无蚀刻痕的电容屏Sensor制作方法 Download PDF

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Abstract

本发明公开了一种无蚀刻痕的电容屏Sensor制作方法,包括(1)导电薄膜烘烤缩水,(2)电极处导电层蚀刻:采用酸刻或蚀刻膏蚀刻的方式,将导电薄膜需要布设电极区域的导电层蚀刻掉,(3)在已蚀刻区域布设电极,(4)将布设好电极的导电薄膜置于烤箱进行烘烤,(5)导电层中央蚀刻出Pattern。本发明改变了现有制作电容屏Sensor的步骤,将原来的导电薄膜→烘烤缩水→导电层蚀刻形成Pattern→电极制作(涉及烘烤)中,制作电极的步骤提前,Pattern的制作提后,这样Pattern制作后,不再经过高温烘烤,而避免了基材形变与导电层形变的不同,水波纹也随之消除。

Description

一种无蚀刻痕的电容屏Sensor制作方法
技术领域
本发明涉及一种消除Sensor蚀刻痕的方法,尤其涉及一种无蚀刻痕的电容屏Sensor制作方法。
背景技术
近年来,触控面板在各行各业得到了广泛的应用。触摸屏厂商也如雨后春笋一样涌现出来。触摸屏厂商之间的竞争也越来越激烈,作为考核触摸屏外观的一个重要指标,如何消除蚀刻痕成为一个重要的课题。
这种触摸屏的薄膜电容Sensor构成为:透明基材上设有导电层,导电层的四周的导电物质被蚀刻并设以电极,导电层中央导电物质被蚀刻并设以精心制作的图案,也就是pattern。蚀刻痕是指形成Pattern后,蚀刻区域与未蚀刻区域的差异。其形成主要由两个原因:1、Pattern区域的反射率与蚀刻区域的反射率不同;2、Pattern区域的形变与基材的形变不同,导致漫反射的形成,表现为蚀刻痕。为了避免上述问题2,现有技术中,常在导电薄膜上专门制作一层反射层,增加反射层意味着增加成本。然而随着市场竞争日益激烈,成本压力逐渐凸显,低成本的要求随之而来。
发明内容
本发明的目的就在于提供一种解决上述问题,避免Pattern区域的形变与基材的形变不同,导致漫反射的形成,形成蚀刻痕的一种无蚀刻痕的电容屏Sensor制作方法。
为了实现上述目的,本发明采用的技术方案是这样的:一种无蚀刻痕的电容屏Sensor制作方法,包括以下步骤:
(1)导电薄膜烘烤缩水:将导电薄膜置于烤箱进行缩水,使导电薄膜中杂质吸收的水分析出,内部分子稳定,所述导电薄膜包括基材和设置在基材上的导电层;
(2)电极处导电层蚀刻:采用酸刻或蚀刻膏蚀刻的方式,将导电薄膜需要布设电极区域的导电层蚀刻掉;
(3)在已蚀刻区域布设电极;
(4)将布设好电极的导电薄膜置于烤箱进行烘烤,烘干电极材料;
(5)导电层中央蚀刻出Pattern,其中,蚀刻线的宽度小于75μm,蚀刻方式为酸刻、蚀刻膏蚀刻或干刻。
作为优选:所述导电薄膜选用ITO膜,其基材是PET,导电层为ITO,其中烘烤条件为135℃、60分钟。
作为优选:所述步骤(3)中布设电极采用的电极材料为银浆或碳浆。
作为优选:所述步骤(3)中的蚀刻线的宽度为50μm,蚀刻方式干刻。
与现有技术相比,本发明的优点在于:改变了现有制作电容屏Sensor的步骤,将原来的导电薄膜→烘烤缩水→导电层蚀刻形成Pattern→电极制作(涉及烘烤)中,制作电极的步骤提前,Pattern的制作提后,这样Pattern制作后,不再经过高温烘烤,而避免了基材形变与导电层形变的不同,水波纹也随之消除。
附图说明
图1为Sensor的结构示意图;
图2为理论上Pattern区域反射与蚀刻区域蚀刻反射示意图;
图3为现有制作方法后漫反射示意图;
图4为现有技术中添加反射层的导电薄膜结构示意图。
图中:1、基材;2、Pattern;3、电极;4、反射层;5、导电层。
具体实施方式
下面将结合附图对本发明作进一步说明。
实施例1:参见图1到图4,薄膜电容Sensor构成为:透明基材1上设有导电层5,导电层5的四周的导电物质被蚀刻并设以电极3,导电层5中央导电物质被蚀刻并设以pattern,其Pattern区域反射与蚀刻区域蚀刻反射示意图如图2所示。
传统的薄膜式结构的Sensor制程如下所示:
导电薄膜→烘烤缩水→导电层5蚀刻形成Pattern2→电极3制作(涉及烘烤)。
此制作过程中,电极3处的导电层5的蚀刻与Pattern2处导电层5的蚀刻同时完成,但是在电极3制作后,会涉及烘烤制程,这样就会导致导电层5与基材1形变不同,而且导电层5本身蚀刻线宽存在差异,受力不均,蚀刻痕会很明显。
为了达到无蚀刻痕的效果,现有技术中一般会在导电薄膜上专门制作一层反射层4,但增加反射层4意味着增加成本。
而本实施例中,提供了一种无蚀刻痕的电容屏Sensor制作方法,其主要思想是将制作电极的步骤提前,Pattern制作提后,这样Pattern制作后,不再经过高温烘烤,从而避免了基材形变与导电层形变的不同,水波纹也随之消除。制作过程简化如下所示:
导电薄膜→烘烤缩水→电极处导电层蚀刻→电极制作(涉及烘烤)→制作Pattern;
具体步骤如下:
一种无蚀刻痕的电容屏Sensor制作方法,包括以下步骤:
(1)导电薄膜烘烤缩水:将导电薄膜置于烤箱进行缩水,使导电薄膜中杂质吸收的水分析出,内部分子稳定,所述导电薄膜包括基材和设置在基材上的导电层;本实施例中,所述导电薄膜选用ITO膜HNC50-AB150,其基材1是PET,导电层为ITO,其中烘烤条件为135℃、60分钟。
(2)电极处导电层蚀刻:采用酸刻或蚀刻膏蚀刻的方式,将导电薄膜需要布设电极区域的导电层蚀刻掉,本实施例中,采用酸刻方式,酸刻采用的酸液为HCl,摩尔浓度为4.71mol/L。
(3)在已蚀刻区域布设电极,本实施例中,采用的方式为在上述已酸刻好的导电层处丝印银浆,银浆线宽为80±5μm。
(4)将布设好电极的导电薄膜置于烤箱进行烘烤,烘干电极材料,烘烤条件为135℃、45分钟。
(5)导电层中央蚀刻出Pattern,其中,蚀刻线的宽度小于75μm,蚀刻方式为酸刻、蚀刻膏蚀刻或干刻,本实施例中,蚀刻方式采用红外线干刻,干刻线宽50μm。
本发明和增加反射层相比,Pattern处的导电层与电极处的导电层的蚀刻是分开的,虽然这样做成本会有所增加,但是与在导电薄膜增加反射层所增加的成本相比,成本的增加较少。另外,由于将制作电极的步骤提前,Pattern制作提后,这样Pattern制作后,不再经过高温烘烤,从而避免了基材形变与导电层形变的不同,水波纹也随之消除
上述实例仅为本发明的一种可以具体实施的方式之一,并不以此为限,其中,导电薄膜可以是除ITO膜外其他用于电容领域的导电膜。

Claims (4)

1.一种无蚀刻痕的电容屏Sensor制作方法,其特征在于:包括以下步骤:
(1)导电薄膜烘烤缩水:将导电薄膜置于烤箱进行缩水,使导电薄膜中杂质吸收的水分析出,内部分子稳定,所述导电薄膜包括基材和设置在基材上的导电层;
(2)电极处导电层蚀刻:采用酸刻或蚀刻膏蚀刻的方式,将导电薄膜需要布设电极区域的导电层蚀刻掉;
(3)在已蚀刻区域布设电极;
(4)将布设好电极的导电薄膜置于烤箱进行烘烤,烘干电极材料;
(5)导电层中央蚀刻出Pattern,其中,蚀刻线的宽度小于75μm,蚀刻方式为酸刻、蚀刻膏蚀刻或干刻。
2.根据权利要求1所述的一种无蚀刻痕的电容屏Sensor制作方法,其特征在于:所述导电薄膜选用ITO膜,其基材是PET,导电层为ITO,其中烘烤条件为135℃、60分钟。
3.根据权利要求1所述的一种无蚀刻痕的电容屏Sensor制作方法,其特征在于:所述步骤(3)中布设电极采用的电极材料为银浆或碳浆。
4.根据权利要求1所述的一种无蚀刻痕的电容屏Sensor制作方法,其特征在于:所述步骤(3)中的蚀刻线的宽度为50μm,蚀刻方式干刻。
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