CN103328399A - 掺有氧化钆的锆氧化物外覆和/或制作其的方法 - Google Patents

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Abstract

某些示例性实施例涉及在低辐射涂层中包括至少一个红外(IR)反射层的涂覆制品。在某些实施例中，涂层的至少一个层是或包括掺杂有钆和/或钆的氧化物(例如Gd2O3或其他合适的化学计量比)的锆的氧化物(例如ZrO2)。在某些示例性实施例中，提供包括掺杂Gd的锆的氧化物的层作为涂覆制品的最上层或外覆层(例如在基于氮化硅的层之上)可以有利地提高耐用性以及化学和热稳定性。本发明涂覆制品可用于中空玻璃(IG)窗户单元、车窗或其他合适的应用环境中，如单片窗应用、层叠窗户和/或类似物。

Description

掺有氧化钆的锆氧化物外覆和/或制作其的方法
发明的技术领域
本发明的某些示例性实施例涉及一种涂覆制品，其在低辐射涂层中包括如材料为银或类似物的至少一个红外(IR)反射层。在某些实施例中，涂层的至少一个层是或包括锆的氧化物(如ZrOx)，其可掺杂有钆(Gd)和/或钆的氧化物(如GdxOy)。在某些示例性实施例中，提供包括掺杂有Gd的锆的氧化物的层，产生具有较低应力和更高耐用性的涂层。在某些示例性实施例中，当包括掺杂有Gd的锆的氧化物的层被提供为涂覆制品的最上层或外覆层(如在基于氮化硅的层之上)，可以提高涂层的耐用性、化学和热稳定性。因此，在某些示例性实施例中，如果需要的话，可提高涂覆制品的耐用性。本发明的涂覆制品可用于中空玻璃(IG)窗户单元、车窗或其他合适的应用环境中，如单片窗应用、层叠窗户和/或类似物。
发明的实施方式的背景及概要
涂覆制品在本领域中是已知的，用于窗户应用，如中空玻璃(IG)窗户单元、车窗、单片窗和/或类似物。在某些示例性实例中，涂覆制品的设计者经常追求高可见光透射率、低放射率(或低辐射率)和/或低薄层电阻(Rs)的结合。高的可见光透射率使得涂覆制品可被应用于需要该特性的应用中，例如建筑或车辆的窗户的应用中，而低放射率(低辐射)和低薄层电阻的特征允许该涂覆制品阻止显着量的IR辐射，以减少例如车辆或建筑物内部的不希望的加热。因此，通常情况下，在建筑玻璃上使用的用于阻止显着量的IR辐射的涂层，通常需要可见光谱中的高透光率。但是，在频谱的IR和/或近IR部分也需要低透光率和/或高反射率，来减少例如车辆或建筑物内部的不希望的加热。
在某些示例性实施例中，外覆可以被提供在低辐射涂层等之上，来增加其耐用性。但是，在某些情况下，这些外覆在沉积中可能会受到应力，或在被加热后、在热处理、热弯曲、回火等过程中可能会遇到受到应力。在某些情况下，来自这些外覆的应力可能会对整体涂层的耐久性产生负面影响。因此，有时会需要向窗户单元或其他玻璃制品提供一种更耐用的外覆。
鉴于上述，可以理解，在本领域中需要一种层和/或外敷，其可结合进入和/或结合至低辐射层堆之上，以增加涂覆制品的整体耐用性。本发明的某些示例性实施例涉及的涂覆制品是持久的，具有增加的热稳定性，并对光学特性具有减小的影响。某些示例性实施例中，本发明还涉及制作其的方法。
本发明的某些示例性实施例涉及一种涂覆制品，其包括支承其主表面上的多层涂层的基板。所述涂层包括低辐射涂层和在低辐射涂层之上并可能接触低辐射涂层的含有掺杂钆(Gd)的锆的氧化物的层。低辐射涂层远离基板包括：第一介电层，包含银的IR反射层，和第二介电层。其中，所述含有掺杂Gd的锆的氧化物的层含有约1至20％的Gd。
本发明的某些示例性实施例涉及一种涂覆制品，其包括设置在玻璃基板的主表面上的功能涂层。外覆层被设置在功能涂层之上和/或作为功能涂层的最外层。外覆层含有掺杂钆(Gd)的锆的氧化物。
根据某些示例性实施例，涂覆制品与涂层一起进行热处理。根据某些示例性实施例，热处理后涂层具有净的残余压应力，且与在含有掺杂Gd的锆的氧化物的层中缺少Gd的涂层相比具有减小的拉应力。根据某些示例性实施例，在热处理期间，所述外覆层与相比缺少Gd的外覆层相比，经过的相位变化较少。
本发明的某些示例性实施例涉及一种制作包括由玻璃基板支承的涂层的涂覆制品的方法。直接或间接地在玻璃基板上安置第一介电层。在第一介电层之上安置IR反射层。在IR反射层之上安置第二介电层。在第二介电层之上溅射沉积含有掺杂钆(Gd)的锆的氧化物的外覆层，所述外覆层是涂层的最外层。对上有涂层的玻璃基板进行热处理。所述外覆层含有约1至20％的Gd。
本发明的某些示例性实施例涉及一种制造包括由玻璃基板支承的涂层的涂覆制品的方法。提供玻璃基板。直接或间接地在玻璃基板上安置功能层，所述功能层是IR反射层。在第二介电层之上溅射沉积含有掺杂钆(Gd)的锆的氧化物的外覆层，所述外覆层是涂层的最外层并含有约1至20％的Gd。上有涂层的玻璃基板可被进行热处理。与外覆层中缺少Gd的涂层相比，该涂层具有净的残余压应力和减少的拉应力。
本文所描述的特征、方面、优点以及示例性实施例可被组合以实现另外的实施例。
 附图说明
通过结合附图参考以下示例性说明性实施例的详细描述，这些和其他特征和优点可更好地和更完全地理解，其中：
图1是锆的氧化物的不同相位的图表，并示出了加热前后锆的氧化物薄膜/层的结构。
图2是示出涂覆中的和加热后的纯(如未掺杂的)锆的氧化物层中的应力的图表。
图3是根据本发明的某些示例性实施例的上有外覆的低辐射涂层的剖视图。
图4是根据本发明的某些示例性实施例的涂层的剖视图，其包括镍和/或铌基IR反射层并具有掺杂有Gd的锆的氧化物为基础的外覆。
图5是根据本发明的某些示例性实施例的涂层的剖视图，其包括双红外线反射层并具有掺杂有Gd的锆的氧化物为基础的外覆。
图6是根据本发明的某些示例性实施例的涂层的剖视图，其包括掺杂Gd的锆的氧化物为基础的外覆。
发明实施方式的详细描述
下面将特别参照附图，其中，贯穿所有视图，类似部分由类似的参考数字表示。
本发明的某些示例性实施例涉及包括基于掺杂钆的锆的氧化物的外覆的涂覆制品和/或制作其的方法。在某些示例性实施例中，提供一种可回火/可热处理的基于掺杂钆的锆的氧化物的外覆。
如上所述，低辐射涂层及类似物被广泛用于窗户应用中，如中空玻璃(IG)窗户单元、车窗、单片窗和/或类似物。在某些情况下，这些涂层有时很容易受到损坏，例如，由于环境、操作和/或对该涂层进行热处理及类似情况。
此外，涂层的整体耐用性可能会由于涂覆制品可能会在热处理过程中暴露在高温下而受到损害，特别是当甚至涂层中的仅一个层倾向于在加热时产生应力、相位变化或不稳定性时。因此，在一些示例性实施例中，热处理具有若干层的某些涂层也有缺点。 
基于锆的氧化物的层可被用作低辐射涂层和类似物的外覆层。然而，在基于锆的氧化物的膜的热处理过程中，多个相位的存在和相位变化可能会导致该层和整个层堆的耐用性问题，因为例如在基于锆的氧化物的层中有可能会出现体积膨胀和应力。
锆的氧化物可结晶成3种晶型，即立方体、正方体和单斜。在某些情况下，特定相位的形成取决于工序涂覆条件。在常温下，单斜相位大致稳定，正方体相位在1200和2370摄氏度之间大致稳定，而立方体相位在更高温度下大致稳定。多种相位如正方体和立方体可以同时共存。图1示出这些相位和各自的峰值。
图1示出加热前和加热后锆的氧化物膜的结构。根据图1，加热/热处理之前和之后，锆的氧化物膜是透明的。在热处理过的锆的氧化物膜的扫描中，除了30.224度的2θ处正方体相位的一个峰值外，锆的氧化物的单斜相位占据优势。 
“纯”锆的氧化物已被用来作为低辐射层堆的外覆。例如，参见美国专利第7217461号，在此通过引用将其全部公开内容纳入本文。然而，当纯锆的氧化物的外覆层被用于涂层中时，涂层的热稳定性和耐用性可能会下降。 
如上所述，在某些情况下，锆的氧化物膜加热过程中多个相位的同时存在和发生的相位变化，可能会导致可能产生基于“纯”锆的氧化物的层(例如主要包含锆的氧化物的层，如非故意掺杂锆的氧化物的层)的耐用性问题(如耐用性降低)。这种耐用性的降低也可能影响包括基于锆的氧化物的一个层(或多个层)的整体涂层。例如，在某些情况下，因为暴露在通常进行热处理的温度下而产生的体积膨胀和/或应力，层和/或涂层的耐用性可能会受到损害。
此外，使用纯锆的氧化物作为低辐射层堆的层和/或外覆层可能会导致膜在涂覆中受到高压应力。图2示出在都不包含掺杂剂/稳定剂的锆的氧化物膜中热处理之前和之后的应力。在某些示例性实施例中，基于未掺杂锆的氧化物的层中的应力(如不含稳定剂的层)在加热时从压向拉变化。在某些示例性实施例中，该应力可能是残余应力，例如残余压应力、残余拉应力和/或类似力。 
当压应力被施加时，其朝向材料中心活动。因此，当材料受到压应力时，该材料处于压缩状态。相反，当材料受到拉应力时，该材料可遭受拉伸或延长。因此，在某些情况下，如果涂层中的层中存在过大的拉应力时，层和/或涂层可能会发生变形、开裂和/或其他类型的退化。因此，在某些示例性实施例中，涂层具有压应力而不是拉应力是可取的。 
为了克服这类问题，锆的氧化物层可被掺杂钆和/或氧化钆(如Gd和/或GdxOy如Gd2O3)。
令人惊奇地发现，当基于锆的氧化物的层被掺杂钆和/或氧化钆(如Gd和/或GdxOy如Gd2O3)时，锆的氧化物的高温相位的稳定性可被改善。在某些示例性实施例中，基于掺杂钆的锆的氧化物的层可被用作低辐射涂层中的外覆。在某些示例性实施例中，当被掺杂钆时，基于锆的氧化物的层可更稳定，特别是在较高温度下。在其他示例性实施例中，基于掺杂钆的锆的氧化物的层的应力可得到更好地控制。
在某些示例性实施例中，当低辐射层堆的外覆是掺杂钆的锆的氧化物或包括掺杂钆的锆的氧化物时，整体涂层可具有更好的高温耐用性和热稳定性。在某些情况下，与未掺杂的锆的氧化物或者甚至掺杂了其他材料的锆的氧化物时相比，结构和膜表面形态属性可得到有利的改进。这在较高温度下尤其准确。
例如，当涂层经受回火和/或热处理过程时，热可引起涂层结构和形态属性的变化。令人惊奇地发现，在某些示例性实施例中，在较高的温度下，掺杂钆的锆的氧化物更稳定。因此，在某些情况下，掺杂钆的锆的氧化物可以潜在地降低这些结构的变化，且在进一步的情况下，还可提高与涂层的耐用性有关的性能，其性能优于未掺杂的锆的氧化物和掺杂了其他材料的锆的氧化物。 
从前述可见，在某些示例性实施例中，掺杂钆和/或氧化钆(如Gd2O3或其他合适的化学计量比)的锆的氧化物，锆的氧化物的高温相位可被稳定。在某些情况下，当掺杂钆的锆的氧化物被用作涂层的外覆时，特别是用在低辐射涂层中时，掺杂钆的ZrOx层和整体涂层将具有更好的高温耐用性和热稳定性。此外，在某些示例性实施例中，基于掺杂钆的锆的氧化物的层将经受比未掺杂的锆的氧化物和/或掺杂其他材料的锆的氧化物更小的应力。
在某些示例性实施例中，除了基于掺杂钆的锆的氧化物的层具有上述优点，涂层的性能也将会得到改善，而且对于低辐射层堆的光学特性没有显著的不利影响。
在某些示例性实施例中，基于锆的氧化物的层中的钆的量可为以重量计从约1至20％，更优选从约5至17％(wt％)，最优选从约5至15％(wt％)。 
在某些示例性实施例中，金属靶被用于沉积基于掺杂钆的锆的氧化物的层。在这些实施例中，可使用包括锆和钆的靶。在某些示例性实施例中，用于沉积包含钆的ZrOx层的靶可包括ZrOx-GdOx的混合系统。靶可包括以重量计从约1至40％的钆，更优选为从约5至30％的钆，最优选为从约5至15％的钆。
在基于掺杂钆的锆的氧化物的层被从金属靶沉积的示例性实施例中，该层可在有氧情况下沉积。氧的量可在基于锆的靶功率基础上被测量，例如，以锆靶功率的每千瓦的氧气毫升数。在某些示例性实施例中，存在的氧的量为从约0.5至10mL/kW，更优选为约1至6mL/kW，且最优选从约2至4.2mL/kW。当然，可以理解，在不同的实施例中也可利用其他环境。这样的环境可包括如Ar或类似气体的惰性气体，或反应气体和惰性气体混合物(如O2和Ar)。
在其他示例性实施例中，可使用陶瓷靶。在某些情况下，基于掺杂钆的锆的氧化物的层的沉积可在室温下进行，和/或在高温下也可进行。在进一步的实施例中，钆和锆可在氮(如N2)的存在下被沉积。在某些情况下，沉积后和加热时，该氮化物层可被氧化，并可产生掺杂钆的锆的氧化物层。 
在某些示例性实施例中，基于掺杂钆的锆的氧化物的层可被用作外覆。例如，根据本发明的某些示例性实施例，基于掺杂钆的锆的氧化物的层可被用作低辐射涂层的外覆。“低辐射涂层”是具有低放射率并可包括IR反射层的涂层。该IR反射层可包括银，但在某些其他实施例中也可包括其他的或替代性的材料。其他用于IR反射层的材料可为金、镍和/或镍铬、铌、其合金等。
图3-6示出根据本发明的某些示例性实施例的某些合并包含钆的ZrOx层的示例层堆。当然，其他层堆可结合其他的示例性实施例使用。在其他的示例性实施例中，基于掺杂钆的锆的氧化物的层可被用于除低辐射涂层以外的涂层，且还可以被定位在层堆的中间和/或更接近玻璃基板的位置上。此外，在进一步的实施例中，多于一个的基于掺杂钆的锆的氧化物的层可被安置在涂层中。 
图3是根据本发明一个示例性实施例的涂覆制品的侧剖视图。该涂覆制品包括基板1(如约1至12mm的透明、绿色、青铜色或蓝绿色的玻璃基板，更优选为1至10mm，最优选为3至9mm)和直接或间接置于基板1上的涂层(或层系统)30。该涂层(或层系统)30包括：可选的介电层3和/或5，可选的第一下接触层7(与IR反射层9接触)，第一导电及优选金属红外(IR)反射层9，可选的第一上接触层11(与层9接触)，一个或多个可选的介电层13和/或15，和基于掺杂有Gd的锆的氧化物的层25，在本发明某些示例性实施例中，其可或可不被用作涂层30的外覆和/或最外层。
继续描述图3，可选的介电层3可以是或包括以下材料，如氧化锡之类的金属氧化物(其可在本发明不同实施例中的一个或多个步骤中被沉积)。在本发明的不同实施例中，可选的介电层5可以是或包括以下材料，如部分或完全氧化和/或氮化的硅(如Si3N4或任何其他合适的化学计量比)。在某些示例性实施例中，介电层3和/或5的厚度可为约20至60nm，更优选为约25至50nm，最优选为约30到45nm，一个示例性非限制性的厚度为约38nm。 
在某些示例性实施例中，IR反射层9可以是或包括银和/或金之类的材料。但是，本发明并不局限于此，在其他示例性实施例中IR反射层9可以是或包括除银以外的材料(如铌、氮化铌、镍和/或镍合金)。在某些示例性实施例中，IR线反射层9的厚度可以为约4至12nm，更优选为约4至10nm，最优选为约5至8nm，一个示例性非限制性的厚度为约6.7nm。 
可选的第一下接触层7和第一上接触层11可以是或包括镍铬、镍铬的氧化物、氧化锌和/或类似物。在某些示例性实施例中，层7和层9每层厚度可小于约2nm，更优选小于约1.5nm，最优选小于约1.2nm。层7的一个示例性、非限制性的厚度可以为约1.1nm，而层9的一个示例性、非限制性的厚度可以为约0.8nm。在进一步的示例性实施例中，层7的厚度可略大于层9。然而，在其他示例性实施例中，层7和层9的厚度可大致相同，和/或层9比层7厚。 
可选的介电层13可以是或包括以下材料，如部分或完全氧化和/或氮化的硅(如Si3N4或任何其他合适的化学计量比)。可选的介电层15可以是或包括以下材料，如氧化锡之类的金属氧化物(其可在本发明不同实施例中的一个或多个步骤中被沉积)。在某些示例性实施例中，层13和/或层15的厚度可为约20至50nm，更优选为约25到45nm，最优选为约280至380nm，一个示例性非限制性的厚度为约33nm。
在某些示例性实施例中，基于掺杂有Gd的锆的氧化物的层25可以是涂层30的外覆(如最外层)。在某些示例性实施例中，使用的外覆是或包括掺杂有Gd的锆的氧化物，可以产生更耐用、更热稳定并具有良好的光学性能的涂层。本文中“掺杂有Gd”的锆的氧化物是指以任何合适的化学计量比掺杂有钆和/或钆的氧化物(如Gd2O3或其他合适的化学计量比)的锆的氧化物。 
在某些示例性实施例中，介电层3、5、13和15中只有一个可存在于涂层中。在其他示例性实施例中，多于一个的介电层3、5、13和15可存在于涂层中。此外，在某些示例性实施例中采用一个或者不采用接触层。在其他示例实施例中，例如在包括除银以外的材料的IR反射层的实施例中，可在IR反射层上面(例如离玻璃基板更远处)使用隔离层来替代上接触层。 
图4是根据本发明另一示例性实施例的涂覆制品的侧剖视图。除了图4中的IR反射层9是基于不是银的材料外，图4中的涂层和/或层系统40与图3中的涂层和/或层系统30很相似。例如，IR反射层9可以是或包括铌、氮化铌、镍和/或镍的合金，或任何其他合适的IR反射材料。层9最好是导电性的，虽然它不一定在所有实施例中都必须是导电的。此外，图4示出当IR反射层是基于不是银的材料的时候，在此示例中可选的下接触层7和上接触层层9中的一个或两个都可以不设置。在其他示例性实施例中，可选的隔离层14可作为接触层的替代物或除了接触层外还被置于IR反射层9之上并与之相接触。
图5是根据本发明又一示例性实施例的涂覆物品的侧剖视图。图5中涂层和/或层系统50与图3中涂层和/或层系统30在是类似的，区别在于该涂层具有两个IR反射层。因此，除了图3的实施例中存在的层外，涂覆制品还可包括第二下接触层17(与IR反射层19相接触)、第二导电并优选金属IR反射层19、第二上接触层21(与层19相接触)、介电层23和最后的保护介电层25。“接触”层7、11、17和21每个都接触至少一个IR反射层(如基于银、金或类似物的层)。上述层3-25构成位于玻璃或塑料基板1上的低辐射涂层30的另一个示例性实施例。 
可选的第二下接触层17可以是或包括镍铬、镍铬的氧化物、氧化锌和/或类似物。可选的第二上接触层21也可以是或包括镍铬、镍铬的氧化物、氧化锌和/或类似物。可选的介电层23可以是或包括以下材料，如部分或完全氧化和/或氮化的硅(例如Si3N4或任何其他合适的化学计量比)，或包括以下材料，如氧化锡之类的金属氧化物(其可在本发明不同实施例中的一个或多个步骤中被沉积)。在某些示例性实施例中，层23可以包括一个以上的介电层。在某些示例性实施例中，并不是所有的介电层3、5、13、15和23都可存在于涂层中。在其他示例性实施例中，所有的介电层3、5、13、15和23都可存在于涂层中。此外，在某些示例性实施例只有一个接触层或没有接触层。 
图6表示本发明的一个示例性实施例。在图6的涂层和/或层系统60中，只有一个IR反射层9，而层9是或包括银。第一下接触层7和第一上接触层11都是或包括镍铬。存在介电层3和13，并且是或包括氮化硅。外覆25是涂层的最外层，并包括掺杂有Gd的锆的氧化物。 
前述实施例仅为示例，并且各实施例中所描述的所有层不是都必须包含在整体涂层中的。此外，在其他示例性实施例中，可以使用附加层。虽然一些示例性实施例的描述涉及低辐射涂层，但是本发明并不限于此。在其他示例性实施例中，基于掺杂有Gd的锆的氧化物的层可以作为任何功能涂层的外覆使用。在进一步的示例性实施例中，基于掺杂有Gd的锆的氧化物的层可以用作涂层中的一层，例如该层位于至少两个其他层之间并与之相接触。基于掺杂有Gd的锆的氧化物的层不必在所有的示例性实施例中是外覆层和/或最外层。 
在某些示例性实施例中，特别是(但不限于)当基于掺杂有Gd的锆的氧化物的层作为低辐射涂层的外覆(例如最外层)使用时，层25的厚度可以为大约1至15 nm，更优选为约2.5至10nm，最优选为约3至7nm，示例性厚度为5nm。
在某些示例性实施例中涂层系统30和/或层25可以是介电的。 
此外还可提供其他位于所示涂层30之下、之内或之上的涂层。因此，虽然该层系统或涂层是“在基板1之上”或“由基板1支承”(直接或间接)，但其他层可被设置在其间。因此，举例来说，图3中的涂层30可被认为是“在基板1之上”或“由基板1支承”的，虽然有其他层位于层3和基板1之间。此外，在不背离本发明的某些实施例的整体精神的情况下，在某些实施例中所示涂层中的某些层可被除去，也可将其他层添加在本发明的其他实施例中。在某些其他示例性实施例中，涂层30可以基本上由层3、7、9、11、13和25组成，层25可以暴露在空气中(例如在某些示例性实施中层25可以是涂层的最外层)。本文所述的含有钆的ZrOx外覆层可以和低辐射涂层一起使用，例如那些在美国公开号2009/0214880、2009/0205956、2009/0324934、2009/0324967、2010/0075155和2010/0104840，以及美国专利申请序列号12/453125、12/453836、12/662561和12/662562中所披露的，在此通过引用将其全部内容纳入。 
如本文所述的涂覆制品(例如参见图3至6)在某些示例性实施例中可以或不可以进行热处理(例如回火)。术语“热处理”一词在这里的意思是加热到足够的温度以实现含有玻璃的制品的热回火和/或热强化。此定义包括，例如，在温度至少为约550℃烘箱或加热炉中加热涂覆制品，优选为至少580℃左右，更优选为至少600℃左右，更优选为至少620℃左右，最优选为至少650℃左右，经过足够长的时间以达到回火和/或热强化。在某些示例性实施例中这一过程可以为至少2分钟左右，或达到大约10分钟。 
本文所描述的某些或所有的层可以直接或间接地通过溅射或其他合适的成膜技术被置于基板1上，例如燃烧气相沉积法、气相沉积法等。 
虽然发明已经结合当前被认为最实用、最优选的实施例进行了描述，应当理解，本发明不限于所示实施例，相反，应覆盖所附的权利要求书中的精神和范围之内的各种修改和等效安排。

Claims (27)

1.一种涂覆制品，包括：
基板，其支承其主表面上的多层涂层，所述涂层包括低辐射涂层和低辐射涂层之上的含有掺杂钆(Gd)的锆的氧化物的层，
其中，低辐射涂层远离基板包括：
第一介电层，
包含银的IR反射层，和
第二介电层，且
其中，所述含有掺杂Gd的锆的氧化物的层含有约1至20％的Gd。
2.如权利要求1所述的涂覆制品，其中，所述含有掺杂Gd的锆的氧化物的层是涂层的最外层。
3.如前述权利要求中任何一项所述的涂覆制品，其中，所述涂覆制品被进行热处理。
4.如前述权利要求中任何一项所述的涂覆制品，其中，所述含有掺杂Gd的锆的氧化物的层含有约5至17％的Gd。
5.如前述权利要求中任何一项所述的涂覆制品，其中，所述含有掺杂Gd的锆的氧化物的层含有约5至15％的Gd。
6.如前述权利要求中任何一项所述的涂覆制品，其中，所述涂覆制品与涂层一起进行热处理，且热处理后涂层具有净的残余压应力。
7.如前述权利要求中任何一项所述的涂覆制品，其中，所述涂层与在含有掺杂Gd的锆的氧化物的层中缺少Gd的涂层相比具有减小的拉应力。
8.如前述权利要求中任何一项所述的涂覆制品，其中，所述含有掺杂Gd的锆的氧化物的层，具有约1至15nm的厚度。
9.如前述权利要求中任何一项所述的涂覆制品，其中，所述含有掺杂Gd的锆的氧化物的层，具有约2.5至10nm的厚度。
10.如前述权利要求中任何一项所述的涂覆制品，其中，所述含有掺杂Gd的锆的氧化物的层，具有约3至7nm的厚度。
11.一种涂覆制品，包括：
功能涂层，其被提供在玻璃基板的主表面上；
外覆层，其被提供在功能涂层之上和/或作为功能涂层的最外层，其中，所述外覆层含有掺杂钆(Gd)的锆的氧化物。
12.如前述权利要求中任何一项所述的涂覆制品，其中，所述涂覆制品被进行热处理。
13.如权利要求11或12所述的涂覆制品，其中，所述外覆层具有约1至15nm的厚度。
14.如权利要求11、12或13所述的涂覆制品，其中，所述外覆层含有约1至20％的Gd。
15.如权利要求11、12、13或14中任何一项所述的涂覆制品，其中，所述功能涂层包括含有镍和/或镍合金的至少一个IR反射层。
16.如权利要求11、12、13、14或15中任何一项所述的涂覆制品，其中，所述涂覆制品与涂层一起进行热处理，且热处理后涂层具有净的残余压应力。
17.如权利要求11、12、13、14、15或16中任何一项所述的涂覆制品，其中，所述涂层与在含有掺杂Gd的锆的氧化物的层中缺少Gd的涂层相比具有减小的拉应力。
18.一种制造包括由玻璃基板支承的涂层的涂覆制品的方法，所述方法包括：
直接或间接地在玻璃基板上安置第一介电层；
在第一介电层之上安置IR反射层；
在IR反射层之上安置第二介电层；
在第二介电层之上溅射沉积含有掺杂钆(Gd)的锆的氧化物的外覆层，所述外覆层是涂层的最外层；和
对上有涂层的玻璃基板进行热处理，
其中，所述外覆层含有约1至20％的Gd。
19.如权利要求18所述的方法，其中，热处理后，所述涂层具有净的残余压应力。
20.如权利要求18或19中任何一项所述的方法，其中，热处理后，涂层与外覆层中缺少Gd的涂层相比具有降低的拉应力。
21.如权利要求18、19或20中任何一项所述的方法，其中，所述外覆层被从金属靶溅射沉积。
22.如权利要求18、19、20或21中任何一项所述的方法，其中，所述含有掺杂钆(Gd)的锆的氧化物的层在氧的存在下被从金属靶溅射沉积。
23.如权利要求22所述的方法，其中，在沉积过程中存在的氧的量(以每kW Zr靶功率的毫升O2)为约1至6mL/kW。
24.如权利要求23所述的方法，其中，在沉积过程中存在的氧的量(以每kW Zr靶功率的毫升O2)为约2至4.2mL/kW 。
25.如权利要求18、19、20、21、22、23、24或25中任何一项所述的方法，其中，在热处理期间，所述外覆层与相比缺少Gd的外覆层相比，经过的相位变化较少。
26.一种制造包括由玻璃基板支承的涂层的涂覆制品的方法，所述方法包括：
提供玻璃基板；
直接或间接地在玻璃基板上安置功能层，所述功能层是IR反射层；和
在第二介电层之上溅射沉积含有掺杂钆(Gd)的锆的氧化物的外覆层，所述外覆层是涂层的最外层并含有约1至20％的Gd；且
其中，上有涂层的玻璃基板可被进行热处理，
其中，与外覆层中缺少Gd的涂层相比，所述涂层具有净的残余压应力和减少的拉应力。
27.如权利要求1至10中任一项所述的涂覆制品，其中，所述含有掺杂Gd的锆的氧化物的层直接接触低辐射涂层。
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