CN103286698A - 一种抛丸清理机 - Google Patents

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刘畅
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Abstract

本发明涉及一种金属表面处理的抛丸清理机，本发明要解决的技术问题是提供一种工作效率高、抛丸清理更彻底的抛丸清理机。本发明的技术方案是：一种抛丸清理机，包括左抛丸轮、右抛丸轮、抛丸室、螺旋送料器、履带送料机构、左输料管道、右输料管道、工件输送链和输送链电机，所述工件输送链贯穿抛丸室的顶部，所述工件输送链通过输送链电机驱动运行，所述螺旋送料器位于抛丸室的底部，所述履带送料机构为上下结构，位于抛丸室的外部，所述螺旋送料器与履带送料机构的下端相连，所述履带送料机构的上端与左输料管道和右输料管道相连，所述左输料管道和右输料管道分别对应连接左抛丸轮和右抛丸轮，所述左抛丸轮和右抛丸轮分别位于抛丸室中部的两侧。

Description

一种抛丸清理机
技术领域
本发明涉及一种金属表面处理的抛丸清理机。
背景技术
传统抛丸机的作业方式，通常需要人工将工件悬挂至抛丸室内，再进行抛丸，然后由人工将工件取出，整个过程都需要专人守候作业，劳动强度大，工作效率低，并且抛丸机内部的抛丸轮为单面上下布置，这样必然导致工件抛丸清理不彻底，影响工件的质量。
发明内容
本发明要解决的技术问题是提供一种工作效率高、抛丸清理更彻底的抛丸清理机。
为解决上述技术问题，本发明的技术方案是：一种抛丸清理机，包括左抛丸轮、右抛丸轮、抛丸室、螺旋送料器、履带送料机构、左输料管道、右输料管道、工件输送链和输送链电机，所述工件输送链贯穿抛丸室的顶部，所述工件输送链通过输送链电机驱动运行，所述螺旋送料器位于抛丸室的底部，所述履带送料机构为上下结构，位于抛丸室的外部，所述螺旋送料器与履带送料机构的下端相连，所述履带送料机构的上端与左输料管道和右输料管道相连，所述左输料管道和右输料管道分别对应连接左抛丸轮和右抛丸轮，所述左抛丸轮和右抛丸轮分别位于抛丸室中部的两侧。
采用上述技术方案，由于悬挂链连接前后工位，工件通过悬挂链运送至抛丸机内进行抛丸，之后被悬挂链运送到下一个工位，整个过程无需专人操作，并且通过悬挂链与前后工位串联贯通，使整个流程一气呵成。同时，抛丸机内部的抛丸轮由原来的单面上下布置，改良成左右布置，对工件的抛丸清理更加彻底。
附图说明
图1为本发明内部结构示意图；
图2为本发明侧面剖视结构示意图。
具体实施方式
如图所示：一种抛丸清理机，包括左抛丸轮7、右抛丸轮3、抛丸室5、螺旋送料器4、履带送料机构9、左输料管道8、右输料管道6、工件输送链2和输送链电机1，所述工件输送链2贯穿抛丸室5的顶部，所述工件输送链2通过输送链电机1驱动运行，所述螺旋送料器4位于抛丸室5的底部，所述履带送料机构9为上下结构，位于抛丸室5的外部，所述螺旋送料器4与履带送料机构9的下端相连，所述履带送料机构9的上端与左输料管道8和右输料管道6相连，所述左输料管道8和右输料管道6分别对应连接左抛丸轮7和右抛丸轮3，所述左抛丸轮7和右抛丸轮3分别位于抛丸室5中部的两侧。
本发明的工作方法是：工件输送链2将前一工位的工件运送至抛丸室5内，所述工件正好位于左抛丸轮7和右抛丸轮3之间，螺旋送料器4将抛丸室5底部的钢砂运送至履带送料机构9的下端，履带送料机构9再将钢砂提升至履带送料机构9的上端，钢砂由于重心作用向下自由通过左输料管道8和右输料管道6被输送至左抛丸轮7和右抛丸轮3，左抛丸轮7和右抛丸轮3将钢砂抛向工件表面进行抛丸清理。

Claims (1)

1.一种抛丸清理机，其特征在于：包括左抛丸轮、右抛丸轮、抛丸室、螺旋送料器、履带送料机构、左输料管道、右输料管道、工件输送链和输送链电机，所述工件输送链贯穿抛丸室的顶部，所述工件输送链通过输送链电机驱动运行，所述螺旋送料器位于抛丸室的底部，所述履带送料机构为上下结构，位于抛丸室的外部，所述螺旋送料器与履带送料机构的下端相连，所述履带送料机构的上端与左输料管道和右输料管道相连，所述左输料管道和右输料管道分别对应连接左抛丸轮和右抛丸轮，所述左抛丸轮和右抛丸轮分别位于抛丸室中部的两侧。
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PB01 Publication
C10 Entry into substantive examination
SE01 Entry into force of request for substantive examination
C53 Correction of patent of invention or patent application
CB03 Change of inventor or designer information

Inventor after: Tan Qiuhua

Inventor before: Liu Chang

COR Change of bibliographic data

Free format text: CORRECT: INVENTOR; FROM: LIU CHANG TO: TAN QIUHUA

C12 Rejection of a patent application after its publication
RJ01 Rejection of invention patent application after publication

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