CN103266752A - 全自动墙面找平搓光机 - Google Patents
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Abstract
本发明公开了全自动墙面找平搓光机,包括支架和沿支架升降的机体,机体上设有上下两块活动的抹板,上下抹板成一定角度形成一个横“八”字形,两抹板中间设有一块能向前向后伸缩的搓光板,搓光板用曲轴带动,工作时成椭圆形圆周运动;本发明由于搓光板的局部机械挤压以彻底防止空心墙体的出现;由于搓光板的局部机械挤压不仅可以防止空心墙的出现,而且通过搓光板的搓平及上下抹板对墙面的多次抹平,彻底解决目前完全依靠人工来平整墙面所存在的墙面平整度差、劳动强度大、效率低、成本高等缺点,从而可以很好的满足人们对墙面平整度高标准的要求。
Description
技术领域
本发明涉及一种墙面找平搓光机,尤其是一种用于粉刷建筑物墙的找平搓光机,属于建筑机械技术领域。
背景技术
随着社会的发展,室内外墙壁的粉抹越发显得重要,不同环境下对技术的要求也越来越高。在建筑和室内装饰行业中,通过手工操作来完成的粉抹墙体施工,存在下列缺点:不但费时费力、危险性大,而且劳动强度大、效率低下、质量参差不齐,因而付出的成本代价就越大,于是,现在的粉抹墙体施工出现了自动粉墙机,由于它机械化程度高、粉墙效率高、质量高等优点点得到了推广,但是,自动粉墙机虽然具有上述优点,由于抹墙的同时缺乏局部机械挤压而常常导致存在空心墙体的出现,而且抹墙后整面墙需要人工去平整,因此,不仅存在劳动强度大、成本高等问题,而且人工平整的墙面质量差、效率低,很难满足人们对墙面平整度高标准的要求,因此,急需一种能够在抹墙后提供全自动高效找平搓光机械,以解决目前完全依靠人工平整墙面所存在的墙面质量差、效率低等缺点,以满足人们对墙面平整度高标准的要求。
发明内容
本发明的目的是为了解决目前完全依靠人工平整墙面所存在的墙面质量差、效率低等缺点,及由于抹墙的同时缺乏局部机械挤压而常常导致存在空心墙体的出现,提供一种能够局部机械挤压以彻底解决空心墙体的出现以及可以克服依靠人工平整墙面所存在的墙面质量差、效率低等缺点的全自动墙面找平搓光机。
本发明的目的可以通过采取以下技术方案达到:
一种全自动墙面找平搓光机,包括支架1和沿支架1升降的机体2,所述机体2的正面设有与墙面成一定角度的上抹板3、下抹板4,上抹板3和下抹板4中间还设有搓光板5,下抹板4和搓光板5通过同步伸缩机构6与机体2内的电机9连接,电机9通过同步伸缩机构6使得下抹板4和搓光板5在机体2沿支架1上升时同时靠近并紧贴墙面,在机体2沿支架1下降时同时远离墙面,搓光板5同时通过曲轴传动机构7与机体2内的电机9连接,电机9通过曲轴传动机构7使得搓光板5在靠近墙面时沿曲线轨道做平面运动,上抹板3通过伸缩机构8与机体2内的电机9连接,电机9通过伸缩机构8使得上抹板3在机体2沿支架1上升时远离墙面,在机体2沿支架1下降时靠近并紧贴墙面,机体2还设有控制器10,所述控制器10用于控制机体2沿支架上升或下降及上抹板3、下抹板4和搓光板5的动作。
本发明的目的还可以通过以下技术方案达到:
本发明的一种实施方案是:所述上抹板3和下抹板4与墙面形成的角度A大于零度小于九十度。
本发明的一种实施方案是:所述搓光板5在靠近墙面时沿椭圆形轨道做平面运动。
本发明具有如下突出的有益效果:
1、本发明由于搓光板的局部机械挤压以彻底防止空心墙体的出现;
2、本发明由于搓光板的局部机械挤压不仅可以防止空心墙的出现,而且通过搓光板的搓平及上下抹板对墙面的多次抹平,彻底解决目前完全依靠人工来平整墙面所存在的墙面平整度差、劳动强度大、效率低、成本高等缺点,从而可以很好的满足人们对墙面平整度高标准的要求。
附图说明
图1为本发明的正面结构示意图。
图2为本发明处于上升阶段的侧面结构示意图。
图3为本发明处于下降阶段的侧面结构示意图。
其中,1-支架,2-机体,3-上抹板,4-下抹板,5-搓光板,6-下抹板和搓光板同步伸缩机构,7-搓光板曲轴机构,8-上抹板伸缩机构,9-电机,10-控制器,11-墙体。
具体实施方式
具体实施例1:
图1、图2和图3构成了本发明的具体实施例1。
参照图1、图2和图3,本实施例全自动墙面找平搓光机,包括支架1和沿支架1升降的机体2,机体2的正面设有与墙面成A角度的上抹板3、下抹板4,上抹板3和下抹板4中间还设有搓光板5,下抹板4和搓光板5通过同步伸缩机构6与机体2内的电机9连接,电机9通过同步伸缩机构6使得下抹板4和搓光板5在机体2沿支架1上升时同时靠近并紧贴墙面,在机体2沿支架1下降时同时远离墙面,搓光板5同时通过曲轴传动机构7与机体2内的电机9连接,电机9通过曲轴传动机构7使得搓光板5在靠近墙面时沿曲线轨道做平面运动,上抹板3通过伸缩机构8与机体2内的电机9连接,电机9通过伸缩机构8使得上抹板3在机体2沿支架1上升时远离墙面,在机体2沿支架1下降时靠近并紧贴墙面,机体2还设有控制器10,所述控制器10用于控制机体2沿支架上升或下降及上抹板3、下抹板4和搓光板5的动作。
本实施例的工作原理:
需要将抹好的墙找平搓光时,控制器10控制机体2沿着机架1上升,启动电机9通过下抹板4和搓光板5同步伸缩机构6使得下抹板4和搓光板5同步向墙体11靠近,同时下抹板4与墙体成一定大小角度A,同时上抹板通过伸缩机构8远离墙面,搓光板5绕曲轴做曲线运动,如椭圆形曲线运动,这时,搓光板5由于一边绕曲轴做曲线运动,这样搓光板5不断地给墙体做局部机械挤压,从而将墙体进一步抹平和将墙体压实,以防止空心墙的出现,同时下抹板4随着机体2上升紧压墙体11将墙体近一步压光,随着机体2上升到墙体的顶部,这时控制器控制机体2开始下降,启动电机9通过下抹板和搓光板同步伸缩机构6使得下抹板4和搓光板5同步远离墙体11,搓光板5停止做曲线运动,同时上抹板3通过伸缩机构8靠近并与墙体成一定大小角度A,这样随着机体2的不断下降,上抹板3再一次压光墙体,直到机体2下降到最底部完成一个工作循环。
上抹板3和下抹板4与墙体形成的角度应大于零度小于九十度,上抹板3、下抹板4和搓光板的形状和材质不限,上抹板3和下抹板4可以是长条形或其他形状,只要能够压光墙体的形状和材质都可以,搓光板5的运动曲线可以是椭圆也可以是其他曲线,搓光板的形状可以是方形或其他形状。
以上所述,仅为本发明最佳的具体实施例,但本发明的保护范围并不局限于此,任何熟悉本技术领域的技术人员在本发明所揭露的范围内,根据本发明的技术方案及其发明构思加以等同替换或改变,都属于本发明的保护范围。
Claims (3)
1.一种全自动墙面找平搓光机,包括支架(1)和沿支架(1)升降的机体(2),其特征在于:所述机体(2)的正面设有与墙面成一定角度的上抹板(3)、下抹板(4),上抹板(3)和下抹板(4)中间还设有搓光板(5),下抹板(4)和搓光板(5)通过同步伸缩机构(6)与机体(2)内的电机(9)连接,电机(9)通过同步伸缩机构(6)使得下抹板(4)和搓光板(5)在机体(2)沿支架(1)上升时同时靠近并紧贴墙面,在机体(2)沿支架(1)下降时同时远离墙面,搓光板(5)同时通过曲轴传动机构(7)与机体(2)内的电机(9)连接,电机(9)通过曲轴传动机构(7)使得搓光板(5)在靠近墙面时沿曲线轨道做平面运动,上抹板(3)通过伸缩机构(8)与机体(2)内的电机(9)连接,电机(9)通过伸缩机构(8)使得上抹板(3)在机体(2)沿支架(1)上升时远离墙面,在机体(2)沿支架(1)下降时靠近并紧贴墙面,机体(2)还设有控制器(10),所述控制器(10)用于控制机体(2)沿支架上升或下降及上抹板(3)、下抹板(4)和搓光板(5)的动作。
2.根据权利要求1所述的一种全自动墙面找平搓光机,其特征在于:所述上抹板(3)和下抹板(4)与墙面形成的角度A大于零度小于九十度。
3.根据权利要求1所述的一种全自动墙面找平搓光机,其特征在于:所述搓光板(5)在靠近墙面时沿椭圆形轨道做平面运动。
Priority Applications (1)
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---|---|---|---|
CN2013101315216A CN103266752A (zh) | 2013-04-16 | 2013-04-16 | 全自动墙面找平搓光机 |
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CN (1) | CN103266752A (zh) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN103758817A (zh) * | 2014-02-17 | 2014-04-30 | 王建虎 | 一种支撑缸及抹墙机 |
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JPH07310427A (ja) * | 1994-05-17 | 1995-11-28 | Maruei Kikai Seisakusho:Kk | 壁シートを貼着する壁面の下地仕上機 |
GR1004343B (el) * | 2002-12-16 | 2003-09-11 | Δημητριος Νικολαου Καρακαντζος | Μηχανημα τοποθετησης-διευθετησης-λειανσης επιχρισματος |
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CN203271090U (zh) * | 2013-04-16 | 2013-11-06 | 郑武斌 | 全自动墙面找平搓光机 |
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2013
- 2013-04-16 CN CN2013101315216A patent/CN103266752A/zh active Pending
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C06 | Publication | ||
PB01 | Publication | ||
C10 | Entry into substantive examination | ||
SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
C02 | Deemed withdrawal of patent application after publication (patent law 2001) | ||
WD01 | Invention patent application deemed withdrawn after publication |
Application publication date: 20130828 |