CN103266322A - 一种真空沉积高硬滑爽不锈钢镜面装饰板 - Google Patents
一种真空沉积高硬滑爽不锈钢镜面装饰板 Download PDFInfo
- Publication number
- CN103266322A CN103266322A CN201310203326XA CN201310203326A CN103266322A CN 103266322 A CN103266322 A CN 103266322A CN 201310203326X A CN201310203326X A CN 201310203326XA CN 201310203326 A CN201310203326 A CN 201310203326A CN 103266322 A CN103266322 A CN 103266322A
- Authority
- CN
- China
- Prior art keywords
- stainless steel
- moulding machine
- vacuum
- vacuum moulding
- decorative sheet
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 229910000831 Steel Inorganic materials 0.000 title abstract 8
- 239000010959 steel Substances 0.000 title abstract 8
- 238000001771 vacuum deposition Methods 0.000 title abstract 7
- 239000010935 stainless steel Substances 0.000 claims abstract description 62
- 229910001220 stainless steel Inorganic materials 0.000 claims abstract description 62
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 48
- 238000005468 ion implantation Methods 0.000 claims abstract description 24
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 claims abstract description 24
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 23
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 claims abstract description 23
- 239000010703 silicon Substances 0.000 claims abstract description 23
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims abstract description 9
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 claims abstract description 8
- 238000000465 moulding Methods 0.000 claims description 41
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 claims description 34
- 238000005255 carburizing Methods 0.000 claims description 29
- XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N Argon Chemical compound [Ar] XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 24
- CURLTUGMZLYLDI-UHFFFAOYSA-N Carbon dioxide Chemical compound O=C=O CURLTUGMZLYLDI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 20
- 239000007789 gas Substances 0.000 claims description 20
- 239000012528 membrane Substances 0.000 claims description 19
- 238000002347 injection Methods 0.000 claims description 16
- 239000007924 injection Substances 0.000 claims description 16
- 229910052786 argon Inorganic materials 0.000 claims description 12
- 238000010891 electric arc Methods 0.000 claims description 12
- 229910002092 carbon dioxide Inorganic materials 0.000 claims description 10
- 239000001569 carbon dioxide Substances 0.000 claims description 10
- UHUUYVZLXJHWDV-UHFFFAOYSA-N trimethyl(methylsilyloxy)silane Chemical compound C[SiH2]O[Si](C)(C)C UHUUYVZLXJHWDV-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 10
- KRQUFUKTQHISJB-YYADALCUSA-N 2-[(E)-N-[2-(4-chlorophenoxy)propoxy]-C-propylcarbonimidoyl]-3-hydroxy-5-(thian-3-yl)cyclohex-2-en-1-one Chemical compound CCC\C(=N/OCC(C)OC1=CC=C(Cl)C=C1)C1=C(O)CC(CC1=O)C1CCCSC1 KRQUFUKTQHISJB-YYADALCUSA-N 0.000 claims description 8
- 238000007747 plating Methods 0.000 claims description 8
- -1 ion aura siloxanes Chemical class 0.000 claims description 6
- 238000007733 ion plating Methods 0.000 claims description 6
- VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N Chromium Chemical compound [Cr] VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- 239000011651 chromium Substances 0.000 claims description 5
- UQEAIHBTYFGYIE-UHFFFAOYSA-N hexamethyldisiloxane Chemical compound C[Si](C)(C)O[Si](C)(C)C UQEAIHBTYFGYIE-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- CXQXSVUQTKDNFP-UHFFFAOYSA-N octamethyltrisiloxane Chemical compound C[Si](C)(C)O[Si](C)(C)O[Si](C)(C)C CXQXSVUQTKDNFP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- 229910000838 Al alloy Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 229910000599 Cr alloy Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 229910001069 Ti alloy Inorganic materials 0.000 claims description 4
- QCWXUUIWCKQGHC-UHFFFAOYSA-N Zirconium Chemical compound [Zr] QCWXUUIWCKQGHC-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 229910001093 Zr alloy Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 239000004411 aluminium Substances 0.000 claims description 4
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims description 4
- 150000004767 nitrides Chemical group 0.000 claims description 4
- 125000005375 organosiloxane group Chemical group 0.000 claims description 4
- 238000005299 abrasion Methods 0.000 abstract 1
- 238000007790 scraping Methods 0.000 abstract 1
- 230000003678 scratch resistant effect Effects 0.000 description 4
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 3
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NRTOMJZYCJJWKI-UHFFFAOYSA-N Titanium nitride Chemical compound [Ti]#N NRTOMJZYCJJWKI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000005034 decoration Methods 0.000 description 2
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 2
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 2
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000007545 Vickers hardness test Methods 0.000 description 1
- 230000009286 beneficial effect Effects 0.000 description 1
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 1
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 1
- 238000010276 construction Methods 0.000 description 1
- 238000001514 detection method Methods 0.000 description 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 238000003912 environmental pollution Methods 0.000 description 1
- 229910021645 metal ion Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000000034 method Methods 0.000 description 1
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000004033 plastic Substances 0.000 description 1
- 229920003023 plastic Polymers 0.000 description 1
- 238000004381 surface treatment Methods 0.000 description 1
- 238000010998 test method Methods 0.000 description 1
Images
Landscapes
- Physical Vapour Deposition (AREA)
Abstract
本发明提出了一种真空沉积高硬滑爽不锈钢镜面装饰板。其包括不锈钢基板和保护膜，其特征在于：所述保护膜包括依次设置的高温渗碳层、真空氮离子注入硬化层、真空沉积颜色膜层及透明有机硅保护膜层，而所述保护膜附着于不锈钢基板一侧，形成不锈钢装饰板结构。本发明还保护了其的制备方法。本发明的真空沉积高硬滑爽不锈钢镜面装饰板具有更优异的膜层结构和高硬度及低摩擦系数，远远优于现有技术的要求。其表面高硬滑爽，使得其耐磨耐划伤性能更加出色。
Description
技术领域
本发明涉及一种不锈钢装饰面板，尤其是一种真空沉积高硬度且表面光滑的不锈钢镜面装饰板。
背景技术
目前，不锈钢镜面装饰板在橱柜及建筑装修门窗衣柜行业大量使用，但由于不锈钢镜面装饰板为高光镜面，如果表层膜层较软很容易划伤，一般金属表面的摩擦系数较高，表面滑爽度不够，为了提高不锈钢的表面硬度及耐划伤性能，需要在此金属基材上进行表面处理。
授权号为CN 201317137Y的中国实用新型专利公开一种耐磨不锈钢镜面装饰板，该装饰板包括金属不锈钢板，不锈钢板电镀镍层、铬层以及真空沉积氮化钛层或其它金属离子镀层。但是，该实用新型产品在不锈钢镜面装饰板，需要经过水电镀厚金属膜1～100um，而且还要再进行真空沉积颜色膜。水电镀对环境污染严重，而且最外层为真空沉积氮化钛颜色膜，其表面粘手印不易擦除。
因此，现有技术不能满足市场对不锈钢镜面装饰板的需求。
发明内容
本发明的目的在于提供一种结构合理、硬度高，摩擦系数小，表面高硬滑爽，优良耐磨耐划伤性能的不锈钢镜面装饰板。
为实现上述目的， 本发明提供一种真空沉积高硬滑爽不锈钢镜面装饰板，包括不锈钢基板和保护膜，其特征在于：所述保护膜包括依次设置的高温渗碳层、真空氮离子注入硬化层、真空沉积颜色膜层及透明有机硅保护膜层，而所述保护膜附着于不锈钢基板一侧，形成不锈钢装饰板结构。
所述高温渗碳层的厚度为10~50 um；
任选的，所述高温渗碳层为 奥式体不锈钢渗碳层，其渗碳硬化条件为：时间5min～30min,渗碳温度550摄氏度，二氧化碳气体,优选20 min。
所述真空氮离子注入硬化层的厚度为1~5um；
任选的，所述真空氮离子注入的条件是：真空度0.7～1*10-2pa,离子源电压为100～120KV，注入时间1～10min，，优选离子源电压100KV，注入时间2min。
所述真空沉积颜色膜层的厚度为0.1~1 um；
任选的，所述真空沉积颜色膜层为钛、锆、铝及铬的一种或多种合金的氮化物、碳化物或氧化物，真空度0.6*10-2pa，电弧靶镀膜电流60～110A，偏压100～200V，时间2～15min，优选电弧靶镀膜电流70A，偏压120V，时间6min。
所述透明有机硅保护膜层的厚度为0.1~1 um；
任选的，所述透明有机硅保护膜层为有机硅氧烷SiOxCy，其中x为1.0至2.4，y为0.2至2.4，其真空沉积有机硅保护膜条件：通入四甲基二硅氧烷、六甲基二硅氧烷或八甲基三硅氧烷中的任一种气体100～500SCCM，以及氩气100～200SCCM，离子源电压2～4KV，辉光时间１～8min。优选通入四甲基二硅氧烷300SCCM，氩气200SCCM，离子源偏压3KV，时间5min。
本发明还保护所述的真空沉积高硬滑爽不锈钢镜面装饰板的制备方法，包括如下步骤：渗碳硬化：不锈钢基板在连续式高温烘烤炉里，通入二氧化碳气体，获得高温渗碳层；再将不锈钢板装入真空镀膜机，进行真空氮离子注入，获得一层真空氮离子注入硬化层；再抽真空到0.6*10-2pa，进行电弧离子镀膜，获得真空沉积颜色膜层；最后通过离子辉光硅氧烷进行透明有机硅保护膜镀膜获得透明有机硅保护膜层，最终获得真空沉积高硬滑爽不锈钢镜面装饰板。
所述高温渗碳层的厚度为10~50 um；
任选的，所述高温渗碳层为奥式体不锈钢渗碳层，其渗碳硬化条件为：时间5min～30min,渗碳温度550摄氏度，二氧化碳气体，优选20分钟。
所述真空氮离子注入硬化层的厚度为1~5um；
任选的，所述真空氮离子注入的条件是：真空度0.7～1*10-2pa,离子源电压为100～120KV，注入时间1～10min；优选离子源电压100KV，注入时间2min。
所述真空沉积颜色膜层的厚度为0.1~1 um；
任选的，所述真空沉积颜色膜层为钛、锆、铝及铬的一种或多种合金的氮化物、碳化物或氧化物，真空度0.6*10-2pa，电弧靶镀膜电流60～110A，偏压100～200V，时间2～15min；优选电弧靶镀膜电流70A，偏压120V，时间6min。
所述透明有机硅保护膜层的厚度为0.1~1 um；
任选的，所述透明有机硅保护膜层为有机硅氧烷SiOxCy，其中x为1.0至2.4，y为0.2至2.4，其真空沉积有机硅保护膜条件：通入四甲基二硅氧烷、六甲基二硅氧烷或八甲基三硅氧烷中的任一种气体100～500SCCM，以及氩气100～200SCCM，离子源电压2～4KV，辉光时间１～8min; 优选通入四甲基二硅氧烷300SCCM，氩气200SCCM，离子源偏压3KV，时间5min。
本发明的不锈钢镜面装饰板如图1所示，高温渗碳层21、真空氮离子注入硬化层22、真空沉积颜色膜层23及透明有机硅保护膜层24形成保护膜的四层结构，该四层结构的保护膜2附着于不锈钢基板上1后获得高硬度滑爽不锈钢镜面装饰板,使其硬度达到2000HV以上，表面摩擦系数小于0.15，高硬滑爽的表面，使得其耐磨耐划伤性能更加出色。
不锈钢板在连续式高温烘烤炉里，通入二氧化碳气体，于温度550摄氏度渗碳，渗碳时间20分钟，获得10～50um厚的渗碳不锈钢板硬化层；再将不锈钢板装入真空镀膜机，进行真空氮离子注入，注入的最佳条件是：真空度0.7～1*10-2pa,离子源电压为100KV，注入时间2min，通过真空氮离子注入反应获得一层1um～5um的离子处理硬化层；再抽真空到0.6*10-2pa，进行电弧离子镀一层颜色膜，其镀膜最佳条件是：电弧靶镀膜电流70A，偏压120V，时间6min；最后通过离子辉光硅氧烷获得透明有机硅保护膜，其镀膜最佳条件为：通入四甲基二硅氧烷气体400SCCM，以及氩气200SCCM，离子源电压2KV，辉光时间4min。最终获得高硬度滑爽不锈钢镜面装饰板。
本发明的有益效果：
1、具有更优异的膜层结构；
2、高硬度2130HV，低摩擦系数<0.15为0.13。远远优于现有技术的要求。表面高硬滑爽，使得其耐磨耐划伤性能更加出色。
附图说明
图1是本发明不锈钢镜面装饰板结构示意图。
具体实施方式
下面详细描述本发明的实施例，所述实施例的示例在附图中示出，其中自始至终相同或类似的标号表示相同或类似的元件或具有相同或类似功能的元件。下面通过参考附图描述的实施例是示例性的，旨在用于解释本发明，而不能理解为对本发明的限制。
实施例1： 真空沉积高硬滑爽金色不锈钢镜面装饰板的制备
不锈钢板在连续式高温烘烤炉里，通入二氧化碳气体，于温度550摄氏度渗碳，渗碳时间20分钟，获得25um厚的渗碳不锈钢板硬化层；再将不锈钢板装入真空镀膜机，进行真空氮离子注入，注入的条件是：真空度0.7～1*10-2pa,离子源电压为100KV，注入时间2min，通过真空氮离子注入反应获得一层2.5um的离子处理硬化层；再抽真空到0.6*10-2pa，进行电弧离子镀一层颜色膜，其镀膜条件是：电弧靶镀膜电流70A，偏压120V，时间6min，获得一层0.5 um的真空沉积颜色膜层；最后通过离子辉光硅氧烷获得透明有机硅保护膜，其镀膜条件：通入四甲基二硅氧烷气体400SCCM，以及氩气200SCCM，离子源电压2KV，辉光时间5min，获得一层厚度为0.5 um透明有机硅保护膜层。最终获得高硬度滑爽不锈钢镜面装饰板。
实施例2：不锈钢板在连续式高温烘烤炉里，通入二氧化碳气体，于温度550摄氏度渗碳，渗碳时间10分钟，获得10um厚的渗碳不锈钢板硬化层；再将不锈钢板装入真空镀膜机，进行真空氮离子注入，注入的条件是：真空度0.7～1*10-2pa,离子源电压为110KV，注入时间1min，通过真空氮离子注入反应获得一层1um的离子处理硬化层；再抽真空到0.6*10-2pa，进行电弧离子镀一层颜色膜，其镀膜条件是：电弧靶镀膜电流60A，偏压200V，时间2min，获得一层0.1 um的真空沉积颜色膜层；最后通过离子辉光硅氧烷获得透明有机硅保护膜，其镀膜条件：通入六甲基二硅氧烷气体100SCCM，以及氩气150SCCM，离子源电压3KV，辉光时间1min，获得一层厚度为0.1 um透明有机硅保护膜层。最终获得高硬度滑爽不锈钢镜面装饰板。
实施例3：不锈钢板在连续式高温烘烤炉里，通入二氧化碳气体，于温度550摄氏度渗碳，渗碳时间30分钟，获得50um厚的渗碳不锈钢板硬化层；再将不锈钢板装入真空镀膜机，进行真空氮离子注入，注入的条件是：真空度0.7～1*10-2pa,离子源电压为120KV，注入时间10min，通过真空氮离子注入反应获得一层5um的离子处理硬化层；再抽真空到0.6*10-2pa，进行电弧离子镀一层颜色膜，其镀膜条件是：电弧靶镀膜电流110A，偏压100V，时间15min，获得一层0.1 um的真空沉积颜色膜层；最后通过离子辉光硅氧烷获得透明有机硅保护膜，其镀膜条件：通入八甲基三硅氧烷气体500SCCM，以及氩气100SCCM，离子源电压4KV，辉光时间8min，获得一层厚度为1um透明有机硅保护膜层。最终获得高硬度滑爽不锈钢镜面装饰板。
实施例4： 真空沉积高硬滑爽不锈钢镜面装饰板的检测
实施例1的检测结果为：硬度达到2000HV以上，表面摩擦系数<0.15。远远优于现有技术的要求。
依GB/T4340. 1 —1999 《金属维氏硬度试验第1 部分：试验方法》进行维氏硬度检测，其硬度达2130HV。
依GB 10006 塑料薄膜和薄片摩擦系数测定方法，进行表面摩擦系数测量为0.13。
尽管上面已经示出和描述了本发明的实施例，可以理解的是，上述实施例是示例性的，不能理解为对本发明的限制，本领域的普通技术人员在不脱离本发明的原理和宗旨的情况下在本发明的范围内可以对上述实施例进行变化、修改、替换和变型。
Claims (10)
1.一种真空沉积高硬滑爽不锈钢镜面装饰板，包括不锈钢基板和保护膜，其特征在于：所述保护膜包括依次设置的高温渗碳层、真空氮离子注入硬化层、真空沉积颜色膜层及透明有机硅保护膜层，而所述保护膜附着于不锈钢基板一侧，形成不锈钢装饰板结构。
2.权利要求1的一种真空沉积高硬滑爽不锈钢镜面装饰板，其特征在于：所述高温渗碳层的厚度为10~50 um；
任选的，所述高温渗碳层为奥式体不锈钢渗碳层，其渗碳硬化条件为：时间5min～30min,渗碳温度550摄氏度，二氧化碳气体,优选20min 。
3.权利要求1的一种真空沉积高硬滑爽不锈钢镜面装饰板，其特征在于：所述真空氮离子注入硬化层的厚度为1~5um；
任选的，所述真空氮离子注入的条件是：真空度0.7～1*10-2pa,离子源电压为100～120KV，注入时间1～10min，优选离子源电压100KV，注入时间2min。
4.权利要求1的一种真空沉积高硬滑爽不锈钢镜面装饰板，其特征在于：所述真空沉积颜色膜层的厚度为0.1~1 um；
任选的，所述真空沉积颜色膜层为钛、锆、铝及铬的一种或多种合金的氮化物、碳化物或氧化物，真空度0.6*10-2pa，电弧靶镀膜电流60～110A，偏压100～200V，时间2～15min，优选电弧靶镀膜电流70A，偏压120V，时间6min。
5.权利要求1的一种真空沉积高硬滑爽不锈钢镜面装饰板，其特征在于：所述透明有机硅保护膜层的厚度为0.1~1 um；
任选的，所述透明有机硅保护膜层为有机硅氧烷SiOxCy，其中x为1.0至2.4，y为0.2至2.4，其真空沉积有机硅保护膜条件：通入四甲基二硅氧烷、六甲基二硅氧烷或八甲基三硅氧烷中的任一种气体100～500SCCM，以及氩气100～200SCCM，离子源电压2～4KV，辉光时间１～8min, 优选通入四甲基二硅氧烷300SCCM，氩气200SCCM，离子源偏压3KV，时间5min。
6.权利要求1-5任一所述的真空沉积高硬滑爽不锈钢镜面装饰板的制备方法，包括如下步骤：渗碳硬化：不锈钢基板在连续式高温烘烤炉里，通入二氧化碳气体，获得高温渗碳层；再将不锈钢板装入真空镀膜机，进行真空氮离子注入，获得一层真空氮离子注入硬化层；再抽真空到0.6*10-2pa，进行电弧离子镀膜，获得真空沉积颜色膜层；最后通过离子辉光硅氧烷进行透明有机硅保护膜镀膜获得透明有机硅保护膜层，最终获得真空沉积高硬滑爽不锈钢镜面装饰板。
7.权利要求6的真空沉积高硬滑爽不锈钢镜面装饰板的制备方法，其特征在于，所述高温渗碳层的厚度为10~50 um；
任选的，所述高温渗碳层为奥式体不锈钢渗碳层，其渗碳硬化条件为：时间5min～30min,渗碳温度550摄氏度，二氧化碳气体，优选20 min。
8.权利要求6的真空沉积高硬滑爽不锈钢镜面装饰板的制备方法，其特征在于，所述真空氮离子注入硬化层的厚度为1~5um；
任选的，所述真空氮离子注入的条件是：真空度0.7～1*10-2pa,离子源电压为100～120KV，注入时间1～10min；优选离子源电压100KV，注入时间2min。
9.权利要求6的真空沉积高硬滑爽不锈钢镜面装饰板的制备方法，其特征在于，所述真空沉积颜色膜层的厚度为0.1~1 um；
任选的，所述真空沉积颜色膜层为钛、锆、铝及铬的一种或多种合金的氮化物、碳化物或氧化物，真空度0.6*10-2pa，电弧靶镀膜电流60～110A，偏压100～200V，时间2～15min；优选电弧靶镀膜电流70A，偏压120V，时间6min。
10.权利要求6的真空沉积高硬滑爽不锈钢镜面装饰板的制备方法，其特征在于，所述透明有机硅保护膜层的厚度为0.1~1 um；
任选的，所述透明有机硅保护膜层为有机硅氧烷SiOxCy，其中x为1.0至2.4，y为0.2至2.4，其真空沉积有机硅保护膜条件：通入四甲基二硅氧烷、六甲基二硅氧烷或八甲基三硅氧烷中的任一种气体100～500SCCM，以及氩气100～200SCCM，离子源电压2～4KV，辉光时间１～8min; 优选通入四甲基二硅氧烷300SCCM，氩气200SCCM，离子源偏压3KV，时间5min。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CN201310203326.XA CN103266322B (zh) | 2013-05-28 | 2013-05-28 | 一种真空沉积高硬滑爽不锈钢镜面装饰板 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CN201310203326.XA CN103266322B (zh) | 2013-05-28 | 2013-05-28 | 一种真空沉积高硬滑爽不锈钢镜面装饰板 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| CN103266322A true CN103266322A (zh) | 2013-08-28 |
| CN103266322B CN103266322B (zh) | 2015-02-11 |
Family
ID=49009982
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| CN201310203326.XA Active CN103266322B (zh) | 2013-05-28 | 2013-05-28 | 一种真空沉积高硬滑爽不锈钢镜面装饰板 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| CN (1) | CN103266322B (zh) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN108179375A (zh) * | 2018-01-30 | 2018-06-19 | 哈尔滨工程大学 | 合金钢材表面真空渗碳与离子注入复合强化处理方法 |
Citations (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0649625A (ja) * | 1992-07-31 | 1994-02-22 | Pentel Kk | 高硬度材料の製造方法 |
| US5536549A (en) * | 1993-08-02 | 1996-07-16 | Tulip Memory Systems, Inc. | Austenitic stainless steel substrate for magnetic-recording media |
| CN1160774A (zh) * | 1996-01-30 | 1997-10-01 | 大同北产株式会社 | 奥氏体不锈钢之渗碳方法及由其制得之奥氏体不锈钢制品 |
| CN1321203A (zh) * | 1999-09-07 | 2001-11-07 | 西铁城钟表股份有限公司 | 装饰品及其制造方法 |
| US6544406B1 (en) * | 1997-12-08 | 2003-04-08 | Harvest Energy Technology Inc. | Ion implantation of antifoulants for reducing coke deposits |
| JP2008133542A (ja) * | 2007-12-07 | 2008-06-12 | Seiko Epson Corp | 装飾品の表面処理方法および装飾品 |
| CN201317137Y (zh) * | 2008-10-30 | 2009-09-30 | 王敬伦 | 不锈钢耐磨镜面装饰板 |
| CN102560329A (zh) * | 2011-12-23 | 2012-07-11 | 中国矿业大学 | 医用钛合金人工关节柄表面微孔陶瓷制备工艺 |
-
2013
- 2013-05-28 CN CN201310203326.XA patent/CN103266322B/zh active Active
Patent Citations (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0649625A (ja) * | 1992-07-31 | 1994-02-22 | Pentel Kk | 高硬度材料の製造方法 |
| US5536549A (en) * | 1993-08-02 | 1996-07-16 | Tulip Memory Systems, Inc. | Austenitic stainless steel substrate for magnetic-recording media |
| CN1160774A (zh) * | 1996-01-30 | 1997-10-01 | 大同北产株式会社 | 奥氏体不锈钢之渗碳方法及由其制得之奥氏体不锈钢制品 |
| US6544406B1 (en) * | 1997-12-08 | 2003-04-08 | Harvest Energy Technology Inc. | Ion implantation of antifoulants for reducing coke deposits |
| CN1321203A (zh) * | 1999-09-07 | 2001-11-07 | 西铁城钟表股份有限公司 | 装饰品及其制造方法 |
| JP2008133542A (ja) * | 2007-12-07 | 2008-06-12 | Seiko Epson Corp | 装飾品の表面処理方法および装飾品 |
| CN201317137Y (zh) * | 2008-10-30 | 2009-09-30 | 王敬伦 | 不锈钢耐磨镜面装饰板 |
| CN102560329A (zh) * | 2011-12-23 | 2012-07-11 | 中国矿业大学 | 医用钛合金人工关节柄表面微孔陶瓷制备工艺 |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN108179375A (zh) * | 2018-01-30 | 2018-06-19 | 哈尔滨工程大学 | 合金钢材表面真空渗碳与离子注入复合强化处理方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| CN103266322B (zh) | 2015-02-11 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| MX2007004382A (es) | Articulo de fabricacion y proceso para recubriri de forma anodica un sustrato de aluminio con oxidos ceramicos antes del recubrimiento organico o inorganico. | |
| CN103741108B (zh) | 一种CrNx基成分梯度过渡的装饰防护涂层的制备方法 | |
| US20070202344A1 (en) | Multilayer Structure For Polymers | |
| CN102345093B (zh) | 壳体及其制作方法 | |
| CN104325738B (zh) | 一种冷轧圆盘飞剪的硬质涂层及其制备方法 | |
| CA2502124A1 (en) | A transparent high-temperature resistant and protective coating for domestic appliances and method for its deposition | |
| SG171631A1 (en) | A method for the manufacture of a coating | |
| CN103572207B (zh) | 镀膜件及其制备方法 | |
| Zou et al. | Structure, mechanical and tribological properties of diamond-like carbon films on aluminum alloy by arc ion plating | |
| CN108070857A (zh) | 超厚dlc涂层 | |
| MX2014013370A (es) | Componentes automotrices formados de lamina de metal recubierta con un revestimiento no metalico. | |
| TW201236876A (en) | Vacuum depositing articles and method for making same | |
| CN103302916B (zh) | 镀膜件及其制备方法 | |
| CN102843888A (zh) | 壳体及其制备方法 | |
| TW201326426A (zh) | 鍍膜件及其製備方法 | |
| CN102753725A (zh) | 被覆部件及其制造方法 | |
| TW201435103A (zh) | 殼體及其製作方法 | |
| CN103266322B (zh) | 一种真空沉积高硬滑爽不锈钢镜面装饰板 | |
| CN102477531B (zh) | 被覆件及其制造方法 | |
| MY149534A (en) | Appliance with coated transparency | |
| CN104228182B (zh) | 壳体及其制备方法 | |
| TWI565814B (zh) | 鍍膜件及其製備方法 | |
| CN104582333A (zh) | 壳体及其制备方法 | |
| CN106191860A (zh) | 镀膜件及其制作方法 | |
| CN114959575A (zh) | 一种薄膜传感器用绝缘耐磨防护涂层、制备方法及其应用 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| C06 | Publication | ||
| PB01 | Publication | ||
| C10 | Entry into substantive examination | ||
| SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
| C14 | Grant of patent or utility model | ||
| GR01 | Patent grant | ||
| C56 | Change in the name or address of the patentee | ||
| CP01 | Change in the name or title of a patent holder |
Address after: 364300 Longyan City, Fujian province Wuping County Industrial Park D05 Patentee after: FUJIAN GANGHONG METAL TECHNOLOGY Co.,Ltd. Address before: 364300 Longyan City, Fujian province Wuping County Industrial Park D05 Patentee before: FUJIAN GANGHONG METAL TECHNOLOGY CO.,LTD. |
|
| CP03 | Change of name, title or address | ||
| CP03 | Change of name, title or address |
Address after: No. 9 Xinye Road, Wuping County, Longyan City, Fujian Province, 364300 Patentee after: Wangeli Smart Home Co.,Ltd. Country or region after: China Address before: 364300 Wuping Industrial Park, Longyan City, Fujian Province D05 Patentee before: FUJIAN GANGHONG METAL TECHNOLOGY Co.,Ltd. Country or region before: China |