CN103261947A - 平面偏振旋转器 - Google Patents

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CN103261947A CN2011800609480A CN201180060948A CN103261947A CN 103261947 A CN103261947 A CN 103261947A CN 2011800609480 A CN2011800609480 A CN 2011800609480A CN 201180060948 A CN201180060948 A CN 201180060948A CN 103261947 A CN103261947 A CN 103261947A
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Abstract

本发明涉及一种光学偏振旋转器,其包含沿着衬底的平坦表面定位的第一光学波导肋及第二光学波导肋。与所述第一光学波导肋相比,所述第二光学波导肋定位在距离所述表面更远之处。所述光学波导肋的第一区段在所述衬底上方形成垂直堆叠且所述光学波导肋的第二区段在沿着所述平坦表面的方向上侧向偏移。所述第一光学波导肋及所述第二光学波导肋由具有不同整体折射率的材料形成。

Description

平面偏振旋转器
技术领域
本发明涉及偏振旋转器及制作及使用偏振旋转器的方法。
背景技术
本章节介绍可帮助促进更好了解本发明的方面。因此,本章节的叙述欲从这个角度阅读且不得理解为承认哪些属于现有技术或哪些不属于现有技术。
一些光学组件个别地处理一个或两个正交线性偏振分量以执行与数字数据流的光学通信相关的(若干)功能。为实现此处理,偏振分离器可处理所接收的光以分离其两个正交线性偏振分量。此外,为实现此处理,偏振旋转器可旋转此光的经分离的线性偏振分量的一者或两者。举例来说,此光学旋转可对准经分离的偏振分量的两者的偏振。
发明内容
一个实施例提供一种包含光学偏振旋转器的设备,所述光学偏振旋转器具有沿着衬底的平坦表面定位的第一光学波导肋及第二光学波导肋。与第一光学波导肋相比,第二光学波导肋定位在距离表面更远之处。两个光学波导肋的第一区段在衬底上方形成垂直堆叠。两个光学波导肋的第二区段在沿着平坦表面的方向上侧向偏移。第一光学波导肋及第二光学波导肋由具有不同整体折射率的材料形成。
在一些实施例中,上述设备可进一步包含介于第一光学波导肋与第二光学波导肋之间的间隔层。此间隔层可例如由具有与第一光学波导肋及第二光学波导肋的材料不同的整体折射率的材料形成。此间隔层在垂直于表面的方向上可比第一光学波导肋薄。
在上述设备的任一者的一些实施例中,第一光学波导肋可由与衬底的平坦表面的一部分相同的材料形成。
在上述设备的任一者的一些实施例中,光学波导肋的一者可由半导体形成,且光学波导肋的另一者可由电介质形成。
在上述设备的任一者的一些实施例中,光学偏振旋转器可经配置以使所接收的线性偏振光的偏振旋转达至少45度。
在上述设备的任一者的一些实施例中,设备可包含转变区域,其中第一光学波导肋具有侧向于表面的宽度,所述宽度从输入平面光学波导的边界处的较大值单调渐变为第一光学波导肋的第一区段处的较小值。在一些此些设备中,第二光学波导肋具有侧向于表面的宽度,所述宽度从其更接近于输入光学波导的端部处的较小值单调渐变为第二光学波导肋的第一区段处的较大值。
在上述设备的任一者的一些实施例中,设备可包含转变区域,其中第一光学波导肋具有侧向于表面的宽度,所述宽度从第一光学波导肋的第二区段处的较小值单调渐变为输出平面光学波导的边界处的较大值。
在上述设备的任一者的一些实施例中,设备可包含偏振分束器,所述偏振分束器具有经连接以使光透射到第一光学波导肋的第一光输出端及连接到侧向于第一光学波导肋而定位在衬底上方的第一特定输出光学波导的第二光输出端。在一些此些实施例中,设备可进一步包含经由光学偏振旋转器连接到偏振分束器的第一光学输出端的第二特定输出光学波导。设备可经配置以使实质上相同线性偏振的光透射到两个特定输出光学波导。
在上述设备的一些实施例中,设备可包含光学调制器,所述光学调制器具有1×2光学分离器、第一光学波导臂及第二光学波导臂以及2×1光学组合器。各光学波导臂将1×2光学分离器的对应光学输出端连接到2×1光学组合器的对应光学输入端且包含电光调制器,所述电光调制器能够响应其中所接收的电信号而调制传播通过其中的光的相位及/或振幅。在此些实施例中,光学偏振旋转器定位在光学波导臂的一者中。
另一实施例提供一种方法。所述方法包含在沿着衬底的平坦表面定位的第一光学波导肋上方形成光学层。光学层及第一光学波导肋由具有不同整体折射率的材料形成。所述方法还包含蚀刻光学层以形成第二光学波导肋。光学波导肋的第一区段形成相对于平坦表面垂直定向的堆叠。光学波导肋的第二区段沿着平坦表面相对侧向偏移。
在一些实施例中,上述方法可进一步包含在形成光学层之前在第一光学波导肋上方形成间隔层。所述间隔层由具有与光学层及第一光学波导层的材料不同的整体折射率的材料形成。
在上述方法的任一者的一些实施例中,第一光学波导及平坦表面的一部分可由相同光学材料形成。在一些此些实施例中,可执行蚀刻使得光学材料在蚀刻期间用作停止层。
在上述方法的任一者的一些实施例中,光学层与第一光学波导肋的一者可由半导体形成,且光学层与第一光学波导肋的另一者可由电介质形成。
在上述方法的任一者的一些实施例中,第一光学波导肋的第三区段及第四区段可侧向于第二光学波导肋而定位且在侧向上比第一光学波导肋的第一区段及第二区段宽。在此些实施例中,第一光学波导肋的第一区段及第二区段连接在其第三区段与第四区段之间。
另一实施例提供第二方法,其包含:在混合光学波导的区段的第一端部处从平面波导接收线性偏振光;及使所述光传播通过混合光学波导的区段以旋转所述光的线性偏振。混合光学波导的区段包含其中第二光学波导肋垂直定位在第一光学波导肋上方的一个区段且包含其中第二光学波导肋实质上从第一光学波导肋的对应区段侧向偏移的另一区段。第一光学波导肋与第二光学波导肋由具有不同整体折射率的材料形成。
在第二方法的一些实施例中,第一光学波导肋与第二光学波导肋的一者可为半导体肋且第一光学波导肋与第二光学波导肋的另一者可为电介质肋。
在第二方法的上述实施例的任一者中,混合光学波导的区段可包含间隔层,所述间隔层定位在第一光学波导肋与第二光学波导肋之间且由具有与光学波导肋的材料不同的整体折射率的材料制成。
附图说明
图1A及1B是说明光学偏振旋转器的各自俯视图及侧视图;
图2A、2B及2C是分别示意性说明在图1A到1B的侧向平面A、B及C处的图1A到1B的光学偏振旋转器中的第一光学传播模式的光功率分布的演变的截面图;
图3A、3B及3C是示意性说明在图1A到1B的相同各自侧向平面A、B及C处的图1A到1B的光学偏振旋转器中的第二相对正交光传播模式的光功率分布的演变的截面图;
图4A、4B及4C是示意性说明图1A到1B的光学偏振旋转器的特定实施例的各自俯视图、侧视图及斜视图;
图5是示意性说明制造光学偏振旋转器(例如,图4A到4C中所示意性说明的光学偏振旋转器)的方法;
图6是示意性说明例如在图1A到1B及图4A到4C中所示意性说明的光学偏振旋转器中旋转线性偏振光的偏振的方法的流程图;
图7是示意性说明并入有光学偏振旋转器(例如图1A到1B或图4A到4C的光学偏振旋转器的一者)以产生经偏振复用、数据调制光学载波的光学调制器的框图;及
图8是示意性说明经配置以独立于经偏振复用的数据调制光学载波(例如,图7中示意性说明的光学调制器所产生的光学载波)的两个线性偏振分量而解调数据的光学接收器的框图。
具体实施方式
本文中,光学波导指的是导致所接收的光沿着预定义光学引导方向进行传播的光学结构。光学波导不同于仅限制所接收的光在平面内传播的光学结构。本文中,光学波导可指的是未包覆光学波导或包覆光学波导的光学核心。也就是说,词组光学波导涵盖两种类型的结构。
图1A及1B说明形成为光学波导的光学偏振旋转器10。光学波导具有第一转变区域12、偏振旋转区域14及第二转变区域16。第一转变区域12将偏振旋转区域14光学地端部连接到输入光学波导18,例如平面光学波导。偏振旋转区域14旋转以一个或两个实质上线性偏振传播模式接收的光的线性偏振。第二转变区域16将偏振旋转区域14光学地端部连接到输出光学波导20,例如平面光学波导。
第一转变区域12及第二转变区域16是具有各自输入光学波导18及输出光学波导20的光学耦合区域。在一些实施例中,转变区域12、16还相对于衬底22的附近表面垂直或侧向重新分布传播光学模式的光功率密度,(例如)而不旋转线性偏振。第一转变区域12可包含可绝热地在较大垂直区域上方重新分布所述光功率密度的光学波导的渐变部分。第二转变区域16可包含绝热地在较小垂直区域上方重新分布所述所接收的光功率密度的光学波导的渐变部分。
偏振旋转区域14包含光学堆叠及衬底22。光学堆叠包含定位在衬底22上的第一光学波导肋24及与第一光学波导肋24相比定位在距离衬底22的平坦表面更远之处的第二光学波导肋26。第一光学波导肋24及第二光学波导肋26由具有不同整体折射率的材料形成。举例来说,光学波导肋24、26的一者可由半导体制成且光学波导肋26、24的另一者可由电介质制成。或者,第一光学波导肋24及第二光学波导肋26可由不同电介质或不同半导体制成。
在一些实施例中,第一光学波导肋24可为衬底22的整合部分。接着,第一光学波导肋24由与衬底22的最接近平坦表面的部分相同的材料形成。
或者,第一光学波导肋24可由与衬底22的平坦表面的附近部分不同的材料(例如,具有不同折射率的材料)形成。
实际上,第一光学波导肋24可定位在衬底22的附近平坦表面上且与衬底22的附近平坦表面直接接触或可定位在衬底22的附近平坦表面上方而不与所述平坦表面直接接触。
第二光学波导肋26可在第一光学波导肋24(图式中未展示)上且与第一光学波导肋24直接接触或可定位在第一光学波导肋24上方且通过实质上光学透明材料的间隔层28而与第一光学波导肋24分离。此间隔层28通常在垂直方向上比第一光学波导肋24薄。
在偏振旋转区域14中,第一光学波导肋24与第二光学波导肋26的中心轴是沿着发散的侧向方向定向。为此,第一光学波导肋24及第二光学波导肋26的侧向宽度对应区段之间的垂直重叠沿着偏振旋转区域14中的光传播方向而减小,即减小到图1A到1B的右侧。因此,第一光学波导肋24及第二光学波导肋26的一些对应区段可沿着衬底22的平坦表面(即,在偏振旋转区域14的最右侧部分中)侧向偏移。
在偏振旋转区域14中,光学波导肋24、26的各者可具有恒定侧向宽度或可具有非恒定宽度。举例来说,第一光学波导肋24的宽度可沿着偏振旋转区域14中的光传播方向而增大。此外,第二光学波导肋26的宽度可沿着偏振旋转区域14中的光传播方向而减小。
第一光学波导肋24及第二光学波导肋26的垂直宽度在光学偏振旋转器10上通常是实质上恒定的。
图2A、2B及2C示意性说明图1A到1B中的连续侧向平面A、B及C处的第一传播光模式的预期光功率分布。第一传播模式最初为横向磁(TM)传播光模式,其具有初始线性偏振。
在初始侧向平面A处,第一光学波导肋24及第二光学波导肋26的侧向截面相对于衬底22的平坦表面PS垂直对准。在初始侧向平面A处,第一传播光模式(即,TM模式)的光学功率是集中在第一椭圆形区域OR1中,所述第一椭圆形区域OR1的主轴是相对于衬底22的平坦表面PS垂直定向。
在后一侧向平面B处,第一光学波导肋24及第二光学波导肋26的截面的中心实质上侧向偏移,且第一传播光模式的光学功率集中在第二椭圆形区域OR2中。椭圆形区域OR2相对于衬底22的平坦表面PS的法线方向而强烈倾斜,使得椭圆形区域的主轴大致沿着两个光学波导肋24、26的中心之间的对角线定向。
在最终侧向平面C处,第一光学波导肋24与第二光学波导肋26的截面分离达大的侧向间隙,且第一传播光模式的光学功率集中在第三椭圆形区域OR3中,所述第三椭圆形区域OR3的主轴大致平行于衬底22的平坦表面。
因此,光学堆叠的缓慢演变逐渐旋转其中集中第一光传播模式的光学功率的椭圆形区域。在逐渐旋转期间,第一传播光模式的线性偏振随着其中集中所述模式的光学功率的椭圆形区域而旋转。在所说明的实例中,偏振旋转达约π/2弧度,由此将初始TM传播光模式改变为最终横向电(TE)传播光模式。
图3A、3B及3C示意性说明在图1A到1B中的相同各自侧向平面A、B及C处的第二传播光模式的预期光功率分布。第一传播模式最初为TE传播光模式,其具有初始线性偏振且与第一传播光模式相对正交。
在初始侧向平面A处,第一光学波导肋24及第二光学波导肋26的截面是垂直对准,且第二传播光模式(即,TE模式)的光学功率是集中在不同的第一椭圆形区域OR1'中。第一椭圆形区域OR1'具有平行于衬底22的平坦表面水平定向的主轴。
在后一侧向平面B处,第一光学波导肋24及第二光学波导肋26的截面的中心实质上侧向偏移,且第二传播光模式的光学功率是集中在不同的第二椭圆形区域OR2'中。椭圆形区域OR2'相对于衬底22的平坦表面的法线方向强烈倾斜,使得椭圆形区域的主轴大致沿着两个光学波导肋24、26的中心之间的对角线定向。
在最终侧向平面C处,第一光学波导肋24与第二光学波导肋26的截面分离达大的侧向间隙,且第二传播光模式的光学功率是集中在不同的第三椭圆形区域OR3'中,所述第三椭圆形区域OR3'的主轴大致垂直于衬底22的平坦表面而定向。
因此,光学堆叠的缓慢演变还逐渐旋转其中集中第二传播光模式的光学功率的椭圆形区域。在逐渐旋转期间,第二传播光模式的线性偏振随着其中集中所述模式的光学功率的椭圆形区域的主轴而旋转。在所说明的实例中,旋转达约π/2弧度,由此将初始TE传播光模式改变为最终TM传播光模式。
图4A、4B及4C说明图1A到1B中所说明的光学波导10的特定实例10'。光学波导10'具有第一转变区域12、偏振旋转区域14及第二转变区域16。在偏振旋转区域14及第一转变区域12的区段中,光学波导10'包含第一光学波导肋24及第二光学波导肋26。第一光学波导肋24是再次定位为比第二光学波导肋26更靠近衬底22的平坦表面。
在第一转变区域12中,光学波导10'的截面逐渐改变使得传播光模式的侧向光功率分布演变而变为如图2A或3A中所示意性说明的情况。在本实例中,变动涉及光学波导肋24与26两者的侧向变动。变动包含沿着传播方向单调减小第一光学波导肋24的侧向宽度的平稳渐变。发明者相信,此侧向宽度的逐渐减小导致初始TE及TM传播光模式的更多光学功率重新分布到第一光学波导肋24的外部。变动还包含沿着传播方向单调增大第二光学波导肋26的侧向宽度的平稳渐变。发明者还相信,此侧向宽度的逐渐增大导致初始TM传播光模式的更多光学功率从第一光学波导肋24重新分布到第二光学波导肋26。在无第一光学波导肋24及第二光学波导肋26的渐变区段的情况下,发明者相信,从输入光学波导注入的光将可能产生更高模式的更多散射、反射及激发,即在光学偏振旋转器10'中导致更高的插入损耗。
在偏振旋转区域14中,光学波导10'经历平稳变动使得实质上线性偏振的传播模式演变,使得其线性偏振(例如)如图2A到2C及图3A到3C中所示意性说明般旋转。此处,变动涉及第一光学波导肋24与第二光学波导肋26的截面之间的侧向重叠沿着传播方向的平稳减小。此减小是(至少部分)归因于第一光学波导肋24与第二光学波导肋26的轴之间的角度错位。在一些实施例中,减小还可(部分)归因于第二光学波导肋26的侧向宽度沿着传播方向的任选地单调及平稳减小。此处,变动还可能涉及第一光学波导肋24的侧向宽度沿着传播方向的平稳及单调增大。
在第二转变区域16中,光学波导10'的截面逐渐改变使得最终传播光模式的侧向光功率分布将更高效地耦合到输出光学波导20的传播光模式。此处,变动为沿着传播方向单调增大第一光学波导肋24的侧向宽度的平稳渐变。第二光学波导肋26不存在于第二转变区域16中或与第一光学波导肋24偏移达大的侧向距离,(例如)以便不显著影响第二转变区域16中的传播光模式的演变。
在图1A到1B及图4A到4C中示意性说明的光学偏振旋转器10、10'的操作期间,上文描述将光的传播方向描述为从左到右。然而,当光以相反方向传播于其中时,光学偏振旋转器10、10'还起作用。也就是说,光学偏振旋转器10、10'还将旋转从光学波导20(其展示在图1A到1B及图4A到4C的右侧)注入到其的光的线性偏振。
说明性实例
图4A到4C说明可(例如)由在商业上可购得的绝缘体上硅(SOI)衬底且(例如)使用互补金属氧化物半导体工艺制造的光学波导10'的实例。
在本实例中,第一光学波导肋24及第二光学波导肋26与输入光学波导18及输出光学波导20是如此处所述般加以构建。第一光学波导肋24由初始SOI衬底的硅层的一部分形成且具有约200纳米(nm)的厚度。第二光学波导肋26由氮化硅形成且具有约400nm的厚度。输入光学波导18及输出光学波导20由初始SOI衬底的硅层的部分形成且具有约200nm的厚度及约500nm到600nm的侧向宽度。
在本实例中,光学波导10'包含任选间隔层28,任选间隔层28为定位在第一光学波导肋24与第二光学波导肋26之间的约100nm的二氧化硅。
在本实例中,第一转变区域12、偏振旋转区域14及第二转变区域16具有如下文所述的侧向大小及形状。
在第一转变区域12中,第一光学波导肋24及第二光学波导肋26具有侧向对准的中心轴且在区域12的全长上方延伸,所述全长可为例如约50微米(μm)长。第一光学波导肋24在与输入光学波导18的边界处具有约500nm到600nm的初始侧向宽度。其初始侧向宽度(大致匹配输入光学波导18的初始侧向宽度)在偏振旋转区域16的边界处或附近随着距离线性减小到约200nm的值。第二光学波导肋26在与输入光学波导18的边界处或附近具有约100nm或更小的初始侧向宽度,且其侧向宽度在偏振旋转区域16的边界处或附近随着距离线性增大到约200nm的值。
在一些实施例中,在第一转变区域12中,第一光学波导肋24与第二光学波导肋26的一者或两者的侧向宽度在偏振旋转区域14的边界前不远处达到约200nm的值。举例来说,此些侧向宽度可在与边界相距大约100nm或更大的距离处达到200nm值且接着保持恒定直到偏振旋转区域14的边界。
在偏振旋转区域14中,第一光学波导肋24及第二光学波导肋26延伸约区域14的全长(例如,其长度可为250μm到约300μm之间)。第一光学波导肋24在与第一转变区域12的边界处具有约200nm的初始侧向宽度且其侧向宽度在与第二侧向区域16的边界处线性增大到约260nm。第二光学波导肋26在与第一转变区域12的边界处具有约200nm的侧向宽度,且其侧向宽度可为恒定或可在与第二转变区域14的边界处线性减小到约150nm或更小的值。归因于偏振旋转区域14中的第一光学波导肋24与第二光学波导肋26的中心轴之间的发散侧向对准,第二光学波导肋26在与第二转变区域16的边界处或附近具有与第一光学波导肋24的对应部分的约150nm到约200nm的侧向偏移。
在第二转变区域16中,第一光学波导肋24在区域16的全长(其可为例如约50μm)上方延伸。第一光学波导肋24在与偏振旋转区域14的边界处具有约260nm的初始侧向宽度,且其侧向宽度在与输出光学波导20的边界处随着距离线性增大到约500nm到600nm的值。
第二光学波导肋26可或可不突出到第二转变区域16的初始部分中。在第二光学波导肋26突出到第二转变区域16中的情况中,第二光学波导肋26的侧向宽度可继续从约150nm平稳地减小到约100nm或更小。在第二转变区域16中,第一光学波导肋24的逐渐向外渐变不足以大幅度减小其中第一光学波导肋24与第二光学波导肋26之间的侧向偏移。归因于大的初始侧向偏移,当光在第二转变区域16中传播时,第二光学波导肋26未导致光的实质上偏振旋转。
在图1A到1B及图4A到4C的偏振旋转器10、10'的各种实施例中,第一光学波导肋24、24的材料组合物与第二光学波导肋26、26的材料组合物之间的差异在制造期间可为有利的。特定来说,不同材料组合物可实现第一光学波导肋24的材料及/或第一光学波导肋24与第二光学波导肋26之间的任选间隔层28用作为第二光学波导肋26及/或任选间隔层28的各向异性蚀刻的蚀刻停止。此些不同的组合物可支持光学波导肋24、26及间隔层28(若存在)的更简单及/或更精确蚀刻制造。
图5示意性说明用于制造光学偏振旋转器(例如,图1A到1B及/或图4A到4C的光学偏振旋转器10、10')的实例方法30。
方法30包含执行衬底的顶层(例如,SOI衬底的硅层)的蚀刻以形成图4A到4C的第一光学波导肋24(步骤32)。可使用相同蚀刻以形成侧向于第一光学波导肋24的额外硅光学波导(例如,以形成图1A到1B及图4A到4C的输入光学波导18及输出光学波导20)。蚀刻可使用用于掩模控制蚀刻此实例SOI衬底上的硅的任何常规工艺,例如二氧化硅上的硅停止的各向异性干式蚀刻。
方法30可任选地包含在第一光学波导肋24上方及例如还在衬底22的平坦表面的侧向相邻部分及/或侧向相邻光学波导上方形成不同材料层(步骤34)。所述不同材料层可(例如)通过形成光学质量的二氧化硅层的常规沉积工艺来形成。
如果执行步骤34,那么方法30可包含对在步骤34处形成的不同材料层进行化学机械抛光以产生适当间隔层,例如图1A到1B及图4A到4C的间隔层28(步骤36)。所述化学机械抛光(例如)可在步骤32处所形成的第一光学波导肋上产生(例如)具有约100nm或更小的厚度的平坦二氧化硅间隔层。化学机械抛光可使用所属领域的技术人员所知的可有效抛光在步骤34处形成的不同材料层的任何常规工艺。
方法30还包含在第一光学波导肋24的一部分上方及例如在衬底22的平坦表面的一部分上方形成光学层(步骤38)。形成步骤38可涉及例如在任选间隔层上沉积约400nm的氮化硅层且可使用所属领域的技术人员所知的任何常规工艺来沉积氮化硅的光学层。光学层、第一光学波导肋24及间隔层通常由具有不同整体折射率的材料形成。
方法30还包含蚀刻光学层以例如直接在任选间隔层28上或直接在第一光学波导肋24上形成第二光学波导肋26(步骤40)。第二光学波导肋26经形成使得第一光学波导肋24及第二光学波导肋26的第一区段形成相对于衬底22的平坦表面垂直定向的堆叠且使得光学波导肋24、26的第二区段在沿着衬底22的平坦表面的方向上相对侧向偏移。在光学层为氮化硅的实施例中,蚀刻步骤40可使用例如用于蚀刻氮化硅的任何常规工艺。举例来说,蚀刻步骤可包含实质上停止于实例间隔层28的二氧化硅上及/或实质上停止于实例硅第一光学波导肋24的硅上及/或实例衬底22的硅表面上的氮化硅的各向异性干式蚀刻。
方法还可包含在上述步骤40处产生的波导结构上方沉积包覆层,例如二氧化硅层(步骤42)。举例来说,包覆层可具有几微米或更大的厚度。沉积步骤42可例如使用任何常规工艺来沉积厚的二氧化硅光学包覆层。
图6示意性说明用于旋转平面光学偏振旋转器(例如图1A到1B及图4A到4C中所说明的光学偏振旋转器10、10')中的线性偏振分量的偏振的方法50。
方法50包含在偏振旋转器的第一端部处从平面波导(例如,从输入光学波导18)接收光(步骤52)。所接收的光通常是呈线性偏振的模式,例如TE或TM传播光模式或TE与TM传播光模式的大致同相组合。
方法50任选地包含使所接收的光传播通过光学偏振旋转器的第一渐变波导区段使得其光功率的实质部分侧向及/或垂直重新分布在(例如)图1A到1B及图4A到4C的第一转变区域12中(步骤54)。通常执行光功率的侧向及/或垂直重新分布而不实质改变所接收的光的偏振。
方法50包含沿着偏振旋转器的混合光学波导区段传播侧向重新分布的光功率,以例如在图1A到1B及图4A到4C的偏振旋转区域16中旋转光的线性偏振达实质角度,例如大于45度的角度及通常约90度的角度(步骤56)。混合光学波导区段包含其中第二光学波导肋是垂直定位在第一光学波导肋上方(例如,如分别在图1A到1B及图4A到4C的偏振旋转区域14的左侧部分中)的一个区段。混合光学波导区段包含其中第二光学波导肋实质上与第一光学波导肋的对应区段侧向偏移的另一区段,这是因为在偏振旋转器的混合光学波导区段中,两个光学波导肋经引导而沿着发散方向。在混合光学波导区段中,第一光学波导肋及第二光学波导肋由具有不同整体折射率的材料形成。
方法50可包含使光从混合光学波导区段传播通过光学偏振旋转器的最终渐变波导区段,使得光功率的实质部分侧向及/或垂直地重新分布在例如图1A到1B及图4A到4C的第二转变区域16中(步骤58)。可执行光功率的此最终侧向重新分布而不实质改变所透射的光的偏振。此侧向重新分布产生经偏振旋转的光到输出平面波导(例如,图1A到1B及图4A到4C的输出光学波导20)的(若干)传播光模式的更高效耦合。
图7说明支持数字数据的偏振模式复用的光学调制器43。光学调制器43包含1×2光学分离器44、第一光学波导臂45及第二光学波导臂46以及2×1光学组合器47。
1×2光学分离器43从光源接收实质上线性偏振光(例如TE或TM模式激光)并将所接收的光的部分分为引导到两个光学波导臂45、46的两个光束。在图7中,光源是说明为使实例TE模式的光透射到1×2光学分离器44。
各光学波导臂45、46将1×2光学分离器43的对应光学输出端连接到2×1光学组合器47的对应光学输入端。1×2光学分离器43使大致相同线性偏振(即,说明为实例TE传播光模式)的光透射到两个光学波导臂45、46。各光学波导臂45、46包含经电连接以接收电数字数据信号流(即,DATA_1或DATA_2)的电光调制器48_1、48_2。各电光调制器48_1、48_2调制传播通过其中的光的相位及/或振幅,以载送所接收的数字数据信号的所接收流(即,DATA_1或DATA_2)。第二光学波导臂46还包含旋转其中的光的线性偏振的光学偏振旋转器49,例如,图1A到1B或图4A到4C的光学偏振旋转器10、10'。偏振旋转器49旋转线性偏振达例如至少45度且更优选达约90度,使得来自两个光学波导臂45、46的经调制光束在2×1光学组合器47中重新组合时将具有大致正交偏振。来自两个光学波导臂45、46的经调制光束在2×1光学组合器47中组合以偏振复用两个数据调制的光学载波。
在一些其它实施例中,可在光学波导臂46上颠倒光学偏振旋转器49与电光调制器48_2的顺序。
光学调制器43可制造为完全光学整合的装置或部分光学整合的装置。
图8说明经配置以从光学载波解调制数据的光学接收器60的一部分,其中光学载波是用数据流DATA_1及DATA_2进行偏振复用。光学接收器60包含第一光学偏振分束器62、光学偏振旋转器64及第一光学解调制器66以及第二光学解调制器68。光学偏振旋转器64经连接以从光学偏振分束器62的一个光学输出端接收光学信号并且光学地旋转所述所接收光学信号的线性偏振。归因于光学偏振旋转器64的作用,两个光学解调制器接收实质上类似或相同线性偏振(例如,在图8中说明为实例TE传播光模式)的光。因此,虽然各光学解调制器66、68从在光学接收器60的输入端处接收的光的不同线性偏振分量解调制数字数据(例如,数据流DATA_1'及DATA_2'),但是两个光学解调制器66、68处理实质上类似或相同线性偏振的光束。
在一些实施例中,光学偏振旋转器64的光学输出端可直接连接到任选第二光学偏振分束器(未展示),且第二光学偏振分束器的光学输出端的一者接着直接连接到第二光学解调制器68的一个光学输入端。在此些实施例中,第二光学偏振分束器用作为光学偏振旋转器64的清除偏振滤光器。
在光学接收器60中,一个光束的线性偏振的中间转换可用于确保各数据载送光学载波的处理实质上类似。即,可使用中间转换以避免与光学解调制器66、68的介质及波导的光学特性的偏振相依性相关的问题。
实施方式及图式仅说明本发明的原理。因此,应了解,所属领域的技术人员能够设计体现本发明的原理且包含于本发明内的各种配置(虽然本文中未明确描述或展示)。此外,本文所叙述的所有实例原则上既定仅用于教示的目的以辅助理解本发明的原理及由发明者所贡献以增进此项技术的概念,且应解释为不限于此些特定叙述的实例及条件。此外,本文叙述原理、方面及本发明的实施例以及其特定实例的所有陈述既定包含其等效物。

Claims (10)

1.一种设备,其包括:
光学偏振旋转器,其包含沿着衬底的平坦表面定位的第一光学波导肋及第二光学波导肋,与所述第一光学波导肋相比,所述第二光学波导肋定位在距离所述表面更远之处;且
其中所述光学波导肋的第一区段在所述衬底上方形成垂直堆叠且所述光学波导肋的第二区段在沿着所述表面的方向上侧向偏移;且
其中所述第一光学波导肋及所述第二光学波导肋由具有不同整体折射率的材料形成。
2.根据权利要求1所述的设备,其进一步包括间隔层,所述间隔层定位在所述第一光学波导肋与所述第二光学波导肋之间且由具有与所述第一光学波导肋及所述第二光学波导肋的所述材料不同的整体折射率的材料形成。
3.根据权利要求1所述的设备,其中所述光学波导肋的一者由半导体形成且所述光学波导肋的另一者由电介质形成。
4.根据权利要求1所述的设备,其进一步包括其中所述第一光学波导肋具有侧向于所述表面的宽度的转变区域,所述宽度从输入平面光学波导处的较大值单调渐变到第一光学波导肋的所述第一区段处的较小值。
5.根据权利要求1所述的设备,其进一步包括偏振分束器,所述偏振分束器具有经连接以使光透射到所述第一光学波导肋的第一光学输出端且具有连接到输出光学波导的第二光学输出端,所述输出光学波导是侧向于所述第一光学波导肋而定位在所述衬底上方。
6.根据权利要求1所述的设备,其进一步包括:
光学调制器,其具有1×2光学分离器、第一光学波导臂及第二光学波导臂以及2×1光学组合器,各光学波导臂将所述1×2光学分离器的对应光学输出端连接到所述2×1光学组合器的对应光学输入端;且
其中各光学波导臂包含电光调制器,所述电光调制器能够响应于其中所接收的电信号而调制传播通过其中的光的相位及/或振幅;且
其中光学偏振旋转器定位在所述光学波导臂的一者中。
7.一种方法,其包括:
在沿着衬底的平坦表面定位的第一光学波导肋上方形成光学层,所述光学层及所述第一光学波导肋由具有不同整体折射率的材料形成;及
蚀刻所述光学层以形成第二光学波导肋使得所述光学波导肋的第一区段形成相对于所述平坦表面垂直定向的堆叠且使得所述光学波导肋的第二区段沿着所述平坦表面相对侧向偏移。
8.根据权利要求7所述的方法,其中所述第一光学波导肋的第三区段及第四区段是侧向于所述第二光学波导肋而定位且在侧向上比所述第一光学波导肋的所述第一区段及所述第二区段宽,所述第一光学波导肋的所述第一区段及所述第二区段是连接在其所述第三区段与所述第四区段之间。
9.一种方法,其包括:
在混合光学波导的区段的第一端部处从平面波导接收线性偏振光;及
使所述光传播通过所述混合光学波导的所述区段以旋转所述光的线性偏振;且
其中所述混合光学波导的所述区段包含其中第二光学波导肋是垂直定位在第一光学波导肋上方的一个区段且包含其中所述第二光学波导肋是实质上与所述第一光学波导肋的对应区段侧向偏移的另一区段;且
其中所述第一光学波导肋及所述第二光学波导肋由具有不同整体折射率的材料形成。
10.根据权利要求9所述的方法,其中所述混合光学波导的所述区段包含间隔层,所述间隔层定位在所述第一光学波导肋与所述第二光学波导肋之间且由具有与所述光学波导肋的所述材料不同的整体折射率的材料制成。
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